S吸收装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明属于吸收装置领域，尤其是一种填料式撞击流H2S吸收装置。
【背景技术】
[0002]硫化氢废气存在于多个行业，例如能源、化工、医药、农业等，工业排放的硫化氢气体不仅能够引起管道和催化剂的中毒，设备的腐蚀，而且会造成相当严重的环境污染，甚至危害人类生存，因此必须对硫化氢气体进行治理，现有的吸收装置效率不高、设备庞大或动力消耗大的缺点。现有技术中也记载了一些利用撞击流显著强化相间传递，大幅提高传质系数。但其存在着只适用与快速反应，活性区停留时间短，难以保证过程完成到所要求程度的缺点。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种填料式撞击流H2S吸收装置，该装置结构简单，设计科学合理、效率高、设备小、动力消耗小，大幅提高了传质系数，活性区停留时间长，有效保证了反应所要求的程度。
[0004]本发明解决其技术问题是通过以下技术方案实现的:
[0005]—种填料式撞击流H2S吸收装置，其装置包括一筒体，该筒体上端制有排气口，该筒体下端制有排液口，筒体内的上部设置有布液器，在筒体内的布液器下方设置有布料器，在布料器下方的筒体内壁上对称设置喷气管，在喷气管内设置有压力雾化喷嘴。
[0006]而且，所述的筒体是圆柱形筒体或者截面为长方形的筒体。
[0007]而且，所述的筒体上部设置为向上渐缩端，该向上渐缩端连接排气口，筒体下部设置为向下渐缩端，该向下渐缩端连接排液口。
[0008]而且，所述的布料器为1-5个，在筒体内从上至下间隔布置。
[0009]而且，所述的布液器连接一液体导流管。
[0010]本发明的优点和有益效果为:
[0011]本填料式撞击流H2S吸收装置，其装置包括一筒体，该筒体上端制有排气口，该筒体下端制有排液口，筒体内的上部设置有布液器，在筒体内的布液器下方设置有布料器，在布料器下方的筒体内壁上对称设置喷气管，在喷气管内设置有压力雾化喷嘴，该装置结构简单，设计科学合理、效率高、设备小、动力消耗小，大幅提高了传质系数，活性区停留时间长，有效保证了反应所要求的程度。
【附图说明】
[0012]图1为本发明结构示意图。
【具体实施方式】
[0013]下面通过具体实施例对本发明作进一步详述，以下实施例只是描述性的，不是限定性的，不能以此限定本发明的保护范围。
[0014]—种填料式撞击流H2S吸收装置，其装置包括一筒体9，筒体是圆柱形筒体或者截面为长方形的筒体，本实施例附图所示的筒体为圆柱形筒体，该筒体上端制有排气口 1，进一步说筒体上部设置为向上渐缩端2，该向上渐缩端连接排气口，筒体下部设置为向下渐缩端10，该向下渐缩端连接排液口 11。该筒体下端制有排液口，筒体内的上部设置有布液器3，布液器连接一液体导流管4。在筒体内的布液器下方设置有布料器5，布料器为1-5个，在筒体内从上至下间隔布置，本实施例附图所示的布料器为3个，从上至下间隔设置，在布料器下方的筒体内壁上对称设置喷气管7，在喷气管内设置有压力雾化喷嘴8，该压力雾化喷嘴连接一进液管6。
[0015]本填料式撞击流H2S吸收装置连续操作，正常工作时反应器可分为两部分:布料器以下为撞击流吸收区；布料器为填料吸收区。工作时，工艺气体GI分成两股，以基本相同的流量分别按箭头所示方向高速流动通过两根喷气管；工艺液体一部分由压力雾化喷嘴喷雾成微滴状进入喷气管；另一部分通过布液器均匀分布于填料上，其用量大小，视具体工艺条件而定。气体GI加速雾化微滴并携带它们射出喷气管进入撞击区，在两喷气管轴线中心处相向撞击，形成高度湍动和强化传质的撞击区，并在其中完成主要气液反应或化学吸收作业。反应或吸收后，绝大部分液体依靠重力下落至向下渐缩端，经排液口放出，送至后工序处理。为使装置内气体与大气隔绝，排液管下游可设置液封机构。分离绝大部分液体后的气体还含有少量的未反应的气体或未被吸收的气体，通过布料器进行第二次吸收达到要求后，通过排气口排出。根据工艺安排，排出气体或送去进一步处理，或放空。
[0016]与现有的气液相反应或化学吸收技术装备相比，本发明填料式撞击流H2S吸收装置具有下述显著优点:(I)利用了撞击流强化相间传递的特点，使得液相快速反应不受气膜扩散限制，宏观气液反应或化学吸收过程能高强度地进行，实现小设备大产量；(2)采用压力雾化喷嘴分散工艺液体，能量效率高，节能；(3)采用填料确保气液反应或吸收达到要求，克服了单纯撞击流吸收器由于活性区停留时间短，难以保证吸收完成到所要求的程度的缺点；(4)扩展了撞击流H2S吸收装置的应用范围，适用于液相进行中速、快速反应的气液反应或化学吸收过程。
【主权项】
1.一种填料式撞击流H 2S吸收装置，其特征在于:该装置包括一筒体，该筒体上端制有排气口，该筒体下端制有排液口，筒体内的上部设置有布液器，在筒体内的布液器下方设置有布料器，在布料器下方的筒体内壁上对称设置喷气管，在喷气管内设置有压力雾化喷嘴。2.根据权利要求1所述的填料式撞击流H2S吸收装置，其特征在于:所述的筒体是圆柱形筒体或者截面为长方形的筒体。3.根据权利要求2所述的填料式撞击流H2S吸收装置，其特征在于:所述的筒体上部设置为向上渐缩端，该向上渐缩端连接排气口，筒体下部设置为向下渐缩端，该向下渐缩端连接排液口。4.根据权利要求1所述的填料式撞击流H2S吸收装置，其特征在于:所述的布料器为1-5个，在筒体内从上至下间隔布置。5.根据权利要求1所述的填料式撞击流H2S吸收装置，其特征在于:所述的布液器连接一液体导流管。
【专利摘要】本发明涉及一种填料式撞击流H2S吸收装置，其装置包括一筒体，该筒体上端制有排气口，该筒体下端制有排液口，筒体内的上部设置有布液器，在筒体内的布液器下方设置有布料器，在布料器下方的筒体内壁上对称设置喷气管，在喷气管内设置有压力雾化喷嘴，该装置结构简单，设计科学合理、能够有效粉碎中草药，并且在粉碎过程中进行烘干，而且可以连续进出料，省时省力。
【IPC分类】B01D53/18
【公开号】CN105344209
【申请号】CN201510824129
【发明人】高晓冲
【申请人】天津天元伟业化工技术有限公司
【公开日】2016年2月24日
【申请日】2015年11月24日