废液处理装置的制造方法

文档序号:10890183阅读:511来源:国知局
废液处理装置的制造方法
【专利摘要】一种废液处理装置,包含第一盒体、第二盒体与第一隔板。第一盒体的内部形成第一容置空间,并具有位于第一盒体的侧边的第一连接开口,第一隔板则设置于第一容置空间中并具有第一开口。第二盒体内部形成第二容置空间,并具有对应第一连接开口的第二连接开口,以连接第一容置空间与第二容置空间,其中第一连接开口的高度低于第一开口的高度。本实用新型废液处理装置能避免管线堵塞,从而能大幅减少耗材成本并降低人力成本,有效提升制程效率。
【专利说明】
废液处理装置
技术领域
[0001 ]本实用新型有关一种废液处理装置。
【背景技术】
[0002]各项电子产品要求多功能且外型尚须轻薄短小的需求之下,各项电子产品所对应的半导体晶片,不仅其尺寸微缩化,当中的布线密度亦随之提升,因此后续在制造半导体晶片封装体的挑战亦渐趋严峻。其中,晶片封装制程是形成电子产品过程中的一重要步骤。晶片封装体除了将晶片保护于其中,使免受外界环境污染外,还提供晶片内部电子元件与外界的电性连接通路。
[0003]在晶片的封装制程中,通常会喷洒或涂布多种溶剂与封装材料至晶片上以形成绝缘的封装层,而多余的溶剂与封装材料则流入废液槽,并利用栗(pump)抽取此废液槽中的溶剂与封装材料,以进行回收再利用。然而,封装材料具有较大的粘度而常会使得抽取的管线产生堵塞,此将需耗费过多的人力以进行清洗,相对的也提升了生产成本。
【实用新型内容】
[0004]因此,本实用新型提供一种废液处理装置,以降低管线堵塞的可能性,从而大幅提升生产效率。
[0005]本实用新型的一态样是提供一种废液处理装置,包含第一盒体、第二盒体与第一隔板。第一盒体的内部形成第一容置空间,并具有位于第一盒体的侧边的第一连接开口,第一隔板则设置于第一容置空间中并具有第一开口。第二盒体内部形成第二容置空间,并具有对应第一连接开口的第二连接开口,以连接第一容置空间与第二容置空间,其中第一连接开口的高度低于第一开口的高度。
[0006]根据本实用新型一或多个实施方式,废液处理装置还包含第二隔板,第二隔板设置于第一容置空间中,并位于第一隔板与侧边之间。
[0007]根据本实用新型一或多个实施方式,第二隔板具有第二开口,第二开口的高度低于第一开口的高度且高于第一连接开口的高度。
[0008]根据本实用新型一或多个实施方式,第一隔板与第二隔板将第一容置空间区隔为第一区、第二区与第三区,第一开口连接第一区与第二区,而第二开口连接第二区与第三区。
[0009]根据本实用新型一或多个实施方式,第一开口与第二开口分别位于第二区的对角线处,而第二开口与第一连接开口分别位于第三区的对角线处。
[0010]根据本实用新型一或多个实施方式,废液处理装置还包含第一外盖部,第一外盖部设置于该第一盒体上方,且第一外盖部具有连接于第一区的进液口。
[0011]根据本实用新型一或多个实施方式,进液口与第一开口分别位于第一区的对角线处。
[0012]根据本实用新型一或多个实施方式,废液处理装置还包含:管线,连接于该第二盒体;以及感测器,位于第二盒体的侧边。
[0013]根据本实用新型一或多个实施方式,第一连接开口的高度介于60mm至70mm之间。
[0014]根据本实用新型一或多个实施方式,废液处理装置还包含设置于第二盒体上方的第二外盖部。
[0015]本实用新型废液处理装置能避免管线堵塞,从而能大幅减少耗材成本并降低人力成本,有效提升制程效率。
【附图说明】
[0016]图1绘示根据本实用新型部分实施方式的一种废液处理装置中部分结构的立体示意图。
[0017]图2绘示废液在图1的废液处理装置中的沉积机制。
[0018]图3绘示本实用新型部分实施方式的废液处理装置的完整立体示意图。
[0019]图4绘示本实用新型部分实施方式的一种晶圆处理装置的剖面示意图。
[0020]其中,附图中符号的简单说明如下:
[0021]100:废液处理直装置210A?210D:溶剂层
[0022]110:第一盒体220A?220C:封装材料层
[0023]I1S:侧边310:第一外盖部
[0024]I1B:底部312:第一顶盖
[0025]112:第一容置空间312H:把手
[0026]112A:第一区314、324:锁固件
