清胶装置的制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种清胶装置，包括：清胶辊轮，用于将基板上的残胶与基板分离；收集辊轮，收集辊轮的轴向与清胶辊轮的轴向平行，收集辊轮用于收集清胶辊轮分离得到的残胶。本发明实施例提供的清胶装置，通过清胶辊轮将基板上的残胶与基板分离，通过收集辊轮将清胶辊轮分离得到的残胶收集起来，在使用过程中，清胶辊轮可以快速有效地将基板上的残胶分离，再通过收集辊轮及时带走清胶辊轮上的残胶，可以有效防止残胶落在基板表面，克服了现有清胶方式通过高温、有机溶剂和硬物直接接触清胶对基板造成的损伤，提高了回收良率。
【专利说明】
清胶装置
技术领域
[0001]本发明涉及清洁技术领域，尤其涉及一种清胶装置。
【背景技术】
[0002]从屏幕的结构上看，可以把屏幕大致分为3个部分，从上到下分别是保护玻璃(CG)、触摸屏(TP)和显示屏(LCM)，而这三部分需要进行贴合，按贴合的方式分为全贴合和框贴两种。框贴又称为口字胶贴合，即简单地以双面胶将触摸屏与显示屏的四边固定，显示屏与触摸屏间存在着空气层。全贴合技术即是以光学胶带或光学透明树脂(0CA或OCR)将显示屏与触摸屏无缝隙完全黏贴在一起。由于全贴合技术显示效果更佳，屏幕隔绝灰尘和水汽，减少噪声干扰，并使机身更薄。
[0003]在CG/TP与LCM贴合过程中，贴合不良或者单一来料的不良，CG/TP或LCM存在回收价值，拆解屏幕后通过回收CG/TP或LCM的良品，可节约成本。目前，业内多采用线切割机或低温冷冻方式拆解，拆解后0CA/0CR残胶不均等地分布于CG/TP或LCM表面，而要进行回收再利用必须将残胶完全清除。
[0004]当前业内的常用残胶清洁方案有两种:
[0005](I)以胶粘胶:使用圆形黏胶头包裹残胶后以上下运动的方式粘除产品表面残胶，该方案黏胶效率一般，14英寸基准单片耗时5?20分钟，清胶后残胶量较多(通常在2%?5%);使用时黏胶头上的残胶易反粘至产品上，作业过程中需频繁中途停止调整黏胶头，作业不便;且该方案只可对应粘性较低偏硬的一小类别残胶，适用面较窄。
[0006](2)溶剂除胶:将带有残胶的CG/TP或LCM直接或间接浸泡在溶剂内，利用有机溶剂的溶解性将胶软化后再铲除，此方案溶剂耗用量大，成本高，安全隐患大，且溶剂浸泡通常只能软化70?90%的残胶，剩余的残胶需进行二次浸泡或用反复擦拭的方式除去，由于作业过程复杂，流程长，回收良率不高，且此方式用于LCM表面残胶的清除上溶剂渗入背光源的几率极大，回收良率难易控制。
【发明内容】
[0007]为解决现有技术残胶清除困难、回收良率低的缺陷，提供一种能够快速清除残胶，回收良率高的清胶装置。
[0008]为此目的，本发明提出了一种清胶装置，包括:
[0009]清胶辊轮，用于将基板上的残胶与所述基板分离；
[0010]收集辊轮，所述收集辊轮的轴向与所述清胶辊轮的轴向平行，所述收集辊轮用于收集所述清胶辊轮分离得到的残胶。
[0011]优选的，所述清胶辊轮的表面材质与所述残胶的粘结力小于所述收集辊轮的表面材质与所述残胶的粘结力。
[0012]优选的，所述清胶辊轮的表面材质包括硅胶；
[0013]所述收集辊轮的表面材质包括不锈钢、有机玻璃或聚乙烯中的至少一种。
[0014]优选的，该清胶装置还包括用于控制所述清胶辊轮转动的第一动力提供机构。
[0015]优选的，所述第一动力提供机构包括与所述清胶辊轮相连的第一电机以及与所述第一电机相连的第一控制器，所述第一控制器通过控制所述第一电机的输出功率以调节所述清胶棍轮的转速。
[0016]优选的，该清胶装置还包括承载结构，所述清胶辊轮以及所述收集辊轮安装在所述承载结构上，且所述收集辊轮位于所述清胶辊轮上方。
[0017]优选的，所述收集辊轮活动安装在所述承载结构上以使所述收集辊轮与所述清胶辊轮的轴间距可变。
