反应釜的制作方法

文档序号:14604603发布日期:2018-06-05 19:26阅读:338来源:国知局
反应釜的制作方法

本实用新型涉及一种反应容器,更具体地说,它涉及一种反应釜。



背景技术:

反应釜是综合反应容器,根据反应条件对反应釜结构功能及配置附件进行设计。从开始的进料-反应-出料均能够以较高的自动化程度完成预先设定好的反应步骤,对反应过程中的温度、压力、力学控制(搅拌、鼓风等)、反应物/产物浓度等重要参数进行严格的调控。其结构一般由釜体、传动装置、搅拌装置、加热装置、冷却装置、密封装置组成。相应配套的辅助设备:分馏柱、冷凝器、分水器、收集罐、过滤器等。

由于聚酯反应时,产物的黏度一般较大,卸料后,产物粘附在反应室的内侧壁上难以下流,导致产物在反应室内积累,由于聚酯反应是通过小分子酸和醇聚合,其分子量经历了从小到大的过程,且一般对最终产物有分子量的要求,而酸和醇的反应为羧基与羟基的反应,若想控制分子量,只能通过控制羧基与羟基的比例以实现封端,若产物留滞在反应室内,并直接进行下一次反应,将影响反应室内各组分反应物的平衡,使得封端效果与预期出现差异,导致分子量控制不稳定,影响产品质量,因此需要向反应室内加入溶剂以对反应室进行清洗,但由于反应室属于相对密闭的空间,难以人工对反应室的侧壁进行擦拭,使得清洗工作较为困难,清洗效果不佳,还有改善空间。



技术实现要素:

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种反应釜,具有清洗效果较佳的优点。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:

一种反应釜,包括釜体、位于釜体内绕竖直方向转动的搅拌装置以及驱动搅拌装置转动的动力部,还包括有与动力部连接的传动组件,所述搅拌装置上设有在传动组件传动下自转的且与釜体的内侧壁靠近但不贴合的第一搅拌件,所述第一搅拌件跟随搅拌装置公转。

采用上述技术方案,由于越靠近第一搅拌件的溶剂流速越快,通过第一搅拌件靠近釜体的内侧壁自转以带动局部的溶剂高速运动,提高溶剂的冲刷效果,同时,通过第一搅拌件跟随搅拌装置公转,以提高第一搅拌件清洗釜体的内侧壁的作用面积,在反应时,通过第一搅拌件自转对反应物局部搅拌,同时配合第一搅拌件的公转使得整体反应物的流动状态不只单一的旋转,使得反应物的流动状态更加复杂,提高了分子间碰撞几率,进而提高了反应效率。

优选的,所述第一搅拌件包括竖直设置且绕其轴线转动的第一转轴以及沿第一转轴的圆周方向分布的第一搅拌叶。

采用上述技术方案,通过第一搅拌叶带动溶剂或反应物转动,以提高第一搅拌件对溶剂的作用面积,提高第一搅拌件的搅拌效果。

优选的,所述第一搅拌叶有多个且均布在第一转轴的圆周方向上。

采用上述技术方案,通过多个均布的第一搅拌叶,提高第一搅拌件对溶剂或反应物的作用面积,同时使得第一搅拌件的重力分布更均衡,提高第一搅拌件转动时的稳定性。

优选的,所述第一搅拌叶的长度与第一转轴的长度一致。

采用上述技术方案,由于第一搅拌叶的长度与第一转轴的长度一致,提高了第一搅拌叶驱动溶剂流动的作用面积,提高清洗效果,提高了第一搅拌叶驱动反应物流动的作用面积,提高反应效率。

优选的,所述搅拌装置包括竖直设置且受动力部驱动的主动轴,所述主动轴绕自身轴线转动,所述主动轴上成夹角设有第二搅拌件。

采用上述技术方案,通过成夹角设置的第二搅拌件,使得第二搅拌件跟随主动轴转动时带动反应物运动,提高搅拌装置对反应物搅拌的作业面积,提高搅拌效果,通过第二搅拌件带动溶剂运动,使为溶剂运动提供更多动力,提高溶剂对釜体的内侧壁冲刷清洗的效果。

