2X 10-10(室温)。不溶于盐酸、硫酸，溶于氢氟酸。溶于氢氧化钾或氢氧化钠溶液，生成硅酸钾K2Si03或硅酸钠Na2Si03和水。其熔点为150°C，S卩加热到150°C时分解。加热器810设于偏硅酸添加器820底部对偏硅酸添加器820进行加热，使偏硅酸添加器820内的偏硅酸分解，进而通过导管进入到水管708中，达到向水中添加偏硅酸的目的。
[0046]偏硅酸易被人体吸收，能有效地维持人体的电解质平衡和生理机能，具有恢复血管弹性、增加皮肤弹性、促进骨骼发育等作用。
[0047]水分子纳米化处理器900通过施加高压来分离水分子而产生的带电净水粒子，以达到使水分子更容易吸收的目的。
[0048]排污通道S则设于整个水处理系统的底部，分别与涡流沉淀装置200、悬浮过滤装置300、除氯装置400、微量元素添加装置500以及调节管666的底端连接，用于排放掉各装置内产生的分离废物。
[0049]下面对该水处理系统的完整工作流程进行描述。
[0050]待净化的水从进水口 I进入到涡流沉淀装置200，涡流沉淀装置200内的涡流发生器产生漩涡，使水中较重的固体颗粒状杂质在漩涡的作用下呈螺旋状向中心处同时向底部聚集，杂质聚集到底部后流入位于水处理系统底部的排污管道S内，进而从排污口 D排出。而经过漩涡沉淀装置200过滤后的水则会通过连接水管203流入到悬浮过滤装置300内。
[0051]水从涡流沉淀装置200经由水流道203流入悬浮过滤装置300内，悬浮杂质会位于水面上部，当悬浮过滤装置300冲入一定量水后，关闭水流道203，同时打开位于其底部与除氯装置400连接的水管304，使水流入除氯装置400中，悬浮过滤装置300的外侧还可以设有液位显示管(图中未示)，用于观察悬浮过滤装置300内部的液位情况，当液位显示管指示的水量到达一定位置后关闭水管304，此时悬浮过滤装置300内剩余的即为悬浮杂质与少部分水，这时，打开位于悬浮过滤装置300底端的水管，将悬浮杂质和剩余的少部分水流入排污通道S，进而从排污口 D排出。
[0052]水经过水管304进入除氯装置400，除氯装置400内设置的除氯发生器从除氯装置400的底部向除氯装置400内不断冲入脉冲气流，使除氯装置400内的水持续翻滚，进而使氯气从水中分离出来，随着冲入气体一起从位于除氯装置400壳体顶端的排气口 410排出，另一方面，冲入的氧气会与水中氯气发生化学反应，起到进一步去除水中的氯气的效果。同时，为防止空气中的污染物进入到该除氯装置400内以及防止氯气排放到外界空气中造成二次污染，在除氯装置400顶端的排气口处还设有气体净化单元420。
[0053]水流继续从水管405以脉冲的方式依次流经微量元素添加装置500的第一添加管510和第二添加管520，通过第一添加管510和第二添加管520内的微量元素添加单元530 (优选为麦饭石)对水流进行添加微量元素。同时，微量元素添加装置500内设置的磁场发生器540对水流中的有害的重金属离子进行吸附式去除。
[0054]水流从第二添加管520经水管506流入调节管666，调节管666的顶部设有酸碱度调节装置600。酸碱度调节装置600通过电解水的方式对水流进行酸碱度调节。除菌装置700同样设于调节管666外部，除菌装置700通过高压高电流放电的形式对水流进行深度杀菌处理。
[0055]水流进入水管708，水管708依次连接有偏硅酸添加装置800和水分子纳米化处理器900。偏硅酸添加装置800通过加热器810加热偏硅酸添加器820以对水管708内的水流进行添加偏硅酸。最后经过水分子纳米化处理器900对水流进行纳米化处理，得到的健康饮用水从出水口 O排出，整个水处理过程结束。