[0018]优选的，所述收集辊轮可拆卸地安装在所述承载结构上。
[0019]优选的，该清胶装置还包括载台，所述载台上设置有位于所述承载结构下方的清胶平台，所述清胶平台用于放置所述基板。
[0020]优选的，该清胶装置还包括与所述承载结构相连的第二动力提供机构，所述第二动力提供机构用于控制所述承载结构在竖直方向上的位置以及所述清胶辊轮对所述基板施加的压力。
[0021]优选的，所述第二动力提供机构包括气缸，所述气缸的活塞通过连接杆与所述承载结构相连。
[0022]优选的，该清胶装置还包括载台，所述载台上设置有位于所述承载结构下方的清胶平台，所述清胶平台用于放置所述基板;所述载台上还设置有支撑台，所述第二动力提供机构位安装在所述支撑台上。
[0023]优选的，所述载台上还设置有竖直导轨，所述第二动力提供机构通过控制所述承载结构沿所述竖直导轨移动以调节所述承载结构在竖直方向上的位置。
[0024]优选的，所述承载结构与所述载台之间或者所述承载结构与所述支撑台之间还设置有弹性部件。
[0025]优选的，该清胶装置还包括用于控制所述清胶平台与所述承载结构在水平方向上发生相对运动的第三动力提供机构。
[0026]优选的，所述载台上还设置有位于所述清胶平台下方的水平导轨，所述第三动力提供机构包括第二电机以及与所述第二电机相连的第二控制器，所述第二控制器通过所述第二电机控制所述清胶平台沿所述水平导轨移动。
[0027]优选的，所述清胶平台上还安装有用于固定所述基板的固定部件。
[0028]优选的，所述清胶平台上还安装有加热部件。
[0029]本发明实施例提供的清胶装置，通过清胶辊轮将基板上的残胶与基板分离，通过收集辊轮将清胶辊轮分离得到的残胶收集起来，在使用过程中，清胶辊轮可以快速有效地将基板上的残胶分离，再通过收集辊轮及时带走清胶辊轮上的残胶，可以有效防止残胶落在基板表面，克服了现有清胶方式通过高温、有机溶剂和硬物直接接触清胶对基板造成的损伤，提高了回收良率。本发明实施例提供的技术方案可以实现对触控面板全贴合技术中CG(玻璃)、TP(触摸屏)和LCM(显示屏)表面的0CA/0CR(光学胶带/光学透明树脂)的清除。
【附图说明】
[0030]通过参考附图会更加清楚的理解本发明的特征和优点，附图是示意性的而不应理解为对本发明进行任何限制，在附图中:
[0031 ]图1为本发明实施例提供的一种清胶装置的结构示意图；
[0032]图2为本发明另一实施例提供的一种清胶装置的结构示意图；
[0033]图3为本发明又一实施例提供的一种清胶装置的结构示意图；
[0034]图4为本发明再一实施例提供的一种清胶装置的结构示意图；
[0035]图5-7为本发明又一实施例提供的一种清胶装置的结构示意图；
[0036]图8为本发明实施例提供的清胶辊轮与收集辊轮的安装位置示意图；
[0037]图9为本发明实施例提供的清胶平台的结构示意图。
【具体实施方式】
[0038]下面将结合附图对本发明的实施例进行详细描述。
[0039]如图1所示，本发明实施例提供了一种清胶装置，包括:
[0040]清胶辊轮I，用于将基板3上的残胶4与基板3分离；
[0041 ]收集辊轮2，收集辊轮2的轴向与清胶辊轮I的轴向平行，收集辊轮2用于收集清胶辊轮I分离得到的残胶4。
[0042]本发明实施例提供的清胶装置，通过清胶辊轮将基板上的残胶与基板分离，通过收集辊轮将清胶辊轮分离得到的残胶收集起来，在使用过程中，清胶辊轮可以快速有效地将基板上的残胶分离，再通过收集辊轮及时带走清胶辊轮上的残胶，可以有效防止残胶落在基板表面，克服了现有清胶方式通过高温、有机溶剂和硬物直接接触清胶对基板造成的损伤，提高了回收良率。本发明实施例提供的技术方案可以实现对触控面板全贴合技术中CG(玻璃)、TP(触摸屏)和LCM(显示屏)表面的0CA/0CR(光学胶带/光学透明树脂)的清除。
