一种真空均质搅拌机的制作方法

本实用新型涉及乳化机技术领域，尤其是涉及一种真空均质搅拌机。

背景技术：

真空均质搅拌机是集混合、分散、均质、乳化及吸粉多功能于一体的成套系统，也可配合外围油相罐、水相罐、抽真空系统、加热/冷却系统等使用。是生产药用软膏、高档膏霜、乳液等的专用设备。广泛应用于日化护理品、涂料油墨、纳米材料、印染助剂、造纸工业、农药化肥、塑料橡胶等领域。

在高粘性乳化物、特别是膏霜、软膏、乳剂类产品的制造工艺中，通常的问题是分散相的粒径大和搅拌时把空气混入制品中，制品中混入空气会使制品气泡化、细菌污染、易氧化及外观不光滑。针对上述问题，真空均质乳化机组，由均质搅拌器、中心叶片搅拌、刮壁搅拌各自具有的特点相辅相成，组合成最佳的搅拌方式，以达到完美混合制品。

但是在现有的技术中，其盛放材料的搅拌容器往往不能够进行有效的密封，导致搅拌后的产品产生气泡，以及卫生条件达不到要求，且均质效果不好。

技术实现要素：

本实用新型提供一种真空均质搅拌机，以解决上述现有技术中搅拌机的均质效果不好的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种真空均质搅拌机，包括：底座，控制箱，设置在底座的一侧，其中控制箱设有支撑轴，支撑轴上设置有安装箱；储料箱，设置在底座的另一侧上；搅拌槽，设置在控制箱和储料箱之间的底座上，以通过储料箱输送搅拌液至搅拌槽；搅拌装置，可移动设置在安装箱上，且位于搅拌槽的正上方，用于对搅拌槽进行搅拌；其中，安装箱内设有第一电机和第二电机，搅拌装置包括液压升降开盖、均质搅拌器和刮壁搅拌器，液压升降开盖可移动设置在安装箱中，以通过液压升降开盖密封搅拌槽，均质搅拌器设置在液压升降开盖下方，且第一电机与均质搅拌器连接，以通过第一电机控制均质搅拌器转动，刮壁搅拌器设置在液压升降开盖下方，且环绕设置在均质搅拌器外，且第二电机与刮壁搅拌器连接，以通过第二电机控制刮壁搅拌器转动。

其中，均质搅拌器远离液压升降开盖的一端设有转子。

其中，刮壁搅拌器设有搅拌叶，搅拌叶设有多个高度不相等的锯齿。

其中，底座上设有真空泵，真空泵通过气管与搅拌槽内部连通。

其中，搅拌槽连接有蒸汽管道和制品出料管道，制品出料管道设置在搅拌槽的底部，蒸汽管道分布在搅拌槽上。

其中，储料箱包括水相溶解槽和油相溶解槽，水相溶解槽和油相溶解槽分别与搅拌槽通过水相管和油相管道连接。

其中，搅拌槽上方还连接有添加物管道。

其中，第一电机的转速比第二电机的转速快，第一电机为高速电机。

本实用新型所取得的有益效果是：本实用新型真空均质搅拌机包括：底座，控制箱，设置在底座的一侧，控制箱设有支撑轴，其中支撑轴上设置有安装箱；储料箱，设置在底座的另一侧上；搅拌槽，设置在控制箱和储料箱之间的底座上；搅拌装置，位于搅拌槽的正上方；其中，安装箱内设有第一电机和第二电机，搅拌装置包括液压升降开盖、均质搅拌器和刮壁搅拌器，液压升降开盖可移动设置在安装箱中，均质搅拌器设置在液压升降开盖下方，且第一电机与均质搅拌器连接，刮壁搅拌器设置在液压升降开盖下方，且环绕设置在均质搅拌器外，且第二电机与刮壁搅拌器连接。通过上述方式，本实用新型的真空均质搅拌机具有不同的搅拌速度，使得其均质效果好，且密封条件好，搅拌槽内部空间能够达到真空状态，达到卫生无菌要求。