优选的,所述第二搅拌件与主动轴垂直。

采用上述技术方案,通过第二搅拌件与主动轴垂直,使得第二搅拌件延伸至靠近釜体的内侧壁时所需长度最短,保证搅拌效果的同时降低耗材。

优选的,所述第二搅拌件包括绕自身的长度方向自转的第二转轴以及沿第二转轴的圆周方向分布的第二搅拌叶。

采用上述技术方案,通过第二搅拌件自转,以对溶剂产生局部搅拌,由于第二搅拌件倾斜设置,使得第二搅拌件与第一搅拌件的转动轴线不平行,提高了溶剂整体的流动复杂度,使得溶剂在釜体内成紊流状,提高溶剂对釜体的内侧壁的冲刷效果,通过第二搅拌件局部搅拌反应物,更进一步的提高分子碰撞几率,同时配合第一搅拌件使反应物的运动复杂多变,更进一步提高反应物的反应效率。

优选的,所述第二搅拌叶有多个且均布在第二转轴的圆周方向上。

采用上述技术方案,通过多个均布的第二搅拌叶,提高第二搅拌件对溶剂或反应物的作用面积,同时使得第二搅拌件的重力分布更均衡,提高第二搅拌件转动时的稳定性。

优选的,所述第二搅拌叶的长度与第二转轴的长度一致。

采用上述技术方案,由于第二搅拌叶的长度与第二转轴的长度一致,提高了第二搅拌叶驱动溶剂流动的作用面积,提高清洗效果,提高了第二搅拌叶驱动反应物流动的作用面积,提高反应效率。

综上所述,本实用新型具有以下有益效果:通过第一搅拌件靠近釜体的内侧壁转动以带动溶剂更好的冲刷釜体的内侧壁,通过第一搅拌件跟随搅拌装置公转以保证第一搅拌件带动溶剂冲刷釜体的内侧壁的作用面积,通过第二搅拌件与第一搅拌件配合使溶剂成紊流状,提高溶剂对釜体的内侧壁冲刷清洗的效果,通过第一搅拌件与第二搅拌件对反应物局部的提高分子碰撞几率,同时因第一搅拌件与第二搅拌件的转动轴线不平行,提高反应物运动的复杂度,整体提高了分子碰撞几率,提高反应效率。

附图说明

图1为本实施例中反应釜的整体结构示意图;

图2为本实施例中用于示意反应釜内部结构的示意图;

图3为本实施例中用于示意传动组件的结构示意图。

图中:1、支座;11、支撑柱;12、支撑板;2、釜体;21、投料口;22、卸料口;23、反应室;24、外壳;3、搅拌装置;31、主动轴;32、上搅拌条;33、下搅拌条;4、动力部;41、第一电机;42、第二电机;5、第一搅拌件;51、第一转轴;52、第一搅拌叶;6、第二搅拌件;61、第二转轴;62、第二搅拌叶;7、传动组件;71、第一传动轴;72、第二传动轴;73、第三传动轴。

具体实施方式

下面结合附图及实施例,对本实用新型进行详细描述。

一种反应釜,参照图1以及图2,包括支座1,支座1上安装有釜体2,釜体2内设有搅拌装置3,釜体2上还设有驱动搅拌装置3的动力部4。

支座1包括沿竖直方向设置的支撑柱11,支撑柱11朝向地面的端部设有直径大于支撑柱11的支撑板12,支撑柱11共八个,沿圆形均布,通过支撑板12提高与地面的接触面积,提高稳定性。

参照图2,釜体2固定在支撑柱11上,釜体2包括内部中空的圆柱型的反应室23,反应室23外包裹有与反应室23的外壁密封连接的外壳24,外壳24与反应室23的侧壁留有间距以形成夹层空间,通过往夹层空间内注入被加热的油以对反应室23进行加热,通过控制油温以对反应室23控温。

反应室23的上端设有投料口21,反应室23的下端设有卸料口22。

搅拌装置3转动连接在反应室23内,搅拌装置3包括从反应室23的上方沿竖直方向插入反应室23内的主动轴31,主动轴31上固定连接有沿与主动轴31垂直的方向向主动轴31的两侧延伸的上搅拌条32与下搅拌条33,上搅拌条32与下搅拌条33平行,上搅拌条32与下搅拌条33跟随主动轴31转动以搅拌。