[0043]在上述实施例的基础上，进一步的，为了保证清胶辊轮I和基板3接触的表面为无胶状态，并确保收集辊轮2将残胶4粘在收集辊轮2的表面，提高清胶效果，清胶辊轮I表面材质与残胶4的粘结力小于收集辊轮2表面材质与残胶4的粘结力。具体的，清胶辊轮I表面的材质与残胶4的粘结力小，可以防止清胶辊轮I表面粘上残胶4。并且，为了方便收集辊轮2将清胶辊轮I分离得到的残胶4收集起来，防止残胶4再落回基板3表面，收集辊轮2表面材质与残胶4的粘结力大，使残胶4可以粘在收集辊轮2的表面。另外，为了防止清胶辊轮I划伤基板3，清胶辊轮I的表面可以采用柔韧性材质，在确保清胶效果的同时又可以避免对产品造成损伤。例如，所述清胶辊轮2的表面材质包括硅胶;所述收集辊轮2的表面材质包括不锈钢、有机玻璃或聚乙烯(PE)中的至少一种。其中，不锈钢可以为SUS304不锈钢，有机玻璃可以为PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)有机玻璃。
[0044]其中，对于本发明上述的清胶装置，收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距可发生变化，在清胶前，收集辊轮2与清胶辊轮I的表面没有残胶，收集辊轮2的表面与清胶辊轮I的表面直接相接触，在清胶过程中，基板3上的残胶粘附至收集辊轮2的表面，收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距发生变化，且收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距随着收集辊轮2表面上残胶的增多越变越大。
[0045]参见图2，图2是本发明实施例提供的一种清胶装置的结构示意图；该清胶装置包括:清胶辊轮1、收集辊轮2和承载结构1 ；清胶辊轮I的轴向与收集辊轮2的轴向平行；
[0046]其中，清胶辊轮I以及收集辊轮2安装在承载结构10上，且收集辊轮2位于清胶辊轮I上方。清胶辊轮I的表面材质与残胶4的粘结力小，收集辊轮2的表面材质与残胶4的粘性大，清胶辊轮I将基板3上的残胶4与基板3进行分离后，收集辊轮2将清胶辊轮I分离得到的残胶4粘在收集辊轮2表面。由于收集辊轮2在收集过程中，不断在表面黏上残胶4，所以收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距会越来越大，为了适应收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距的不断变大，收集辊轮2可以活动安装在承载结构10上以使收集辊轮2与所述清胶辊轮I的轴间距可变。优选的，收集辊轮2的可拆卸地安装在所述承载结构10上，以方便收集辊轮2的更换。需要说明的是，可以通过外力对承载结构10施加压力，使承载结构10上安装的清胶辊轮I接触基板3上的残胶4，通过清胶辊轮I的转动将基板3上的残胶4与基板3分离。
[0047]优选的，该清胶装置还可以包括控制清胶辊轮I转动的第一动力提供机构，该第一动力提供机构可以对清胶棍轮I的转速进行控制，防止转速过快对基板3造成刮伤或者转速过慢清胶不彻底。例如，该第一动力提供机构可以包括与清胶辊轮I相连的第一电机以及与第一电机相连的第一控制器，第一控制器通过控制第一电机的输出功率以调节清胶辊轮I的转速。
[0048]参见图3，图3是本发明另一实施例提供的一种清胶装置的结构示意图；该清胶装置包括:清胶辊轮1、收集辊轮2和承载结构1 ；清胶辊轮I的轴向与收集辊轮2的轴向平行；