[0027]112B:第二区316、326:扣环
[0028]112C:第三区320:第二外盖部
[0029]114:第一连接开口322:第二顶盖
[0030]120:第二盒体330:连接件
[0031]122:第二容置空间340:管线
[0032]124:第二连接开口350:感测器
[0033]130:第一隔板410:晶圆腔室
[0034]132:第一开口412:晶圆基座
[0035]140:第二隔板420:泄液管线
[0036]142:第二开口430:收集腔室
[0037]150:进液口432:栗
[0038]Hl ?H4、HA1 ?HCl:高度434:收集槽
[0039]F:废液。
【具体实施方式】
[0040]以下将以图式揭露本实用新型的多个实施方式,为明确说明起见,许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而,应了解到,这些实务上的细节并不用以限制本实用新型。也就是说,在本实用新型部分实施方式中,这些实务上的细节是非必要的。此外,为简化图式起见,一些已知惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式绘示。[0041 ]此外,相对词汇,如“下”或“底部”与“上”或“顶部”,用来描述文中在附图中所示的一元件与另一元件的关系。相对词汇可以用来描述装置在附图中所描述之外的不同方位。例如,如果一附图中的装置被翻转,元件将会被描述原为位于其它元件的“下”侧将被定向为位于其他元件的“上”侧。例示性的词汇“下”,根据附图的特定方位可以包含“下”和“上”两种方位。同样地,如果一附图中的装置被翻转,元件将会被描述原为位于其它元件的“下方”或“之下”将被定向为位于其他元件上的“上方”。例示性的词汇“下方”或“之下”,可以包含“上方”和“上方”两种方位。
[0042]图1绘示根据本实用新型部分实施方式的一种废液处理装置中部分结构的立体示意图。如图1所示,一废液处理装置100包含一第一盒体110、一第二盒体120与一第一隔板130 ο第一盒体110的内部形成一第一容置空间112,并具有一第一连接开口 114位于第一盒体110的一侧边110S。第二盒体120位于第一盒体110的一侧,其内部形成一第二容置空间122,并具有一第二连接开口 124对应于第一连接开口 114,以连接第一容置空间112与第二容置空间122。第一隔板130则位于第一容置空间112中,并具有一第一开口 132。
[0043]在图1的实施方式中,废液处理装置100还具有一第二隔板140设置于第一容置空间112中,并位于第一隔板130与第一盒体110的侧边IlOS之间。第一隔板130与第二隔板140将第一容置空间112区隔为一第一区112A、一第二区112B与一第三区112C,其中第一隔板130位于第一区112A与第二区112B之间,而第一隔板130的第一开口 132则连接第一区112A与第二区112B。第二隔板140则位于第二区112B与第三区112C之间,且第二隔板140的第二开口 142连接第二区112B与第三区112C。具体而言,第一容置空间112的第三区112C通过第一连接开口 114与第二连接开口 124与第二容置空间122相连。值得注意的是,虽然图1示意的废液处理装置100以两个隔板将第一容置空间112区隔成三个区域,但本实用新型不以此为限。在本实用新型的其他部分实施方式中,第一容置空间112中具有N个隔板以将第一容置空间112区隔成N+1个区,且N可为大于I的任意整数。
[0044]此外,废液处理装置100还具有一进液口150连接于第一区112A。在此特别叙述废液于废液处理装置100中的流动机制,并以箭头表示废液F的流动方向。在晶圆的制造与封装过程中,会先使用溶剂清洗晶圆表面,接着封装材料更搭配合适的溶剂以增加其在晶圆上的粘合效果,并进行固化制程形成晶圆上的封装层。使用后的溶剂与过量的封装材料一同聚集成废液F自进液口 150进入废液处理装置100,并先在第一区112A中累积至一定高度后才会经由第一隔板130的第一开口 132流往第二区112B。需说明的是,封装材料与溶剂互不相溶,且由于封装材料具有较大的比重,其会在一段时间后逐渐沉积至第一区112A的底部,使废液F分离成下层的封装材料层与上层的溶剂层。据此,第一隔板130的第一开口 132设置以对应上层的溶剂层的高度,借此使流入第二区112B的废液F大部分为溶剂。
