涂胶显影机上盖清洗装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，其包括底板、清洗盘、清洗盘夹具、多个第一冲洗喷嘴、第二冲洗喷嘴以及多个第三冲洗喷嘴，所述清洗盘夹具和一涂胶显影机上盖设置在所述底板上，所述清洗盘设置在所述清洗盘夹具上方，所述第一冲洗喷嘴设置于清洗盘下方，所述第二冲洗喷嘴设置于清洗盘上方，所述多个第三冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方，所述清洗盘具有上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道。本实用新型提供的涂胶显影机上盖清洗装置通过第三冲洗喷嘴将溶剂喷入清洗盘的上部清洗通道中，并从清洗盘周侧的喷出，以清洗清洗盘上方的粘附于涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体，提高了清洗范围，减少了清洗所需的时间。
【专利说明】
涂胶显影机上盖清洗装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及半导体制造领域，特别涉及一种涂胶显影机上盖清洗装置。
【背景技术】
[0002]在半导体制造工艺中，光刻工艺有着举足轻重的地位。在进行离子注入或刻蚀之前，需要通过光刻工艺形成光刻胶图案，以预先定义出待刻蚀或离子注入的区域。因而，光刻工艺的好坏直接影响刻蚀或离子注入的结果，并最终影响形成的半导体器件的电性。
[0003]光刻工艺的主要步骤如下:首先，在半导体晶圆表面旋涂光刻胶层，并进行软烘烤，以增强光刻胶的黏着性;然后，进行曝光，将掩膜板上的图案转移至所述光刻胶层上，在曝光过程中，所述光刻胶层上被曝光区域的光刻胶会发生光化学反应;再然后，进行显影工艺，以形成光刻胶图案。具体的说，显影工艺中通常利用涂胶显影机向光刻胶层表面喷显影液，使得光刻胶层形成为光刻图形，然后采用溶剂将显影液和光刻胶残渣去除，但是不可避免的会有光阻或其他颗粒晶体残留在涂胶显影机上盖上，影响到后续的生产，因此需要一种清洗涂胶显影机上盖的装置。
[0004]专利CN203437361U公开了一种涂胶显影机上盖清洗装置，如图1所示，其包括底板
1、清洗盘2、清洗盘夹具3和若干第一冲洗喷嘴4，所述清洗盘夹具3和若干第一冲洗喷嘴4均设置于所述底板I上，所述清洗盘夹具3位于所述底板I的中心，所述若干第一冲洗喷嘴4等间距环绕设置于所述清洗盘夹具3四周，所述清洗盘2设置于所述清洗盘夹具3上，所述涂胶显影机上盖7置于所述底板I上，所述清洗盘夹具3位于所述清洗盘2及所述涂胶显影机上盖7的中心，所述涂胶显影机上盖清洗装置还包括第三冲洗喷嘴8，所述第三冲洗喷嘴8设置于所述清洗盘2的上方，第三冲洗喷嘴8能够从清洗盘2的上方将溶剂5喷入清洗盘2中，溶剂5通过清洗盘2导流后，从清洗盘2周侧的上段喷出，以清洗清洗盘2上方的粘附于涂胶显影机上盖7内壁上的光阻或其他颗粒晶体6，从而避免了未清洗干净的涂胶显影机上盖7内壁上的光阻或其他颗粒晶体6落入到晶圆上的风险。
[0005]但是，实践中发现，上述清洗范围有限，比如清洗盘上方的涂胶显影机上盖7内壁区域(如图1中虚线圈所示)清洗效果欠佳，导致清洗不净且耗时较长。因此，有必要进一步的加强涂胶显影机上盖清洗装置的清洗范围，减少清洗所需要的时间，从而增加晶圆的生产质量和效率。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型的目的在于提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，提高清洗范围，减少清洗所需要的时间。
[0007]为解决上述技术问题，本实用新型提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，包括底板、清洗盘、清洗盘夹具、多个第一冲洗喷嘴和第二冲洗喷嘴，所述清洗盘夹具和一涂胶显影机上盖设置在所述底板上，所述清洗盘设置在所述清洗盘夹具上，所述第一冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的下方，所述第二冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方，其特征在于，还包括多个第三冲洗喷嘴，所述第三冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方，所述清洗盘具有上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道，所述第一冲洗喷嘴喷洒的溶剂通过所述下部清洗通道喷洒至所述涂胶显影机上盖的内壁，所述第二冲洗喷嘴喷洒的溶剂通过所述中部清洗通道喷洒至所述涂胶显影机上盖的内壁，所述第三冲洗喷嘴喷洒的溶剂通过所述上部清洗通道喷洒至所述涂胶显影机上盖的内壁。
