一种制氮机吸附器气流均匀分布装置的制作方法

文档序号:4896217阅读:239来源:国知局
专利名称:一种制氮机吸附器气流均匀分布装置的制作方法
技术领域
本实用新型涉及制氮机吸附器领域,具体涉及一种制氮机吸附器气流均匀分布装置。
背景技术
在制氮机吸附器的运行的过程中,吸附器在工作时,气体由底部进入吸附器,由于进气口较小,而吸附器直径较大,空气在分子筛空隙经过时气阻较大,难以从进气口向周围扩散,使得气体不能在吸附器中均匀分布,大量的分子筛没有被充分利用,从而影响到制氮
机的产气质量、产量。

发明内容为了克服上述现有技术的缺点,本实用新型的目的是在于提供一种制氮机吸附器气流均匀分布装置,能使气体进入吸附器后均匀分布,将吸附器中的分子筛充分利用以提高效率,降低成本,提高质量及产气量。为了达到上述目的,本实用新型采取的技术方案为一种制氮机吸附器气流均匀分布装置,包括制氮机吸附器1,在氮机吸附器I的底部的球冠型封头结构上焊接一种曲率半径大于原封头的孔状球面结构2。由于设置有孔状球面结构2,能使气体进入吸附器后均匀分布,将吸附器中的分子筛充分利用以提高效率,降低成本,提高质量及产气量。

附图为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型做详细描述。参照附图,一种制氮机吸附器气流均匀分布装置,包括制氮机吸附器1,在氮机吸附器I的底部的球冠型封头结构上焊接一种曲率半径大于原封头的孔状球面结构2。本实用新型的工作原理气体进入吸附器时首先进入由两个球冠型构成的空间,在这个空间中没有填装分子筛,气阻可以忽略不计,气体可以均匀的分布其中,经过小孔后,气体可均匀的在吸附器向上部流动,吸附器中的分子筛可全部被利用,发挥了吸附器中的最大效能。
权利要求1.一种制氮机吸附器气流均匀分布装置,包括制氮机吸附器(1),其特征在于在氮机吸附器(I)的底部的球冠型封头结构上焊接一种曲率半径大于原封头的孔状球面结构⑵。
专利摘要一种制氮机吸附器气流均匀分布装置,包括制氮机吸附器,在氮机吸附器的底部的球冠型封头结构上焊接一种曲率半径大于原封头的孔状球面结构,气体进入吸附器时首先进入由两个球冠型构成的空间,在这个空间中没有填装分子筛,气阻可以忽略不计,气体可以均匀的分布其中,经过小孔后,气体可均匀的在吸附器向上部流动,吸附器中的分子筛可全部被利用,发挥了吸附器中的最大效能。由于设置有孔状球面结构,能使气体进入吸附器后均匀分布,将吸附器中的分子筛充分利用以提高效率,降低成本,提高质量及产气量。
文档编号B01D53/04GK202620980SQ20122027204
公开日2012年12月26日 申请日期2012年6月5日 优先权日2012年6月5日
发明者陈永忠 申请人:西安通建电信设备有限责任公司
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