[0045]在本实用新型的部分实施方式中,溶剂包含磷酸二氢胺(ammonium dihydrogenphosphate,ADP)或醋酸丙二醇甲酿酯(propylene glycol monomethyl ether acetate,PGMEA),而封装材料包含环氧树酯。
[0046]然而,仍然会有少部分未分层的废液F流入第二区112B中。为减少此情形发生,进液口 150与第一开口 132分别设置于第一区112A的对角线处,借此增加自进液口 150进入的废液F在第一区112A中的流动距离。拉长流动距离也就意味着增加了废液F在第一区112A中的流动时间,使废液F中的封装材料能在较长的时间中沉积至第一区112A的底部。另一方面,进液口 150的高度Hl更高于第一开口 132的高度H2,以让废液F受重力影响直接往第一开口 132的方向流动。需说明的是,本文中所述的高度均指与第一盒体110的一底部IlOB之间的垂直距离。
[0047]接着,流入第二区112B的废液F逐渐累积在第二区112B中并产生分层,但由于大部分的封装材料已余留在第一区112A中,因此第二区112B的废液F中,封装材料所占比例会低于第一区112A的废液F中封装材料所占比例。当第二区112B的废液F累积至一定高度后,即会经由第二隔板140的第二开口 142流往第三区112C。同样的,第二开口 142与第一开口 132分别设置于第二区112B的对角线处,借此增加废液F在第二区112B中的流动时间,以让废液F中的封装材料能沉积至底部而产生明显分层。此外,第二开口 142的高度H3更低于第一开口 132的高度H2,使废液F受重力影响往第二开口 142的方向流动。
[0048]之后,流入第三区112C的废液F也逐渐累积在第三区112C中并产生分层,且因经由第二开口 142流进第三区112C的废液F中大部分为溶剂,因此第三区112C的废液中,封装材料所占比例又更低于第二区112B的废液F中封装材料所占比例。当第三区112C的废液F累积至一定高度后,多余的废液F即会经由第一盒体110的侧边IlOS上的第一连接开口 114流入第二盒体120的第二容置空间122。同样的,第一连接开口 114与第二开口 142分别设置于第三区112C的对角线处,借此增加废液F在第三区112C中的流动距离,借此使封装材料在较长的流动时间中沉积至第三区112C的底部。此外,第一连接开口 114的高度H4更低于第二开口142的高度H3,以让废液F受重力影响往第一连接开口 114的方向流动。
[0049]综前所述,第一开口132、第二开口 142与第一连接开口 114均设置于对应各区溶剂层的高度。在废液F分层的状况下,几乎只有上层的溶剂能流经此些开口,而余留下层的封装材料于各区中。虽然仍有部分的溶剂夹带着未分层的封装材料通过此些开口,但通过设置多个区域来拉长废液F的流动距离与时间,使废液F中残留的封装材料有足够的时间沉积。据此,流入第二盒体120的第二容置空间122的废液F中几乎全为溶剂。须注意的是,本实用新型的废液处理装置100并不以图1所示的两个隔板为限。在本实用新型的其他部分实施方式中,第一容置空间112中可具有N个隔板将其区隔为N+1区,且各个隔板具有一开口以连接相邻的两区,而每个区的两个开口分别设置于对角线处。此外,此些N个开口的高度介于第一连接开口 114的高度H4与进液口 150的高度Hl之间,且此些N个开口的高度沿着进液口150往第一连接开口 114的方向逐渐递减。
[°°50] 在本实用新型的部分实施方式中,第一连接开口 114的高度H4介于60mm至70mm之间。
[0051]在本实用新型的部分实施方式中,第二盒体120的第二连接开口124具有与第一连接开口 114相同的高度H4,但不以此为限。在本实用新型的其他部分实施方式中,第二连接开口 124的高度不同于第一连接开口 114,并只要与第一连接开口 124有部分重叠即可使废液F自第二连接开口 124流进第二容置空间122。