[0008]优选的，所述第二冲洗喷嘴位于所述清洗盘上方的中心位置，所述多个第三冲洗喷嘴围绕所述第二冲洗喷嘴等间距分布。
[0009]优选的，所述多个第一冲洗喷嘴围绕所述清洗盘夹具等间距分布。
[0010]优选的，所述上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道沿所述清洗盘的厚度方向依次排列。
[0011]优选的，所述上部清洗通道由上部环形板、上部环形连接块和中部环形板限定而成，所述上部环形板位于所述中部环形板的上方，所述上部环形板和中部环形板通过所述上部环形连接块连接，所述上部环形连接块沿所述中部环形板的外沿设置，所述上部环形连接块的侧面开设有多个个上部连接块穿块孔。
[0012]进一步的，所述多个上部连接块穿孔等间距分布，所述上部连接块穿孔的开孔方向与所述清洗盘的夹角大于等于10°。
[0013]优选的，所述中部清洗通道由中部环形板、中间导流板和中部环形连接块限定而成，所述中间导流板位于所述中部环形板的下方，所述中间导流板和中部环形板通过所述中部环形连接块连接，所述中部环形连接块沿所述中间导流板的外沿设置，所述中部环形连接块的侧面开设有多个中部连接块穿孔。
[0014]进一步的，所述多个中部连接块穿孔等间距分布，所述中部连接块穿孔的开孔方向与所述清洗盘平行。
[0015]优选的，所述下部清洗通道由中间导流板、下部环形板和下部环形连接块限定而成，所述下部环形板位于所述中间导流板的下方，所述下部环形板与中间导流板通过所述下部环形连接块连接，所述下部环形连接块沿所述中间导流板的外沿设置，所述下部环形连接块的侧面开设有多个下部连接块穿孔。
[0016]进一步的，所述多个下部连接块穿孔等间距分布，所述下部连接块穿孔的开孔方向与所述清洗盘的夹角大于等于10°。
[0017]优选的，所述清洗盘包括一夹块，所述清洗盘夹具与所述夹块连接。
[0018]优选的，所述清洗盘夹具为真空吸盘。
[0019]与现有技术相比，本实用新型通过多个第三冲洗喷嘴从清洗盘的上方将溶剂喷入清洗盘中并从清洗盘的上部清洗通道喷出，以清洗粘附于涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体，提高了清洗显影机上盖的能力，可避免未清洗干净的涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体落入到晶圆上，同时减少了清洗所需的时间，增加了晶圆生产的质量和效率。
【附图说明】
[0020]图1为现有技术中涂胶显影机上盖清洗装置的剖面结构示意图；
[0021 ]图2为本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置的剖面结构示意图；
[0022]图3为本实用新型实施例提供的清洗盘的剖面结构示意图；
[0023]图4为本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置中清洗盘的俯视图；
[0024]图5为本实用新型实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置中上部连接块穿孔、中部连接块穿孔以及下部连接块穿孔的角度关系示意图。
【具体实施方式】
[0025]以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的涂胶显影机上盖清洗装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
[0026]如图2、图3所示，本实用新型实施例提供一种涂胶显影机上盖清洗装置，其包括底板10、清洗盘20、清洗盘夹具30、多个第一冲洗喷嘴40、第二冲洗喷嘴80和多个第三冲洗喷嘴90，所述清洗盘夹具30和涂胶显影机上盖70设置在所述底板10上，所述清洗盘20设置在所述清洗盘夹具30上方，所述第一冲洗喷嘴40设置于清洗盘20下方，所述第二冲洗喷嘴80和第三冲洗喷嘴90设置于所述清洗盘20的上方，所述清洗盘20具有上部清洗通道20a、中部清洗通道20b以及下部清洗通道20c。所述第一冲洗喷嘴40喷洒的溶剂通过所述下部清洗通道20c喷洒至涂胶显影机上盖70设置内壁上，所述第二冲洗喷嘴80喷洒的溶剂通过所述中部清洗通道20b喷洒至涂胶显影机上盖70设置内壁上，所述第三冲洗喷嘴90喷洒的溶剂通过所述上部清洗通道20a喷洒至涂胶显影机上盖70设置内壁上。
[0027]本实施例提供的涂胶显影机上盖清洗装置在现有技术的基础上增加了多个第三冲洗喷嘴90，第三冲洗喷嘴90能够从清洗盘20的上方将溶剂50喷入清洗盘20的上部清洗通道20a中，溶剂50通过上部清洗通道20a导流后，从清洗盘20周侧的上段喷出，以清洗清洗盘20上方的粘附于涂胶显影机上盖70内壁上的光阻或其他颗粒晶体，提高了清洗显影机上盖的能力。
[0028]其中，所述多个第一冲洗喷嘴40围绕清洗盘夹具30等间距分布，所述第二冲洗喷嘴80位于所述清洗盘20的上方的中心位置，所述多个第三冲洗喷嘴90围绕第二冲洗喷嘴80等间距分布，以此实现均匀的清洗效果。
