真空吸附剂预置装置的制作方法

本发明涉及机械真空技术领域，尤其涉及一种真空吸附剂预置装置。

背景技术：

在超导应用、低温液体存储等领域，需要应用真空绝热结构以保持设备处于较低的漏热状态。由于真空结构往往存在漏气或材料放气等因素，导致真空度逐渐下降，进而导致设备漏热水平提升，影响使用效率。

为提升设备真空寿命，一般在真空结构内放入真空吸附剂，以吸附结构内的水气、氢气等。对设备经过相应处理，安装前将活化好的吸附剂放入设备，并迅速抽真空。该技术在抽真空周期较长的设备中，将导致吸附剂在完成抽真空前就已经吸附饱和，无法发挥吸附作用，甚至可能加快设备漏放气水平，降低设备真空寿命。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题是提供一种能够实现将活化好且处于真空状态的吸附剂预置于真空结构中，在真空结构完成抽真空后再使吸附剂暴露的真空吸附剂预置装置，以克服现有技术的上述缺陷。

为了解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种真空吸附剂预置装置，包括吸附剂容器、划破结构和牵引结构，吸附剂容器内部中空形成容纳腔，容纳腔呈真空状态，容纳腔内装有活化的吸附剂，划破结构与吸附剂容器的器壁相接触，牵引结构与划破结构相连接并驱动划破结构运动，划破结构运动时划破吸附剂容器的器壁，使吸附剂暴露。

优选地，划破结构包括刀片，刀片的刃口与吸附剂容器的器壁相接触。

优选地，划破结构包括滑块，滑块可滑动地支撑在吸附剂容器的器壁上，刀片安装在滑块上，牵引结构与滑块相连接。

优选地，还包括导引结构，导引结构支撑在吸附剂容器的器壁上，滑块可滑动地设于导引结构上。

优选地，导引结构包括导轨，滑块与导轨滑动配合。

优选地，导引结构采用低导热系数材料制成。

优选地，牵引结构包括牵引绳，牵引绳与划破结构相连接并拉动划破结构运动。

优选地，牵引绳为多股编织绳或单股丝状结构。

优选地，吸附剂容器上设有支撑肋排，支撑肋排与吸附剂容器的器壁压力接触。

优选地，支撑肋排设有多个，多个支撑肋排沿划破结构的运动方向间隔分布。

与现有技术相比，本发明具有显著的进步：

在真空结构的制作过程中，可以先将本发明的真空吸附剂预置装置放置在真空结构中，再进行真空结构的抽真空过程，该过程中，吸附剂在吸附剂容器内呈真空密封状态，不会与真空结构内的气体接触产生吸附，因此可保证吸附剂的吸附能力。待抽真空完成后，真空结构准备启用时，可以通过牵引结构驱动划破结构运动，由划破结构划破吸附剂容器的器壁，使吸附剂暴露于真空结构中，则活化好的吸附剂即可发挥良好的吸附作用，达到很好的吸附效果，能够有效延长真空结构的真空寿命。

附图说明

图1是本发明实施例的真空吸附剂预置装置的结构示意图。

其中，附图标记说明如下：

1、吸附剂容器2、划破结构

3、牵引结构4、导引结构

5、支撑肋排

具体实施方式

下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细说明。这些实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

此外，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

现有技术采用将活化好的吸附剂放入真空结构中并迅速抽真空，使吸附剂直接对真空结构内的气体进行吸附，存在吸附剂在完成抽真空之前就发生吸附甚至吸附饱和的现象，导致吸附剂无法有效发挥吸附作用。若能够先将处于真空状态的吸附剂预置于真空结构内，待抽真空完成后，再将吸附剂暴露于真空结构内，使吸附剂发挥吸附作用，则可以避免现有技术的上述问题，保证吸附剂的吸附能力和吸附效果。基于此，本发明提供了一种真空吸附剂预置装置，用于实现将活化好且处于真空状态的吸附剂预置于真空结构中，在真空结构完成抽真空后再使吸附剂暴露以发挥吸附作用。

如图1所示，本发明的真空吸附剂预置装置的一种实施例。本实施例的真空吸附剂预置装置包括吸附剂容器1、划破结构2和牵引结构3。吸附剂容器1内部中空形成容纳腔，容纳腔呈真空状态，容纳腔内装有活化的吸附剂，即吸附剂容器1将活化好的吸附剂真空密封，可以防止活化好的吸附剂与周围环境接触产生吸附，保证吸附剂的吸附能力。吸附剂可以为活性炭。划破结构2与吸附剂容器1的器壁相接触，牵引结构3与划破结构2相连接，牵引结构3驱动划破结构2运动，划破结构2运动时划破吸附剂容器1的器壁，破坏吸附剂容器1的完整性，将吸附剂容器1的容纳腔打开，使吸附剂暴露，从而可发挥吸附作用。

