专利名称：一种气流分布器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及制氧系统中的吸附塔，具体涉及吸附塔内部的气流分布器。
背景技术：
真空变压吸附制氧系统通过过滤器将空气初步净化后由鼓风机对其进行增压，之 后经过吸附器的进一步净化处理得到纯净的氧气。吸附器内的吸附剂长时间使用达到饱和 后，由罗茨真空泵对其进行抽真空解吸，使吸附塔内部的吸附剂再生。现有吸附塔的进气端设置有下气流分布器，在空气进入吸附塔时将空气有效地分 布，保证空气均勻的进入吸附塔内的分子筛中。由于气体经过分子筛后集中于氧气出气口 的下方，在罗茨真空泵对饱和的吸附剂进行解吸时，先将吸附塔内的气体均压降压至另一 吸附塔，在均压过程中集中在一起的气体对分子筛的冲击过大，加快了分子筛的粉化，严重 影响分子筛的使用寿命。因此，一种可对吸附塔内部气体进行有效分布的分布器亟待出现。
实用新型内容本实用新型公开了一种气流分布器，以达到有效分布吸附塔内部气流的目的。本实用新型的技术方案如下—种气流分布器，装设于吸附塔内，所述吸附塔上方设置有出气口，所述吸附塔的 底部设置有进气口，所述吸附塔内还设置有吸附剂；所述吸附剂包括分子筛以及位于所述 分子筛下方用于干燥气体的氧化铝，所述分子筛上方还设置有分子筛压紧机构，所述分子 筛通过所述分子筛压紧机构固定在所述吸附塔内，所述氧化铝的下方设置有盛放氧化铝的 氧化铝槽，所述氧化铝通过所述氧化铝槽固定在所述吸附塔内；所述气流分布器包括上气 流分布器与下气流分布器，所述下气流分布器固定于所述氧化铝槽的下方且与所述进气口 相对应，所述上气流分布器固定于所述出气口与所述分子筛压紧机构之间。优选的，所述上气流分布器为分流板。优选的，所述分流板上设置有通孔。优选的，所述分流板上还设置有凸起。本实用新型公开的吸附塔气流分布器，通过在氧气出气口与分子筛之间固定设有 上气流分布器，保证在对吸附塔内气体进行均压降压时，氧气出气口的气体返吹，经过上气 流分布器将聚集的气体分散开后，均勻的通过分子筛，避免了对分子筛直接冲击造成的损 害，保证了分子筛的使用寿命。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例 或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅 是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本实用新型公开的一种设有气流分布器的吸附塔的结构示意图；图2为本实用新型公开的一种气流分布器中上气流分布器实施例1的结构示意 图；图3为本实用新型公开的一种气流分布器中上气流分布器实施例2的结构示意 图。图中的数字或字母所表示的相应部件的名称11、塔体12、分子筛13、氧化铝14、分子筛压紧机构15、氧化铝槽16、进气口 17、下气流分布器18、出气口 19、分流板21、通孔31、凸起具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行 清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的 实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下 所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。本实用新型公开的吸附塔气流分布器，通过在吸附塔的出气口处设置气流分布 器，有效地分散均压时返吹的气体，避免了气体返吹时对分子筛的直接冲击，保证了分子筛 的使用寿命。如图1所示，为本实用新型公开的一种设有气流分布器的吸附塔的结构示意图， 吸附塔内设置有由分子筛12以及位于分子筛12下方用于对气体进行干燥的氧化铝13，分 子筛12的上方还设置有分子筛压紧机构14，分子筛12通过分子筛压紧机构14固定在塔体 11内，氧化铝13的下方设置有氧化铝槽15，氧化铝13通过氧化铝槽15固定塔体11内。