[0029]重点参考图3所示，所述上部清洗通道20a、中部清洗通道20b以及下部清洗通道20c沿所述清洗盘20的厚度方向依次排列，所述上部清洗通道位20a于上方，所述下部清洗通道20c位于下方，所述中部清洗通道20b位于上部清洗通道20a和下部清洗通道20c之间。
[0030]具体参考图3所示，所述清洗盘20的上部清洗通道20a由上部环形板212、中部环形板204和上部环形连接块205限定而成，所述上部环形板212位于所述中部环形板204的上方，所述上部环形板212和所述中部环形板204通过所述上部环形连接块205连接，所述上部环形连接块205沿所述中部环形板204的外沿设置，所述上部环形连接块205的侧面开设有多个上部连接块穿孔209。所述清洗盘20的中部清洗通道20b由中部环形板204、中间导流板201和中部环形连接块210限定而成，所述中间导流板201位于所述中部环形板204的下方，所述中间导流板201和中部环形板204通过所述中部环形连接块210连接，所述中部环形连接块210沿所述中间导流板201的外沿设置，所述中部环形连接块210的侧面开设有多个中部连接块穿孔207。所述清洗盘20的下部清洗通道20c由中间导流板201、下部环形板202和下部环形连接块203限定而成，所述下部环形板202位于所述中间导流板201的下方，所述中间导流板201和下部环形板202通过所述下部环形连接块203连接，所述下部环形连接块203沿所述中间导流板201的外沿设置，所述下部环形连接块203的侧面开设有多个下部连接块穿孔206。
[0031]如图4所示，清洗盘20开设有多个等间距分布的上部连接块穿孔209、多个等间距分布的中部连接块穿孔207以及多个等间距分布的下部连接块穿孔206，每个所述上部连接块穿孔209与对应的所述中部连接块穿孔207以及下部连接块穿孔206——对应且位于同一竖直平面内。
[0032]如图5所示，上部连接块穿孔209的开孔方向与清洗盘20呈夹角α，夹角α大于等于10°;中部连接块穿孔207的开孔方向与清洗盘20平行;下部连接块穿孔206的开孔方向与清洗盘20呈夹角β，夹角β大于等于10°。采用上述分布方式，可显著增加该涂胶显影机上盖清洗装置纵向的清洗能力和清洗范围，使其能够将涂胶显影机上盖70的内壁进行彻底清洗干净。本实施例中，上部连接块穿孔209、中部连接块穿孔207以及下部连接块穿孔206的数量相等且均为8个。但应理解，本实用新型并不限制开孔的数量和方向，可根据晶圆的尺寸等具体要求来相应设制，在本实施例中所采用的方案为较佳方案。
[0033]本实施例中，第三冲洗喷嘴90、第二冲洗喷嘴80和第一冲洗喷嘴40例如是去离子水冲洗喷嘴，即用于喷洒去离子水。在其它实施例中，也可根据需要更改冲洗喷嘴喷洒的溶剂，比如也可喷洒丙酮等化学试剂。所述清洗盘夹具30为真空吸盘(chuck)，在晶圆进行涂胶显影的过程中，晶圆会吸附在该真空吸盘上均匀涂上光阻，在生产停止时，可将清洗盘20放置于该真空吸盘上，该真空吸盘是可旋转的，并可调节其转速，从而对涂胶显影机上盖70的内壁进行彻底的清洗。
[0034]进一步的，所述清洗盘20包括夹块208，所述夹块208设置于所述中间导流板201下底面的中心，所述清洗盘夹具30与所述夹块208连接，以更好的固定所述清洗盘20，使清洗盘20不会因为溶剂喷射而产生位移，保证了清洗的质量与效率。
[0035]以下结合图2至图5详细描述本实施例的涂胶显影机上盖清洗装置的工作过程。在对涂胶显影机上盖70进行清洗时，先通过第一冲洗喷嘴40向清洗盘20的下部清洗通道20c内喷射溶剂50，并从下部连接块穿孔206喷出，清洗位于清洗盘20下方的粘附于涂胶显影机上盖70内壁上的光阻或其他颗粒晶体；同时，通过第二冲洗喷嘴80向清洗盘20的中部清洗通道20b内喷射溶剂50，并从中部连接块穿孔207喷出，清洗位于清洗盘20高度的粘附于涂胶显影机上盖70内壁上的光阻或其他颗粒晶体；同时，通过第三冲洗喷嘴90向上部清洗盘20的上部清洗通道20a内喷射溶剂50，并从上部连接块穿孔209喷出，清洗位于清洗盘20上方的粘附于涂胶显影机上盖70内壁上的光阻或其他颗粒晶体，最终将整个涂胶显影机上盖70内壁清洗干净。
[0036]本实用新型通过增加多个第三冲洗喷嘴从清洗盘的上方将溶剂喷入清洗盘的上部清洗通道中，并从清洗盘周侧的上段喷出，以清洗粘附于涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体，提高了清洗显影机上盖的能力。从而避免了未清洗干净的涂胶显影机上盖内壁上的光阻或其他颗粒晶体落入到晶圆上的风险，同时减少了清洗所需的时间，增加了晶圆的生产质量和效率。