附图说明

图1是本实用新型真空均质搅拌机的立体结构示意图；

图2是图1中真空均质搅拌机的工作流程示意图。

附图标记说明：1、控制箱，2、搅拌槽，3、搅拌装置，4、储料箱，5、底座，11、支撑轴，21、真空泵，22、蒸汽管道，24、添加物管道，23、制品出料管道，31、转子，32、安装箱，33、液压升降开盖，34、均质搅拌器，35、刮壁搅拌器，351、搅拌叶，41、水相溶解槽，42、油相溶解槽，43、水相管道，44、油相管道。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式对本实用新型进行详细说明。

参照图1和图2所示，图1是本实用新型真空均质搅拌机的立体结构示意图，图2是图1中真空均质搅拌机的工作流程示意图。该真空均质搅拌机包括底座5、控制箱1、储料箱4、搅拌槽2、搅拌装置3和安装箱32。

底座5起支撑整个真空均质搅拌机的作用，具体用于承载控制箱1、储料箱4、搅拌槽2和搅拌装置3。

控制箱1设置在底座5的一侧，其中控制箱1设有支撑轴11，具体地，控制箱1上间隔设有两根支撑轴11，控制箱1可以控制支撑轴11上升或下降。应理解，支撑轴11可以直接设置在底座5上，如底座4上间隔设有两根支撑轴11。其中支撑轴11上设置有安装箱32。其中，安装箱32内设有第一电机和第二电机。具体地，第一电机和第二电机用于驱动搅拌装置3工作。在本实施例中，第一电机的转速比第二电机的转速快，且第一电机为高速电机，第二电机为低速电机如步进电机。

储料箱4用于盛放搅拌液，该搅拌液具体可以是软膏、高档膏霜、乳液。其中，储料箱4设置在底座5的另一侧上。优选地，储料箱4包括水相溶解槽41和油相溶解槽42，水相溶解槽41与搅拌槽2通过水相管道43连接，油相溶解槽42与搅拌槽2通过油相管道44连接。

搅拌槽2设置在控制箱1和储料箱3之间的底座5上，以通过储料箱4输送搅拌液至搅拌槽2。优选地，底座5上设有真空泵21，真空泵21通过气管与搅拌槽2内部连通，以进行抽真空。

搅拌装置3可移动设置在安装箱32上，且位于搅拌槽2的正上方，用于对搅拌槽2进行搅拌。优选地，搅拌装置3可上下移动设置在安装箱32上。具体地，在搅拌装置3盖在搅拌槽2时，真空泵21通过气管将搅拌槽2和搅拌装置3所形成的内部空间抽成真空状态，使得内部的环境达到卫生条件的要求，搅拌后的产品不会形成气泡。

具体地，搅拌装置3包括液压升降开盖33、均质搅拌器34和刮壁搅拌器35，液压升降开盖33可移动设置在安装箱32中，即液压升降开盖33可相对安装箱32上下移动，以通过液压升降开盖33密封设置在搅拌槽2上。均质搅拌器34设置在液压升降开盖33下方，即均质搅拌器34可随液压升降开盖33一起上下移动，且第一电机与均质搅拌器34连接，以通过第一电机控制均质搅拌器34转动。刮壁搅拌器35设置在液压升降开盖33下方，即刮壁搅拌器35可随液压升降开盖33一起上下移动，且刮壁搅拌器35环绕设置在均质搅拌器34外，且第二电机与刮壁搅拌器35连接，以通过第二电机控制刮壁搅拌器35转动。