[0052]请接着参阅图2,其绘示废液在图1的废液处理装置中的沉积机制。如图2所示,进入第一容置空间112的第一区112A的废液F会先累积于第一区112A中并逐渐分层为溶剂层210A与封装材料层220A。当溶剂层210A与封装材料层220A共同累积至第一开口 132的高度H2时,接着进入的废液F因不具有足够的沉积时间形成分层,而随着溶剂层210A—同经由第一开口 132流往第二区112B。同样的,进入第二区112B的废液F会分层为溶剂层210B与封装材料层220B。但由于大部分的封装材料已沉积于第一区112A中,因此废液F在第二区112B中沉积的封装材料层220B,其高度HBl会低于第一区112A的封装材料层220A的高度HA1。换句话说,第二区112B的废液F中溶剂的比例相对增加。
[0053]在溶剂层210B与封装材料层220B共同累积至第二开口142的高度H3时,进入第二区112B的废液F因沉积时间不足以形成完整分层,而随着溶剂层210B—同经由第二开口 142流往第三区112C,并在第三区112C逐渐分层为溶剂层21C与封装材料层220C。相同地,由于在第二区112B中也沉积了部分的封装材料,因此进入第三区112C的废液F中,溶剂的比例也相对高于第二区112B的废液F。也就是说,第三区112C的封装材料层220C,其高度HCl又更低于第二区112B的封装材料层220B的高度HBl。之后,溶剂层210C与封装材料层220C共同累积至第一连接开口 114的高度H4,且第一区112A、第二区112B与第三区112C拉长了废液的流动距离与时间,使封装材料有足够的时间沉积。因此,经由第一连接开口 114流入第二盒体120的第二容置空间122的废液F中几乎全为溶剂。
[0054]在理解废液处理装置100的机制后,请继续参阅图3,其绘示废液处理装置100的完整立体示意图,且相同的元件以同样的元件符号表示,而不再加以详述。如图3所示,废液处理装置100还包含一第一外盖部310设置于第一盒体110上方,以及一第二外盖部320设置于第二盒体120上方。其中,前述连接于第一区112A的进液口 150设置于第一外盖部310。此外,一连接件330位于第一盒体110与第二盒体120之间以连接其两者,借此使图1中的第一连接开口 114能对应连接至第二连接开口 124。
[0055]此外,如图3所示,第一外盖部310还具有一第一顶盖312,其一侧通过多个锁固件314固定于第一外盖部310,而相对于锁固件314的另一侧具有一扣环316,其设置以控制第一顶盖312的开启与关闭。另一方面,第二外盖部320同样具有一第二顶盖322,其一侧通过多个锁固件324固定于第二外盖部320,而相对于锁固件324的另一侧具有一扣环326,其设置以控制第二顶盖322的开启与关闭。
[0056]在本实用新型的部分实施方式中,第一顶盖312还具有一把手312H大致位于第一顶盖312的中央处,当第一盒体110内累积过多的封装材料时,可先卸载连接件330使第一盒体110与第二盒体120分离,并通过把手312将第一盒体110提起进行回收与清洗等制程后,再重与第二盒体120结合以继续进行废液处理。在本实用新型的其他部分实施方式中,第二顶盖322同样具有一把手322H大致位于第二顶盖322的中央处,以便于将第二盒体120提起进行回收与清洗等制程。
[0057]此外,废液处理装置100还包含一管线340连接于第二盒体120,以及一感测器350位于第二盒体120的一侧边120S。管线340连接第二盒体120的第二容置空间122与一栗,而感测器350则设置以感测第二容置空间122中的溶剂层高度。请同时参阅图2,具体而言,当第二容置空间122的溶剂层210D累积至一定高度时,感测器350会发射信号以启动栗来抽取溶剂层210D至一收集槽中,其中栗与收集槽的设置方式将于其后详述。与已知技术相比较,本实用新型的实施方式揭露的废液处理装置100能控制废液的沉积机制,使栗主要抽取具有较小粘度的溶剂,借此避免管线340被高粘度的封装材料所堵塞。据此,可节省替换与清洗管线340的人力成本,更相对的增加了栗寿命,而提升生产效率并降低成本。