[0049]其中，清胶辊轮I以及收集辊轮2安装在承载结构10上，且收集辊轮2位于清胶辊轮I上方。清胶辊轮I的表面材质与残胶4的粘结力小，收集辊轮2的表面材质与残胶4的粘性大，清胶辊轮I将基板3上的残胶4与基板3进行分离后，收集辊轮2将清胶辊轮I分离得到的残胶4粘在收集辊轮2表面。由于收集辊轮2在收集过程中，不断在表面黏上残胶4，所以收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距会越来越大，为了适应收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距的不断变大，收集辊轮2可以活动安装在承载结构10上以使收集辊轮2与所述清胶辊轮I的距离可变。优选的，收集辊轮2的可拆卸地安装在所述承载结构10上，以方便收集辊轮2的更换。
[0050]优选的，该清胶装置还可以包括控制清胶辊轮I转动的第一动力提供机构，该第一动力提供机构可以对清胶棍轮I的转速进行控制，防止转速过快对基板3造成刮伤或者转速过慢清胶不彻底。例如，该第一动力提供机构可以包括与清胶辊轮I相连的第一电机以及与第一电机相连的第一控制器，第一控制器通过控制第一电机的输出功率以调节清胶辊轮I的转速。
[0051]另外，为了减少清胶辊轮I对基板3的损伤，降低刮伤风险，提高基板3的回收良率，该清胶装置还可以包括与承载结构10相连的第二动力提供机构9，第二动力提供机构9通过对承载结构10施加压力以调节清胶辊轮I在竖直方向上的位置以及清胶辊轮I对基板3施加的压力。优选的，第二动力提供机构9包括气缸，气缸的活塞91通过连接杆92与所述承载结构10相连。通过控制往气缸内充入压缩气体的量，可以调节连接杆91作用到承载结构10上的压力，通过控制压力大小，可以调节清胶辊轮I在竖直方向上的位置和清胶辊轮I对基板3的压力。
[0052]参见图4，图4是本发明另一实施例提供的一种清胶装置的结构示意图；该清胶装置包括:清胶辊轮1、收集辊轮2和承载结构1 ；清胶辊轮I的轴向与收集辊轮2的轴向平行；
[0053]其中，清胶辊轮I以及收集辊轮2安装在承载结构10上，且收集辊轮2位于清胶辊轮I上方。清胶辊轮I的表面材质与残胶4的粘结力小，收集辊轮2的表面材质与残胶4的粘性大，清胶辊轮I将基板3上的残胶4与基板3进行分离后，收集辊轮2将清胶辊轮I分离得到的残胶4粘在收集辊轮2表面。由于收集辊轮2在收集过程中，不断在表面黏上残胶4，所以收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距会越来越大，为了适应收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距的不断变大，收集辊轮2可以活动安装在承载结构10上以使收集辊轮2与所述清胶辊轮I的距离可变。优选的，收集辊轮2的可拆卸地安装在所述承载结构10上，以方便收集辊轮2的更换。
[0054]优选的，该清胶装置还可以包括控制清胶辊轮I转动的第一动力提供机构，该第一动力提供机构可以对清胶棍轮I的转速进行控制，防止转速过快对基板3造成刮伤或者转速过慢清胶不彻底。例如，该第一动力提供机构可以包括与清胶辊轮I相连的第一电机以及与第一电机相连的第一控制器，第一控制器通过控制第一电机的输出功率以调节清胶辊轮I的转速。
[0055]另外，为了减少清胶辊轮I对基板3的损伤，降低刮伤风险，提高基板3的回收良率，该清胶装置还可以包括与承载结构10相连的第二动力提供机构9，第二动力提供机构9通过对承载结构10施加压力以调节清胶辊轮I在竖直方向上的位置以及清胶辊轮I对基板3施加的压力。优选的，第二动力提供机构9包括气缸，气缸的活塞91通过连接杆92与所述承载结构10相连。通过控制往气缸内充入压缩气体的量，可以调节连接杆91作用到承载结构10上的压力，通过控制压力大小，可以调节清胶辊轮I在竖直方向上的位置和清胶辊轮I对基板3的压力。