[0056]其中，本实施例的水处理系统各个装置的底端分别与排污通道S连通，以便随时排出在各装置净化水的过程产生的分离废物。
[0057]本实用新型实施例提供的水处理系统，依次通过涡流沉淀装置200进行较重杂质处理、悬浮过滤装置300分离处较轻杂质、除氯装置400除去水中残留氯气、微量元素添加装置500补充水中微量元素含量、酸碱度调节装置600得到偏碱性健康水、除菌装置700做深度除菌、偏硅酸添加装置800向水中添加偏硅酸以及水分子纳米化处理器900对水进行纳米化处理，最终得到干净、健康的饮用水。相较于现有技术，该水处理系统通过特别的净化装置结构(涡流沉淀装置200和悬浮过滤装置300)，可以不需要经常更换清洗滤芯，操作简单；不会出现因滤芯更换不及时产生的在滤芯处存留的杂质会滋生细菌，进而污染待净化的水的问题；通过除氯装置400彻底清除水中氯气以及利用除菌装置700深度去除水中细菌，使处理过的水即使直接饮用，也不会人产生任何危害；另外还利用微量元素添加装置500、酸碱度调节装置600、偏硅酸添加装置800以及水分子纳米化处理器900对水质进一步优化，得到既干净又健康的饮用水。
[0058]以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种水处理过程中使用的涡流沉淀装置，其特征在于，所述涡流沉淀装置包括壳体以及设置在所述壳体内底部的涡流发生器，所述涡流发生器在壳体底部产生漩涡，水中较重的固体颗粒状杂质在漩涡的作用下呈螺旋状向底部中心处聚集。
2.根据权利要求1所述的涡流沉淀装置，其特征在于，所述涡流发生器包括驱动单元以及旋转叶片。
3.根据权利要求2所述的涡流沉淀装置，其特征在于，所述驱动单元为伺服电机或者直流电机。
4.根据权利要求1所述的涡流沉淀装置，其特征在于，所述涡流沉淀装置的壳体呈圆筒状。
5.根据权利要求4所述的涡流沉淀装置，其特征在于，所述涡流沉淀装置的壳体底部与排污管道相连通，以便水中较重的固体颗粒状杂质聚集在涡流沉淀装置底部时能够被及时排出。
6.根据权利要求1所述的涡流沉淀装置，其特征在于，所述涡流发生器的外周设置防护网，用于防止水中颗粒状杂质侵入到所述涡流发生器内部，造成所述涡流发生器的损坏。
7.根据权利要求3所述的涡流沉淀装置，其特征在于，所述涡流沉淀装置的进水口设于所述涡流沉淀装置壳体的中部，所述涡流沉淀装置的出水口设于所述涡流沉淀装置壳体的顶部。
8.根据权利要求7所述的涡流沉淀装置，其特征在于，所述涡流沉淀装置还包括用于控制所述涡流发生器动作参数的控制单元。
9.根据权利要求8所述的涡流沉淀装置，其特征在于，所述涡流发生器动作参数包括电机的转速和转向。
10.一种水处理系统，其特征在于，所述水处理系统包括权利要求1-9任一项所述的涡流沉淀装置。
【专利摘要】本实用新型提供一种水处理系统及其涡流沉淀装置，所述涡流沉淀装置包括壳体以及设置在所述壳体内底部的涡流发生器，所述涡流发生器在壳体底部产生漩涡，水中较重的固体颗粒状杂质在漩涡的作用下呈螺旋状向底部中心处聚集。本实用新型实施例提供的涡流沉淀装置，通过独特的装置结构，具体为利用驱动单元带动旋转叶片转动产生涡流，使水中较重的固体颗粒状杂质在漩涡的作用下呈螺旋状向底部中心处聚集，进而通过排污管道排出。相对于现有技术中的滤芯式过滤装置，可以不需要经常更换清洗滤芯，操作简单；不会出现因滤芯更换不及时产生的在滤芯处存留的杂质会滋生细菌，进而污染待净化的水的问题。
【IPC分类】B01D21-26
【公开号】CN204447432
【申请号】CN201420821257
【发明人】孙福军
【申请人】深圳市同盛绿色科技有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2014年12月19日