[0058]请继续参阅图4,其绘示本实用新型部分实施方式的一种晶圆处理装置的剖面示意图。晶圆处理装置400包含一晶圆腔室410、一泄液管线420、如前所述的废液处理装置100以及一收集腔室430。其中,晶圆腔室410位于废液处理装置100上方,而泄液管线420位于晶圆腔室410与废液处理装置100之间并连接两者,而收集腔室430位于废液处理装置100的一侧并通过管线340连接至废液处理装置100。
[0059 ]晶圆腔室410中具有一晶圆基座412,其设置以置放一晶圆。在封装过程中,会以喷洒涂布、旋转涂布或任何合适的方式将溶剂与封装材料形成至晶圆上,而多余的溶剂与封装材料则受重力影响流向晶圆腔室410的底部,并沿着泄液管线420流往废液处理装置100,且此泄液管线420连接至废液处理装置100的进液口 150。溶剂与封装材料进入废液处理装置100的流动与沉积机制可参阅图1与图2的说明,在此不再详述。
[0060]收集腔室430中具有一栗432与一收集槽434,其中栗432连接至管线340,其能接受废液处理装置100的感测器350发射的信号,进而启动以抽取第二容置空间122中的溶剂层210D,而抽取的溶剂层210D再通过栗432传送至收集槽434中。
[0061]与已知技术相比较,本实用新型的废液处理装置具有多个隔板以将容置空间区隔成多个沉积区域。利用封装材料比重较大的性质,此些隔板的开口设置于高处使封装材料不易进入下一个沉积区域中。据此,在通过多个沉积区域后,废液中几乎只具有溶剂,而栗可直接抽取低粘度的溶剂以防止管线堵塞而降低栗寿命的情事发生。另一方面,为使封装材料具有较长的流动时间以提升沉积效果,各个沉积区域的废液入口与废液出口分别设置于对角线处以拉长流动距离。再者,此些隔板的开口的高度沿着废液的流动方向递减,以使废液能受重力影响而提高流动性。综前所述,本实用新型废液处理装置能大幅减少耗材成本并降低人力成本,而有效提升制程效率。
[0062]以上所述仅为本实用新型较佳实施例,然其并非用以限定本实用新型的范围,任何熟悉本项技术的人员,在不脱离本实用新型的精神和范围内,可在此基础上做进一步的改进和变化,因此本实用新型的保护范围当以本申请的权利要求书所界定的范围为准。
【主权项】
1.一种废液处理装置,其特征在于,包含: 第一盒体,其内部形成第一容置空间,并具有位于该第一盒体的侧边的第一连接开口 ; 第一隔板,设置于该第一容置空间中并具有第一开口 ;以及 第二盒体,其内部形成第二容置空间,并具有对应该第一连接开口的第二连接开口,以连接该第一容置空间与该第二容置空间, 其中,该第一连接开口的高度低于该第一开口的高度。2.根据权利要求1所述的废液处理装置,其特征在于,还包含第二隔板,该第二隔板设置于该第一容置空间中,并位于该第一隔板与该侧边之间。3.根据权利要求2所述的废液处理装置,其特征在于,该第二隔板具有第二开口,该第二开口的高度低于该第一开口的高度且高于该第一连接开口的高度。4.根据权利要求3所述的废液处理装置,其特征在于,该第一隔板与该第二隔板将该第一容置空间区隔为第一区、第二区与第三区,该第一开口连接该第一区与该第二区,而该第二开口连接该第二区与该第三区。5.根据权利要求4所述的废液处理装置,其特征在于,该第一开口与该第二开口分别位于该第二区的对角线处,而该第二开口与该第一连接开口分别位于该第三区的对角线处。6.根据权利要求4所述的废液处理装置,其特征在于,还包含第一外盖部,该第一外盖部设置于该第一盒体上方,且具有连接于该第一区的进液口。7.根据权利要求6所述的废液处理装置,其特征在于,该进液口与该第一开口分别位于该第一区的对角线处。8.根据权利要求1所述的废液处理装置,其特征在于,还包含: 管线,连接于该第二盒体;以及 感测器,位于该第二盒体的侧边。9.根据权利要求1所述的废液处理装置,其特征在于,该第一连接开口的高度介于60mm至7 Omm之间。10.根据权利要求1所述的废液处理装置,其特征在于,还包含设置于该第二盒体上方的第二外盖部。
【文档编号】C02F1/52GK205575742SQ201620241642
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2016年3月25日
【发明人】周宪宏, 林意展, 卢世贤, 洪坤廷, 黄虎杰, 吴纪彦
【申请人】精材科技股份有限公司
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