[0056]另外，该清胶装置还可以包括载台8，在载台8上还可以设置有位于承载结构10下方的清胶平台5，该清胶平台5用于放置基板3。其中，载台8上还设置有支撑台12，第二动力提供机构9安装在支撑台12上。优选的，载台8上还设置有竖直导轨11，所述第二动力提供机构9通过控制所述承载结构10沿所述竖直导轨11移动以调节所述承载结构10在竖直方向上的位置。具体的，在承载结构10的两端设有通孔，竖直导轨11穿过该通孔与承载结构10连接，使承载结构10沿竖直导轨11上下移动。另外，在承载结构10和载台8之间还可以设置弹性部件6，举例来说，该弹性部件6可以是常见的弹簧，且弹簧可以套设在竖直导轨11外。通过弹性部件6连接承载结构10与载台8，弹性部件6不仅对承载结构10起到了支撑作用，在承载机构10没有受到第二动力机构的压力时，通过弹簧的弹力，还可以使承载结构10恢复至初始位置，便于准确调节承载结构10在竖直方向上的位置以及清胶辊轮I对所述基板3施加的压力。
[0057]其中，在载台8上还可以设置位于清胶平台5下方的水平导轨7，清胶平台5可以在外力作用下，沿着水平导轨7在水平方向移动。通过驱动清胶平台5，可以使清胶辊轮I将基板3上的残胶4与基板3进行分尚。
[0058]此外，根据需要，载台8上还可以设置显示装置81和电源开关82，显示装置81可以实时显示清胶辊轮I的转速和清胶平台5的移动速度等，优选的，该显示装置81可以为触控显示装置，用户可以通过该触控显示装置输入控制参数和控制命令，以实现对清胶工序的控制，达到人机交互的作用。
[0059]本发明实施例提供的清胶装置，通过第一动力提供机构可以对清胶辊轮的转速进行自动控制，通过第二动力提供机构可以调节清胶辊轮作用在基板上的压力，一次可清除98%以上的残胶，极大地提高了清胶率，同时又可节省人力及提高回收良率，能够有效降低生产成本，实现基板的再次利用。
[0060]参见图5-9，图5-9是本发明另一实施例提供的一种清胶装置的结构示意图，该清胶装置可以包括多个清胶模块，多个清胶模块可以位于同一个载台8上的，其中，每个清胶模块可以包括:清胶辊轮1、控制清胶辊轮I转动的第一动力提供机构、收集辊轮2、用于放置基板3的清胶平台5、承载结构10、与承载结构10相连的第二动力提供机构9。如图8所示，清胶辊轮I的轴向与收集辊轮2的轴向平行，在收集辊轮2的表面没有黏上残胶时，清胶辊轮I和收集辊轮2相接触。清胶辊轮I以及收集辊轮2安装在承载结构10上，且收集辊轮2位于清胶辊轮I上方。根据需要，如图5所示，每个清胶模块可以采用独立的电源开关82单独控制。
[0061]其中，清胶辊轮I将基板3上的残胶4与基板3进行分离后，收集辊轮2将清胶辊轮I分离得到的残胶4粘在收集辊轮2表面。由于收集辊轮2在残胶4收集过程中，不断在表面黏上残胶4，所以收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距会越来越大，为了适应收集辊轮2与清胶辊轮I的轴间距的不断变大，收集辊轮2可以活动安装在承载结构10上以使收集辊轮2与所述清胶辊轮I的距离可变。优选的，收集辊轮2可拆卸地安装在承载结构10上，在收集辊轮2表面的残胶4较多时，可以方便收集辊轮2的更换。
[0062]例如，收集辊轮2在自身重力的作用下与清胶辊轮I相接触，收集辊轮2可在清胶辊轮I的带动下与收集辊轮2的转动方向相反，如图1所示，清胶辊轮I逆时针方向旋转，将基板3表面的残胶4与基板3分离，收集辊轮2顺时针旋转，将清胶辊轮I分离得到的残胶4粘在收集辊轮2表面。由于清胶辊轮I的表面材质与残胶4的粘结力小，收集辊轮2的表面材质与残胶4的粘性大，残胶4不与清胶辊轮I粘结，而与收集辊轮2粘结，顺利地将清胶辊轮I分离得到的残胶4粘结在收集辊轮2的表面。进一步的，清胶辊轮I的表面材质采用软性材质，可以降低清胶辊轮I对基板3的刮伤风险。