[0037]显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些改动和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种涂胶显影机上盖清洗装置，包括底板、清洗盘、清洗盘夹具、多个第一冲洗喷嘴和第二冲洗喷嘴，所述清洗盘夹具和一涂胶显影机上盖设置在所述底板上，所述清洗盘设置在所述清洗盘夹具上，所述第一冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的下方，所述第二冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方，其特征在于，还包括多个第三冲洗喷嘴，所述第三冲洗喷嘴设置于所述清洗盘的上方，所述清洗盘具有上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道，所述第一冲洗喷嘴喷洒的溶剂通过所述下部清洗通道喷洒至所述涂胶显影机上盖的内壁，所述第二冲洗喷嘴喷洒的溶剂通过所述中部清洗通道喷洒至所述涂胶显影机上盖的内壁，所述第三冲洗喷嘴喷洒的溶剂通过所述上部清洗通道喷洒至所述涂胶显影机上盖的内壁。2.根据权利要求1所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述第二冲洗喷嘴位于所述清洗盘上方的中心位置，所述多个第三冲洗喷嘴围绕所述第二冲洗喷嘴等间距分布。3.根据权利要求1所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述多个第一冲洗喷嘴围绕所述清洗盘夹具等间距分布。4.根据权利要求1所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道沿所述清洗盘的厚度方向依次排列。5.根据权利要求1所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述上部清洗通道由上部环形板、上部环形连接块和中部环形板限定而成，所述上部环形板位于所述中部环形板的上方，所述上部环形板和中部环形板通过所述上部环形连接块连接，所述上部环形连接块沿所述中部环形板的外沿设置，所述上部环形连接块的侧面开设有多个上部连接块穿孔。6.根据权利要求5所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述多个上部连接块穿孔等间距分布。7.根据权利要求5所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述上部连接块穿孔的开孔方向与所述清洗盘的夹角大于等于10°。8.根据权利要求1所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述中部清洗通道由中部环形板、中间导流板和中部环形连接块限定而成，所述中间导流板位于所述中部环形板的下方，所述中间导流板和中部环形板通过所述中部环形连接块连接，所述中部环形连接块沿所述中间导流板的外沿设置，所述中部环形连接块的侧面开设有多个中部连接块穿孔。9.根据权利要求8所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述多个中部连接块穿孔等间距分布。10.根据权利要求8所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述中部连接块穿孔的开孔方向与所述清洗盘平行。11.根据权利要求1所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述下部清洗通道由中间导流板、下部环形板和下部环形连接块限定而成，所述下部环形板位于所述中间导流板的下方，所述下部环形板与中间导流板通过所述下部环形连接块连接，所述下部环形连接块沿所述中间导流板的外沿设置，所述下部环形连接块的侧面开设有多个下部连接块穿孔。12.根据权利要求11所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述多个下部连接块穿孔等间距分布。13.根据权利要求11所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述下部连接块穿孔的开孔方向与所述清洗盘的夹角大于等于10°。14.根据权利要求1?13任一项所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述清洗盘包括一夹块，所述清洗盘夹具与所述夹块连接。15.根据权利要求1?13任一项所述的涂胶显影机上盖清洗装置，其特征在于，所述清洗盘夹具为真空吸盘。
【文档编号】B08B3/08GK205570884SQ201620362868
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2016年4月26日
【发明人】顾烨
【申请人】中芯国际集成电路制造（天津）有限公司, 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司