一种反应釜高压水剂射流清洗装置的制造方法

文档序号:10002811阅读:512来源:国知局
一种反应釜高压水剂射流清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于精细化工技术领域,具体涉及一种化工生产反应釜内壁自动高效清洗装置。
【背景技术】
[0002]反应釜是化工行业常用的关键设备,该设备在使用高粘度液态物料及固体物料实施化学合成时,尤其是在较高温度下的合成反应,往往容易在反应釜内壁产生结垢现象;结垢的坚硬程度及清洗去除的难易,取决于反应釜内部结构,如釜内设备有盘管加热器的,由于釜内壁与盘管之间的空隙很小,其成为物料均化及热传递过程的盲区,而且更容易在高温下导致合成产品氧化、聚合、碳化、胶化等结垢现象的产生,从而影响合成产品的质量及成品率。
[0003]对于上述的粘洁力强且坚硬的污垢,采用通常的水基清洗剂循环清洗或普通的高压水清洗,都不能达到预期的效果。为解决此问题,国内大部分企业至今还是采用人工进入反应釜内对洁垢物进行敲铲及清扫等来完成反应釜内壁的清洁处理。采用这种方法对反应釜进行清洗时不仅费工费时而且反应釜内残存的某些化学物质会对工人造成伤害。因此许多厂家迫切需要一种新型无毒害高效率的清洗方法来完成反应釜的清洗。
[0004]近来年,国外兴起一种高压水射流清洗新技术,其具有清洗速度快,清洗效率高,无毒害无污染等诸多优点;但对于内壁为搪瓷涂层的反应釜进行清洗时,若单独使用该项技术,却仍存在一些不可预计的缺陷;例如经常应用酸性和碱性物料进行合成反应的搪瓷的内壁,当其中存在某些因酸碱腐蚀(导致产生的微细裂纹时,则会因所应用的高压水射流清洗的压力过高(如100 Mpa左右),从而导致具有微细裂纹处的搪瓷涂层,因不能承受太大的射流总打击力的冲击而破裂脱落,使该反应釜不能再予以使用而报废,给生产企业带来一定的经济损失。
【实用新型内容】
[0005]为解决上述问题,本实用新型根据反应釜结构特点提供一种高效快速的反应釜高压水剂射流清洗装置,该装置能够以较低的清洗成本及高效快速去重垢且达到不损坏被清洗物,对环境无污染等优异效果,实现破除应用反应釜进行化工生产的固疾,进一步提高产品质量及成品率。
[0006]本实用新型采用的技术方案如下:一种反应釜高压水剂射流清洗装置,包括高压射流清洗装置本体和PLC程序控制器所联接的调控管线;高压射流清洗装置本体主要由高压清洗机组、设在反应釜内的三维旋转喷头伸缩机构和与三维旋转喷头伸缩机构连接的三维旋转喷头组成;所述的高压清洗机组包括高压栗组、驱动电机和水基清洗液配制储存槽;三维旋转喷头伸缩机构内设有与三维旋转喷头联通的清洗管;清洗液配制储存槽通过管路一与高压栗组连接,高压栗组通过管路二与三维旋转喷头伸缩机构的清洗管连接。
[0007]所述清洗液配制储存槽包括槽体和与槽体通过进水阀联通的清洗剂储罐,槽体内设有搅拌器,槽体上设有出液口,出液口上设有出液阀,出液阀与管路一连接。
[0008]所述三维旋转喷头伸缩机构包括连接在反应釜上的底座、与底座活动连接的伸缩杆和伸缩调控器。
[0009]所述的三维旋转喷头上设有二个喷咀。
[0010]本实用新型的有益效果有:
[0011]本实用新型相对于现有的反应釜内壁清洗技术,具有实质性特点和超常规的进步性,具体地说,该反应釜高压水剂射流清洗装置系统具有以下优点:
[0012]该装置清洗效果好,清净率可在95%以上,根据对结垢物的分析和清洗要求,可选择及调控合适的压力等级及水剂的有效浓度,高压水剂射流清洗对反应釜不会含造成损伤,釜内壁光滑,使结垢物不易附着在反应釜内壁上;
[0013]清洗效率高,清洗速度比目前传统方法快几倍,清洗一台反应釜大约需要15-20min;
[0014]清洗安全性好,操作人员勿需进入反应釜内,彻底避免了釜体内化学物品对人体的伤害及不安是全性;
[0015]无环境污染,本实用新型的水剂射流清洗是以自来水为介质,仅添加微量的无毒害易生物降解的水基清洗剂来优化高压水射流洗清效率,其无臭、无味、无毒,喷出的射流雾化后可降低作业区的空气粉尘浓度,可使大气粉尘降低到国家规定的安全标准2mg/m3以下,因此不会造成任何污染。
[0016]本实用新型由于采用了高压水射流清洗的流体动力学技术和水基清洗剂清洗的化学物理技术的优势叠加且溶汇于一体,从而在大幅度提高对各类反应釜清洗的适应性及清洗效果外,还能在不影响清洗效率的前提下,同时降低高压水射流清洗反应釜设备的系统参数(压力,流量,功率),从而可为企业降低清洗成本,提高其技术经济效益。
【附图说明】
[0017]图1为本实用新型的整体结构示意图;
[0018]图2为本实用新型所述三维旋转喷头伸缩机构示意图。
【具体实施方式】
[0019]下面结合附图并通过【具体实施方式】,对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
[0020]如图1、图2所示,本实用新型包括高压射流清洗装置本体和PLC程序控制器10所联接的调控管线;高压射流清洗装置本体主要由高压清洗机组、设在反应釜7内的三维旋转喷头伸缩机构8和与三维旋转喷头伸缩机构连接的三维旋转喷头9组成;所述的高压清洗机组包括高压栗组2、驱动电机和水基清洗液配制储存槽I ;三维旋转喷头伸缩机构8内设有与三维旋转喷头9联通的清洗管;清洗液配制储存槽I通过管路一 1.7与高压栗组2连接,高压栗组通过管路二 2.1与三维旋转喷头伸缩机构8的清洗管连接,管路二 2.1上设有安全阀3、压力表4、调压分流阀5和液力换向阀6。
[0021]所述清洗液配制储存槽I包括槽体1.1和与槽体1.1通过进液阀1.2联通的清洗剂储罐1.3,槽体1.1内设有搅拌器1.4,槽体1.1上设有出液口 1.5,出液口 1.5上设有出液阀1.6,出液阀1.6与管路一 1.7连接。
[0022]如图2所示,所述三维旋转喷头伸缩机构8包括连接在反应釜7上的底座8.1、与底座8.1活动连接的伸缩杆11和伸缩调控器12。该机构在清洗反应釜时安装在反应釜进料口上,通过高压软管14连接上述清洗管并与高压栗组联接,三维旋转喷头伸缩机构8可采用手动、PLC调控的电动,液压等控制(若运动速度较快,可采用手动),使伸进反应釜内腔的伸缩杆11在反应釜
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