气流分布器包括上气流分布器与下气流分布器17，下气流分布器17固定于氧化 铝槽13的下方且与气体进气口 16相对应，上气流分布器位于出气口 18与分子筛压紧机构 14之间，上气流分布器为分流板19，分流板19为耐腐蚀性的材料，如钢板、合金等，具体视 情况而定。实施例1，如图2所示，分流板19上设置有通孔21，通孔21均勻分布于分流板19 除与出气口 18投影相对应的其他位置，用于将聚集在出气口 18处的气体在返吹时分散开 来，避免气体直接冲击分子筛12造成分子筛12加速粉化，保证了分子筛12的使用寿命。分 流板19通过螺栓固定在塔体11内，固定方式除采用螺栓固定外，还可采用其他方式固定， 在此不作限制。通孔21的数量以及具体位置视具体情况而定，在此不做限制。实施例2，如图3所示，分流板19上设置有凸起31，出气口 18处聚集的气体返吹 时，气体通过凸起31缓冲后从分流板19的边沿进入分子筛12中，降低了气体进入分子筛 12的速度，降低了气体对分子筛12的损害。凸起的形状不限，且数量、大小均视情况而定。分流板19上还可同时设置通孔与凸起，或采用其他结构，只要能有效地保证气流 分散与缓冲即可，在此不作限制。本实用新型的工作原理如下吸附剂饱和时，进入吸附塔内的气体聚集在出气口 18处，在对气体进行均压时， 气体通过分流板19上的通孔21将气体分散或经分流板19上的凸起31将气体缓冲，之后气体经过分子筛12通过进气口 16均压到另一吸附塔中。本实用新型公开的吸附塔气流分布器，通过在氧气出气口与分子筛之间固定设有 上气流分布器，保证在对吸附塔内气体进行均压降压时，氧气出气口的气体返吹，经过上气 流分布器将聚集的气体分散开后，均勻的通过分子筛，避免了对分子筛直接冲击造成的损 害，保证了分子筛的使用寿命。以上为对本实用新型实施例的描述，通过对所公开的实施例的上述说明，使本领 域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技 术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或 范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实 施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
权利要求1.一种气流分布器，装设于吸附塔内，所述吸附塔上方设置有出气口，所述吸附塔的底 部设置有进气口，所述吸附塔内还设置有吸附剂，所述吸附剂包括分子筛以及位于所述分 子筛下方用于干燥气体的氧化铝，所述分子筛上方还设置有分子筛压紧机构，所述分子筛 通过所述分子筛压紧机构固定在所述吸附塔内，所述氧化铝的下方设置有盛放氧化铝的氧 化铝槽，所述氧化铝通过所述氧化铝槽固定在所述吸附塔内；其特征在于，所述气流分布器 包括上气流分布器与下气流分布器，所述下气流分布器固定于所述氧化铝槽的下方且与所 述进气口相对应，所述上气流分布器固定于所述出气口与所述分子筛压紧机构之间。
2.根据权利要求1所述的吸附塔气流分布器，其特征在于，所述上气流分布器为分流板。
3.根据权利要求2所述的吸附塔气流分布器，其特征在于，所述分流板上设置有通孔。
4.根据权利要求2所述的吸附塔气流分布器，其特征在于，所述分流板上设置有凸起。
专利摘要一种气流分布器，装设于吸附塔内，所述吸附塔上方设置有出气口，所述吸附塔的底部设置有进气口，所述吸附塔内还设置有吸附剂，所述吸附剂包括分子筛以及位于所述分子筛下方用于干燥气体的氧化铝；所述气流分布器包括上气流分布器与下气流分布器，所述下气流分布器固定于所述氧化铝槽的下方且与所述进气口相对应；所述上气流分布器固定于所述出气口与所述分子筛压紧机构之间。本实用新型公开的气流分布器通过在吸附塔的出气口处设置上气流分布器，减少了气体返吹时对分子筛的损害，保证了分子筛的使用寿命。
文档编号B01D53/047GK201825724SQ20102058049
公开日2011年5月11日 申请日期2010年10月28日 优先权日2010年10月28日
发明者岳文元, 张铁力, 王志明, 钱建忠, 颜小建 申请人:昆山锦程气体设备有限公司