在本实施例中，均质搅拌器34远离液压升降开盖33的一端设有转子31。具体地，均质搅拌器34包括与第一电机连接的第一转轴和与第一转轴固定连接的转子31。刮壁搅拌器35包括中空的第二转轴、第三转轴和搅拌叶351，第二转轴和第三转轴均与第二电机连接，第二转轴包裹第一转轴，第三转轴围绕设置在第二转轴外，且第二转轴和第三转轴均设有搅拌叶351，而搅拌叶351设有多个高度不相等的锯齿。在本实施例中，均质搅拌器34对搅拌液进行打碎和分散，即转子31对搅拌槽2底部的搅拌液进行搅拌，刮壁搅拌器35对搅拌液进行搅拌，即搅拌叶351设置成不同尺寸的锯齿状，可以使得在搅拌槽2内的搅拌液更加分散起到充分搅拌。

通过上述方式，第一电机的转速和第二电机的转速不同，可以使得均质搅拌器34和刮壁搅拌器35所转动的转速可以不同，实现不同的搅拌效果；且刮壁搅拌器35环绕设置在均质搅拌器34外，将两个搅拌器分离独立工作，对搅拌槽2内的搅拌液起到在不同转速和空间下的较好的搅拌效果。

更进一步地，搅拌槽2连接有蒸汽管道22和制品出料管道23，蒸汽管道22分布在搅拌槽2上，用于输入蒸汽为搅拌槽2加热，制品出料管道23设置在搅拌槽2的外壁的底部，用于输出蒸汽。制品出料管道23设置在搅拌槽2的外壁的底部，当对搅拌液搅拌好后，通过打开制品出料管道23上的出料阀就可以输出蒸汽。采用上述方式，蒸汽在搅拌槽2的外壁的空间运动给搅拌槽2加温，从而对搅拌液进行加温。当搅拌好后，通过控制阀51来控制搅拌槽2将搅拌好的搅拌液倒出。

搅拌槽2上方还连接有添加物管道24，对有些搅拌液需要添加添加物时，可通过该添加物管道24上的添加物添加口加入。其中该添加剂管道24将管道上的阀关闭后保持搅拌槽2内部空间密封，处于真空状态。

本实用新型在具体实施时，控制箱1控制支撑轴11下降，使得搅拌装置3下降，液压升降开盖33盖在搅拌槽2上将其密封。这时真空泵21工作，将搅拌槽2内部的空间抽成真空状态，继而打开储料箱4和搅拌槽2之间的阀门，将储料箱4里的搅拌液输送至搅拌槽2内进行搅拌。然后驱动第一电机和第二电机启动，均质搅拌器34为快速搅拌，而刮壁搅拌器35为慢速搅拌，均质搅拌器34采用高剪切涡流式乳化搅拌机，慢速刮壁搅拌器35自动紧贴锅底及锅壁，对搅拌液实现不同速搅拌，使得对搅拌液的搅拌更加充分。本实用新型采用真空吸料，特别对粉体物料利用真空吸入避免粉尘飞扬。整个工序在真空条件下进行，防止物料在高速搅拌后产生气泡，能达到卫生无菌要求。

综上，本实用新型真空均质搅拌机包括：底座，控制箱，设置在底座的一侧，控制箱设有支撑轴，其中支撑轴上设置有安装箱；储料箱，设置在底座的另一侧上；搅拌槽，设置在控制箱和储料箱之间的底座上；搅拌装置，位于搅拌槽的正上方；其中，安装箱内设有第一电机和第二电机，搅拌装置包括液压升降开盖、均质搅拌器和刮壁搅拌器，液压升降开盖可移动设置在安装箱中，均质搅拌器设置在液压升降开盖下方，且第一电机与均质搅拌器连接，刮壁搅拌器设置在液压升降开盖下方，且环绕设置在均质搅拌器外，且第二电机与刮壁搅拌器连接。通过上述方式，本实用新型的真空均质搅拌机具有不同的搅拌速度，使得其均质效果好，且密封条件好，搅拌槽内部空间能够达到真空状态，达到卫生无菌要求。

以上所述仅为本实用新型的实施方式，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。