上搅拌条32与下搅拌条33之间转动连接有第一搅拌件5,第一搅拌件5共两个,分别位于上搅拌条32的两端,第一搅拌件5绕竖直方向转动,第一搅拌件5包括竖直设置的第一转轴51,第一转轴51上固定有第一搅拌叶52,第一搅拌叶52沿第一转轴51的轴向向外延伸,第一搅拌叶52共四个且沿第一转轴51的圆周方向均布。

主动轴31上转动连接有与主动轴31垂直的第二搅拌件6,第二搅拌件6绕主动轴31的径向转动,第二搅拌件6包括与主动轴31垂直的第二转轴61,第二转轴61上固定有沿第二转轴61的径向向外延伸的第二搅拌叶62,第二搅拌叶62共四个且沿第二转轴61的圆周方向均布,第二转轴61的端部靠近反应室23的内侧壁但不贴合。

第二搅拌件6共四个,位于上搅拌条32与下搅拌条33所在竖直平面的两侧各分布有两个相错的第二搅拌件6,位于同一侧的第二搅拌件6与主动轴31的连接点不在同一竖直线上。

参照图2以及图3,釜体2内还设有传递动力部4的动力至第一搅拌件5的传动组件7,传动组件7包括与动力部4齿轮传动的第一传动轴71,第一传动轴71与主动轴31同轴线,第一传动轴71穿设在主动轴31内且在主动轴31内转动,第一传动轴71与动力部4通过直齿轮传动,上搅拌条32内转动连接有与上搅拌条32平行且与第一传动轴71联动的第二传动轴72,第二传动轴72的一端与第一传动轴71通过双锥齿轮传动以联动,第二传动轴72的另一端与第一转轴51通过双锥齿轮传动以联动。

第二转轴61一体连接有同轴线的第三传动轴73,第三传动轴73的一端贯穿主动轴31且与第一传动轴71通过双锥齿轮传动以联动。

本实施例中,动力部4具体采用第一电机41通过齿轮传动驱动主动轴31以及第二电机42通过齿轮传动驱动第一传动轴71,其他实施例中可通过第一电机41通过两个半径不同的齿轮同时传动主动轴31与第一传动轴71,还可通过第一电机41驱动带式传动机构以驱动主动轴31与第一传动轴71等。

本实施例的工况及原理如下:

工作时,通过投料口21喂料,然后启动动力部4,驱动搅拌装置3转动,同时驱动第一搅拌件5与第二搅拌件6转动,第一搅拌件5跟随上搅拌条32与下搅拌条33运动以绕主动轴31公转,同时通过第一传动轴71与第二传动轴72利用锥齿轮传动配合将动力部的动力传递至第一搅拌件5以使第一搅拌件5绕竖直方向自转,第二搅拌件6绕主动轴31公转,同时通过第一传动轴71与第三传动轴73利用锥齿轮传动配合将动力部的动力传递至第二搅拌件6以使第二搅拌件6绕主动轴31的径向自转,第一搅拌件5与第二搅拌件6通过公转对反应室23内的反应物进行大范围搅拌,第一搅拌件5与第二搅拌件6通过自转对反应室23内的反应物进行小范围搅拌,反应完毕后打开卸料口22以卸料,完成反应作业。

清洗时,加入溶剂,启动动力部4以驱动搅拌装置3、第一搅拌件5以及第二搅拌件6转动,由于第一搅拌叶52靠近反应室23的内侧壁且第一搅拌件5高速转动,通过第一搅拌件5带动溶剂高速运动以使溶剂对反应室23的内侧壁进行较强的冲刷,以提高对反应室23的内侧壁的清洗效果,通过第一搅拌件5跟随搅拌转轴公转以使第一搅拌装置3进过整个反应室23的内侧壁并反复清洁,提高清洁效果,最终放出溶剂,完成清洗作业。

通过第一搅拌件5与第二搅拌件6同时自转,以带动反应物或溶剂产生局部运动,由于第一搅拌件5与第二搅拌件6的转动方向不同,使得反应物或溶剂产生多种方向的运动,且第一搅拌件5与第二搅拌件6还绕主动轴31公转,使得反应物与溶剂的运动更为复杂,最终形成紊流状,使得反应室23内的反应物搅拌的更均匀,反应更充分,或者增加溶剂对反应室23内侧壁的冲刷方向,提高清洗效果。

反应时还可通过单独调节第一搅拌件5与第二搅拌件6的转动速度以微调反应速率,使得反应速度的调节更精确。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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