内伸缩和沿反应釜内壁周围方向移动，伸缩杆在移动中可避开釜内障碍物。该三维旋转喷头伸缩机构具有三个功能:a)垂直进给；可使喷头停在任一高度位置进行清洗作业。b)倾斜:在伸缩杆和底座之间设置有转动支点13，可相对于反应釜轴线倾斜一定的角度，最大角度±45°，以保证喷头贴近反应釜内壁。c)旋转，整个伸缩机构相对于反应釜内壁可以转动，转动角度可达±150°，使三维旋转喷头在自转的同时又能随机构公转，保证水剂射流的复合旋转并能在反应釜内任意角度进行清洗作业。
[0023]所述的三维旋转喷头9系由一对锥形齿轮、旋转密封件及液压调速器等部件组成(市售产品)，所述的三维旋转喷头9上设有二个喷咀，高压水剂射流从两个旋转喷咀中喷射出，冲击破碎反应釜内壁及盲区上的重垢层，并将其剥离溶解分散于溶液中予以清除；当喷头水平旋转时，两束水射流形成的旋转力矩带动两喷咀在垂直面内旋转，三维喷头即可在垂直平面360°转动，又可在水平面360 °旋转，并由伸缩杆带动喷头任意移动到反应釜内壁和盲区各处以及搅拌器工作点进行强力清洗去垢。
[0024]本实用新型中的主要管线皆与PLC程序控制器相连接，由PLC控制器10调整高压水剂射流，清洗反应釜设备的系统参数(压力，流量，功率)，以及三维旋转喷头伸缩机构8和三维旋转喷头9之间各种高效的复合运动。从而使高压水剂射流可以覆盖反应釜内壁任何位置及盲区，完成反应釜高效清洗。
[0025]上述的PLC程序控制器，系通过管线联接上述的实施高压射流清洗的各个装置，并将经实验所确定的高压水剂射流清洗反应釜设备的系统参数(压力，流量，功率)编制成程序，输入控制器中，用于系统的自动运行及调控，从而实现资源的合理利用，设备的优势叠加，升级换代。
[0026]本实用新型用于已结垢反应釜的清洗时，首先要对清洗的反应釜的结垢情况，如垢的软硬程度，反应釜清洗周期等进行分析，确定清洗参数及与之匹配的喷咀尺寸，并在考虑所用清洗剂的清洗叠加性能的情况下，适度地降低实际使用的清洗参数，然后将这些数据输入PLC程序控制器10内，予用于实际操作调控。
[0027]将三维旋转喷头伸缩机构与高压软管及三维旋转喷头9安装在一起后，立即将其伸入待清洗的反应釜7内，并将伸缩机构8的底座固定在反应釜投料口上。
[0028]启动清洗液配制储存槽中的搅拌器将槽体中自来水予以搅动，随之打开槽体顶部设置的清洗剂储罐的进液阀，将其中的清洗剂按比例量(一般控制在0.1-0.5%范围内)投入槽体中，搅拌5-10min左右，水剂均匀后，停止搅拌。
[0029]打开清洗液配制储存槽的出口阀门，同时启动高压栗组2及PLC程序控制器10，将高压水剂栗入三维旋转喷头伸缩机构8中，通过三维旋转喷头9及伸缩杆11的复合运动，如重复垂直进给、倾斜，多种型式的旋转，从而使高压水剂射流可以完全覆盖反应釜内任何位置，并基于高压水射流的力学功能及清洗剂的化学理物功能的叠加，完成结重垢的反应釜内壁的清洗。
[0030]反应釜内壁经高压水剂射流清洗10-20min后，停止运行，立即现场检查釜内壁清洁程度，当清洁率达95%以上且釜内壁无任何损伤时，即可用普通自来水再次冲洗一下反应釜内壁，彻底去除釜内盲区内所残留的细粉状垢粒及高压水剂中的微量清洗剂。此后，可根据以后化工生产需求将反应釜烘干备用。
[0031]本实用新型提供了一种由机械及电子器具来代替人工清洗反应釜中重污垢的技术方案，使清洗过程完全自动化，清洗过程不需要人工干预，而反应釜清洗比较均匀、洁净、彻底，一致性好，很好地解决了反应釜高压水射流清洗及常规水剂清洗所存在的质量隐患及环境污染等问题。
[0032]以上对本实用新型所提供的反应釜高压水剂射流清洗装置系统进行了详细地介绍，但以上实施个例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对其限制；尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，所属领域的普通技术人员应当理解:依然可以对本实用新型的【具体实施方式】进行修改或对部分技术特征进行同等替换；而不脱离本实用新型技术方案的精神，其均应涵盖在本实用新型请求保护的技术方案范围之中。
【主权项】
1.一种反应釜高压水剂射流清洗装置，包括高压射流清洗装置本体和PLC程序控制器所联接的调控管线；其特征在于:高压射流清洗装置本体主要由高压清洗机组、设在反应釜内的三维旋转喷头伸缩机构和与三维旋转喷头伸缩机构连接的三维旋转喷头组成；所述的高压清洗机组包括高压栗组、驱动电机和水基清洗液配制储存槽；三维旋转喷头伸缩机构内设有与三维旋转喷头联通的清洗管；清洗液配制储存槽通过管路一与高压栗组连接，高压栗组通过管路二与三维旋转喷头伸缩机构的清洗管连接。2.根据权利要求1所述的反应釜高压水剂射流清洗装置，其特征在于:清洗液配制储存槽包括槽体和与槽体通过进水阀联通的清洗剂储罐，槽体内设有搅拌器，槽体上设有出液口，出液口上设有出液阀，出液阀与管路一连接。3.根据权利要求2所述的反应釜高压水剂射流清洗装置，其特征在于:所述三维旋转喷头伸缩机构包括连接在反应釜上的底座、与底座活动连接的伸缩杆和伸缩调控器。4.根据权利要求1所述的反应釜高压水剂射流清洗装置，其特征在于:所述的三维旋转喷头上设有二个喷咀。
【专利摘要】本实用新型公开一种反应釜高压水剂射流清洗装置，包括高压射流清洗装置本体和PLC程序控制器所联接的调控管线；高压射流清洗装置本体主要由高压清洗机组、设在反应釜内的三维旋转喷头伸缩机构和与三维旋转喷头伸缩机构连接的三维旋转喷头组成；所述的高压清洗机组包括高压泵组、驱动电机和水基清洗液配制储存槽；三维旋转喷头伸缩机构内设有与三维旋转喷头联通的清洗管；清洗液配制储存槽通过管路一与高压泵组连接，高压泵组通过管路二与三维旋转喷头伸缩机构的清洗管连接。本实用新型结构巧妙，配套完整，操作灵活方便，降低清洗成本，改善工作环境，避免污染环境，而且大幅度地提高了反应釜清洗效率及清洗质量。
【IPC分类】B08B9/093
【公开号】CN204912217
【申请号】CN201520511657
【发明人】祁正大
【申请人】武汉新概念化工有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年7月15日