一种新型气体分布器的制作方法

本发明涉及化工设备领域，特别涉及一种应用化工分离装置中的气体分布器。

背景技术：

在化工生产中，通常需要将塔外的气体导入到塔中与塔内设置的处理层(如吸附层、催化剂层等)接触进行处理或化学反应。然而，直接将塔外气体通入到塔内常常会引起气体的不均匀分布，会出现气体局部集中或者出现气体死区(没有气体流入)等情况，严重影响了塔内处理层的处理效果和反应效率。为了避免这中情况，常常在塔内安装气体分布器，使进入到塔内的气体能够均匀的分布到处理层。目前，常用的一种气体分布器是条形气体分布器，气体通过进气口后从条形低端的分布孔流出，这种分布器在一定程度上可以实现气体的均匀分布，但也存在一些不足，由于采用了条形分布通道，降低了气体分布的分布点，从塔外引入的气体有时会产生泡沫或带有杂质，这种气体会堵塞气体分布通道，直接降低了气体分布器的分布效果，这样会大大降低塔内处理层的工作效果。因此，开发一种能够具有足够的体分布点、能够除去气体中的杂质、结构简单、制造方便的新型气体分布器显得非常重要。

本发明就是要克服现有一些气体分布器的不足，提供一种新型气体分布器，该气体分布器既有足够的气体分布点，也能够去除进气中的杂质，结构简单、制造方便。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题是：提供一种新型气体分布器，该气体分布器具有条形分布通道和环形分布通道，条形分布通道与进气口相连通，环形分布通道与条形分布通道相互连通，在分布通道的下端开有一定数量的圆形分布孔，这样可以大大提高分布器分布点的数量，增加了气体分布圆孔的开孔率，同时在条形分布通道的进口处具有过滤网装置，可以除去气体中携带的杂质，提高了气体分布器的分布效率。

为了解决上述问题，本发明是通过以下技术来实现的，

一种新型气体分布器，包括进气口、条形通道、环形通道、过滤网、分布孔。进气口位于气体分布器中央位置处，为圆柱型结构，与条形分布通道相连通；条形分布通道为水平柱状结构，一端与进气口连通另一端与环形分布通道连通；环形分布通道为圆环型结构，两端分别与条形分布通道连通；过滤网位于条形分布通道的进口处，过滤网采用防腐蚀材质构成；分布孔为圆形通孔，均匀的分布在条形分布通道和环形分布通道的底端，圆形分布孔孔径为6一10mm。塔外引入的气体通过分布器的进气口进入到气体分布器内，通过条形分布通道中的过滤网除去其中的杂质和泡沫，气体先流入到条形分布通道，然后流到环形分布通道，最后 充满整个分布通道内，通过通道下端均匀分布的气体分布孔流出，均匀的分布到处理层，这样防止了气体局部集中或出现死区的情况，大大的提高了气体分布器的工作效率。

该气体分布器具有条形分布通道和环形分布通道，两通道互相连通在一起。

该气体分布器具有条形分布通道，条形分布通道端口处具有过滤装置。

该气体分布器具有气体分布通道，分布通道底面上具有圆形分布孔，分布孔的孔径为6

一10mm。

该气体分布器的气体分布圆孔开孔率为80一90％。

采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：

新型气体分布器，具有条形分布通道和环形分布通道，环形分布通道与条形分布通道互相连通，在分布通道的下端开有一定数量的圆形分布孔，这样可以增加分布器分布点的开孔率，大大提升了气体分布的均匀度，同时在条形分布通道的进口出具有过滤网装置，可以除去气体中携带的杂质，提高了气体分布器的分布效率，该气体分布器结构简单、制造方便。

因此，本发明与现有的气体分布器相比，具有突出的优点在于：(1)能够大大提高气体分布器的分布效率，提高气体的分布均匀度；(2)除去气体中携带的杂质或者泡沫；(3)结构稳定性好，结构简单，制造方便。

附图说明

附图1是本发明的结构示意图。

附图1中：1.进气口；2.条形分布通道；3.环形分布通道；4.分布孔；5.过滤网。

附图2是本发明气体分布器的主视图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明做进一步说明。进气口1位于气体分布器中央位置处，为圆柱型结构，与条形分布通道2相连通。条形分布通道2为水平柱状结构，一端与进气口连通另一端与环形分布通道3连通。环形分布通道3为圆环型结构，两端分别与条形分布通道2连通。过滤网5位于条形分布通道2的进口处，过滤网5采用防腐蚀材质构成。分布孔4为圆形通孔，均匀的分布在条形分布通道2和环形分布通道3的底端，圆形分布孔孔径为6一10mm。塔外引入的气体通过分布器的进气口1进入到气体分布器内，通过条形分布通道2中的过滤网5除去其中的杂质和泡沫，气体先流入到条形分布通道2，然后流到环形分布通道3，最后充满整个分布通道内，最后通过通道下端均匀分布的气体分布孔4流出，均匀的分布到处理层，这样防止了气体局部集中或出现死区的情况，大大的提高了处理层的工作效率。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明而并非限制本发明所描述的技术方案；因此，尽管本说明书参照上述的实施例对本发明已进行了详细的说明，但是，本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本发明进行修改或者等同替换；而一切不脱离本发明的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。