在真空结构的制作过程中，可以先将本实施例的真空吸附剂预置装置放置在真空结构中，再进行真空结构的抽真空过程，该过程中，吸附剂在吸附剂容器1内呈真空密封状态，不会与真空结构内的气体接触产生吸附，因此可保证吸附剂的吸附能力。待抽真空完成后，真空结构准备启用时，可以通过牵引结构3驱动划破结构2运动，由划破结构2划破吸附剂容器1的器壁，使吸附剂暴露于真空结构中，则活化好的吸附剂即可发挥良好的吸附作用，达到很好的吸附效果，能够有效延长真空结构的真空寿命。

本实施例中，优选地，吸附剂容器1采用具有较好柔韧性的材料制成，更容易被划破。吸附剂容器1的材质并不局限，例如可以采用具有较柔韧性的金属薄片，如铝片，或者采用塑料，采用塑料时，塑料上可以设有金属镀层，以降低其黑体辐射系数。

本实施例中，优选地，划破结构2可以包括刀片，刀片具有锋利的刃口，且刀片的刃口与吸附剂容器1的器壁相接触，在牵引结构3的驱动下，刀片沿吸附剂容器1的器壁运动而将其划破，使得吸附剂暴露。刀片的材质并不局限，优选地，刀片可以采用金属材料制成，以保证能够划破吸附剂容器1的器壁。

进一步，划破结构2还可以包括滑块，滑块可滑动地支撑在吸附剂容器1的器壁上，刀片安装在滑块上，牵引结构3与滑块相连接，由牵引结构3驱动滑块沿吸附剂容器1的器壁运动，由滑块的运动带动刀片沿吸附剂容器1的器壁运动。由此，可以为刀片的运动提供稳定的支撑，保证刀片沿吸附剂容器1的器壁运动而将其划破。

优选地，本实施例的真空吸附剂预置装置还可以包括导引结构4，导引结构4支撑在吸附剂容器1的器壁上，划破结构2中的滑块可滑动地设于导引结构4上。通过导引结构4对滑块的运动起到导向作用，可以确保滑块带着刀片沿吸附剂容器1的器壁运动，防止刀片对除吸附剂容器1以外的结构产生破坏。

导引结构4的结构形式并不局限，只要能够实现与滑块滑动配合并引导滑块运动即可。在一种较佳的实施方式中，导引结构4可以包括导轨，导轨沿吸附剂容器1的器壁延伸并固定支撑在吸附剂容器1的器壁上，滑块与导轨滑动配合。

由于在应用时，导引结构4处于真空环境中，因此优选地，导引结构4采用低导热系数材料制成，例如氟塑料，使得其能够适应真空环境。

优选地，牵引结构3可以包括牵引绳，牵引绳与划破结构2的相连接并拉动划破结构2运动。本实施例中，牵引绳与划破结构2的滑块相连接，通过拉动牵引绳，可以拉动滑块沿导引结构4运动，带动刀片沿吸附剂容器1的器壁运动而将其划破。牵引绳的结构并不局限，例如，牵引绳可以为多股编织绳或多股扭铰的绳子，如尼龙绳，或者，牵引绳也可以为具有一定拉伸强度的单股丝状结构，如金属丝，均能提供拉力，起到较好的拉动作用。

本实施例中，为确保吸附剂容器1容纳腔内部的真空度，优选地，划破结构2、导引结构4和牵引结构3均设置在吸附剂容器1的外侧面上，以便于吸附剂容器1内容纳腔的真空密封。应用中，将本实施例的真空吸附剂预置装置放置在真空结构中时，吸附剂容器1及划破结构2和导引结构4均置于真空结构内部，牵引结构3为牵引绳时，其一端与划破结构2相连接，且另一端为伸出真空结构的自由端，用于拉拽而拉动划破结构2。通常，真空结构具有真空抽口，用于抽真空，在抽真空完成后通过活塞或其它密封结构将真空抽口密封，以保持真空结构内部的真空度。采用本实施例的真空吸附剂预置装置时，可以将牵引绳的自由端从真空结构的真空抽口处伸出，不会影响真空结构的密封性。在真空结构抽真空完成后准备启用时，在外部拉拽牵引绳的自由端，即可拉动划破结构2运动，将吸附剂容器1的器壁划破，使得吸附剂暴露于真空结构中，发挥吸附作用。

本实施例中，吸附剂容器1上可以设有支撑肋排5，支撑肋排5与吸附剂容器1的器壁压力接触。当划破结构2将吸附剂容器1的器壁划破时，通过支撑肋排5对吸附剂容器1器壁的作用力，可以增加吸附剂容器1器壁的破裂程度，从而使吸附剂暴露更充分。优选地，支撑肋排5可以设置在吸附剂容器1的容纳腔内，支撑肋排5具有弹性，且与吸附剂容器1的器壁压力接触，当划破结构2将吸附剂容器1的器壁划破时，支撑肋排5可以从内部撑开吸附剂容器1的器壁，使吸附剂容器1器壁的破裂效果更好。

优选地，支撑肋排5可以设有多个，多个支撑肋排5沿划破结构2的运动方向均匀间隔分布。通过多个支撑肋排5的作用，可以使吸附剂容器1器壁的破裂更均匀。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。