[0063]其中，该第一动力提供机构可以对清胶辊轮I的转速进行控制，防止速度过快对基板3造成刮伤或者转速过慢清胶不彻底。例如，该第一动力提供机构可以包括与清胶辊轮I相连的第一电机以及与第一电机相连的第一控制器，第一控制器通过控制第一电机的输出功率以调节清胶辊轮I的转速。
[0064]例如，第二动力提供机构9可以包括气缸，气缸的活塞通过连接杆92与所述承载结构10相连。通过控制往气缸内充入压缩气体的量，可以改变气体作用在活塞上的压力，从而改变连接杆92作用到承载结构10上的压力，通过控制压力大小，可以调节清胶辊轮I在竖直方向上的位置和清胶辊轮I对基板3的压力。进一步的，第二动力提供机构9还可以包括限位部件93，限位部件93用于限制清胶辊轮I下降的最低位置，起到一个过压保护的作用，防止清胶辊轮I作用在基板3上的压力过大，而损伤基板3。第二动力提供机构9通过对承载结构10施加压力以调节清胶辊轮I在竖直方向上的位置以及清胶辊轮I对基板3施加的压力，减少了清胶辊轮I对基板3的损伤，降低了刮伤风险，提高了基板3的回收良率。
[0065]如图5-7所示，该清胶装置还包括了位于载台8上，用于支撑第二动力提供机构9的支撑台12，第二动力提供机构9安装在支撑台12上。在承载结构10和支撑台12之间还可以设置弹性部件6，举例来说，该弹性部件6可以是常见的弹簧。通过弹性部件6连接承载结构10与支撑台12，在承载机构10没有受到第二动力机构的压力时，通过弹簧的弹力，可以使承载结构10恢复至初始位置，便于准确调节承载结构10在竖直方向上的位置以及清胶辊轮I对所述基板3施加的压力。
[0066]另外，该清胶装置还可以包括控制清胶平台5与承载结构10在水平方向上发生相对运动的第三动力提供机构;通过第三动力提供机构可以调节清胶平台5的位置和移动速度。如图9所示，具体的，载台8上还设置有位于清胶平台5下方的水平导轨7，其中，第三动力提供机构包括第二电机以及与第二电机相连的第二控制器，第二控制器通过第二电机控制清胶平台5沿水平导轨7移动。另外，还可以在载台8上设置位置传感器，通过位置传感器确定清胶平台5的位置，以便第三动力提供机构对清胶平台5的移动速度进行控制，使清胶更加彻底。
[0067]为了防止在清胶过程中，清胶平台5上的基板3发生移动，造成清胶不彻底或刮伤基板3，在清胶平台5上还可以安装有用于固定基板3的固定部件。例如，该固定部件可以包括真空吸附装置，通过将基板3吸附在清胶平台5的表面，来防止基板3在清胶平台5上发生移动。另外，还可以在清胶平台5上还可以设置软性硅胶层，通过软性硅胶层不但可以起到缓冲作用和增加摩擦力，还可以防止清胶平台5与基板3直接接触造成基板3刮伤。另外，为了防止基板3下表面不平，从而固定不牢，不容易被吸附，该固定部件还可以包括磁性结构51，例如，如图9所示，清胶平台5的表面均匀设置了一些磁性结构51，可以通过磁性结构51吸附基板3上的金属部件从而达到固定基板3的目的。进一步的，该固定部件还可以包括设置在该清胶平台5边缘位置的阻挡结构52，通过该阻挡结构52可以进一步防止基板3与清胶平台5发生相对移动，另外，为适用于各种不同厚度的基板3，阻挡结构52的高度可调。优选的，清胶平台5上还可以安装有加热部件。通过加热部件对清胶平台5上的基板3加热，可以软化基板3上的残胶4，通过改变加热的温度和时间，调整出粘性适宜的残胶4，以便于清胶棍轮I将残胶4与基板3分尚。
[0068]通过上述清胶装置可在30秒至60秒的时间内完成I件14英寸大小基板表面残胶的清除。由于本发明实施例提供的清胶装置既可以可对清胶平台的移动速度进行调节，又可以对清胶辊轮的转速进行调节，还能够调节清胶辊轮作用在基板上的压力，所以本发明实施例提供的清胶装置对产品表面的残胶分布无要求，可兼容各种残胶分布的表面，残胶清除率达到98%以上，且对基板的损伤小。改善触控面板全贴合不良品的重工回收流程(低温冷冻/线切割拆解分离—CG、TP或LCM表面清胶—擦拭清洁—外观功能检查)的CG、TP或LCM表面清胶环节，以提高回收良率。
[0069]虽然结合附图描述了本发明的实施方式，但是本领域技术人员可以在不脱离本发明的精神和范围的情况下做出各种修改和变型，这样的修改和变型均落入由所附权利要求所限定的范围之内。
【主权项】
1.一种清胶装置，其特征在于，包括: 清胶辊轮，用于将基板上的残胶与所述基板分离； 收集辊轮，所述收集辊轮的轴向与所述清胶辊轮的轴向平行，所述收集辊轮用于收集所述清胶辊轮分离得到的残胶。2.根据权利要求1所述的清胶装置，其特征在于，所述清胶辊轮的表面材质与所述残胶的粘结力小于所述收集辊轮的表面材质与所述残胶的粘结力。3.根据权利要求2所述的清胶装置，其特征在于， 所述清胶辊轮的表面材质包括硅胶； 所述收集辊轮的表面材质包括不锈钢、有机玻璃或聚乙烯中的至少一种。4.根据权利要求1所述的清胶装置，其特征在于，还包括用于控制所述清胶辊轮转动的第一动力提供机构。5.根据权利要求4所述的清胶装置，其特征在于，所述第一动力提供机构包括与所述清胶辊轮相连的第一电机以及与所述第一电机相连的第一控制器，所述第一控制器通过控制所述第一电机的输出功率以调节所述清胶辊轮的转速。6.根据权利要求1所述的清胶装置，其特征在于，还包括承载结构，所述清胶辊轮以及所述收集辊轮安装在所述承载结构上，且所述收集辊轮位于所述清胶辊轮上方。7.根据权利要求6所述的清胶装置，其特征在于，所述收集辊轮活动安装在所述承载结构上以使所述收集辊轮与所述清胶辊轮的轴间距可变。8.根据权利要求6所述的清胶装置，其特征在于，所述收集辊轮可拆卸地安装在所述承载结构上。9.根据权利要求6所述的清胶装置，其特征在于，还包括载台，所述载台上设置有位于所述承载结构下方的清胶平台，所述清胶平台用于放置所述基板。10.根据权利要求6所述的清胶装置，其特征在于，还包括与所述承载结构相连的第二动力提供机构，所述第二动力提供机构用于控制所述承载结构在竖直方向上的位置以及所述清胶辊轮对所述基板施加的压力。11.根据权利要求10所述的清胶装置，其特征在于，所述第二动力提供机构包括气缸，所述气缸的活塞通过连接杆与所述承载结构相连。12.根据权利要求10所述的清胶装置，其特征在于，还包括载台，所述载台上设置有位于所述承载结构下方的清胶平台，所述清胶平台用于放置所述基板;所述载台上还设置有支撑台，所述第二动力提供机构安装在所述支撑台上。13.根据权利要求12所述的清胶装置，其特征在于，所述载台上还设置有竖直导轨，所述第二动力提供机构通过控制所述承载结构沿所述竖直导轨移动以调节所述承载结构在竖直方向上的位置。14.根据权利要求12所述的清胶装置，其特征在于，所述承载结构与所述载台之间或者所述承载结构与所述支撑台之间还设置有弹性部件。15.根据权利要求9所述的清胶装置，其特征在于，还包括用于控制所述清胶平台与所述承载结构在水平方向上发生相对运动的第三动力提供机构。16.根据权利要求15所述的清胶装置，其特征在于，所述载台上还设置有位于所述清胶平台下方的水平导轨，所述第三动力提供机构包括第二电机以及与所述第二电机相连的第二控制器，所述第二控制器通过所述第二电机控制所述清胶平台沿所述水平导轨移动。17.根据权利要求9所述的清胶装置，其特征在于，所述清胶平台上还安装有用于固定所述基板的固定部件。18.根据权利要求9所述的清胶装置，其特征在于，所述清胶平台上还安装有加热部件。
【文档编号】B08B7/00GK105921465SQ201610461471
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2016年6月22日
【发明人】季伟, 薛影飞, 韩楠楠, 靳健标
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 合肥鑫晟光电科技有限公司