一种吸收还原炉底盘硅尘的装置的制作方法

本实用新型涉及多晶硅技术领域，具体而言，涉及一种吸收还原炉底盘硅尘的装置。

背景技术：

还原炉是多晶硅企业中生产多晶硅硅棒的主要设备，生产硅棒的主要原料为三氯氢硅和氢气，通过还原反应沉积在硅芯表面，生成多晶硅棒，但在还原炉出炉结束后还原炉底盘及硅棒表面沉积有硅尘，需要将硅尘去除，以使还原炉底盘保持洁净。

现有技术中，生产硅棒的还原炉底盘上硅尘的去除办法中，通常使用吸尘器吸收，再将吸尘器内的硅尘进行收集，回收使用，但是吸尘、放尘的过程通常为敞开系统，硅尘易飘浮到周围环境中，造成环境污染，影响产品质量。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种吸收还原炉底盘硅尘的装置，能使生产硅棒的还原炉底盘更加洁净，避免生产车间的环境污染，保证多晶硅产品的质量。

本实用新型是采用以下技术方案实现的：

一种吸收还原炉底盘硅尘的装置，适用于生产硅棒的还原炉底盘的清理，包括旋风分离器、第一缓冲罐、水环真空泵和水池，旋风分离器用于与还原炉底盘连通，第一缓冲罐和水环真空泵均与旋风分离器连通，水池与水环真空泵连通。

本实用新型的较佳实施例提供的吸收还原炉底盘硅尘的装置的有益效果是：

本实用新型提供的吸收还原炉底盘硅尘的装置，在硅棒形成的过程中，还原炉底盘会沉积硅尘，并通过吸收还原炉底盘硅尘的装置进行去除，在启动吸收还原炉底盘硅尘的装置的过程中，通过水环真空泵对整个装置提供动力，使生产硅棒的还原炉底盘上的硅尘会朝向旋风分离器的运动，先通过旋风分离器将生产硅棒的还原炉底盘上的硅尘分离成大颗粒硅尘和小颗粒硅尘，大颗粒硅尘通过第一缓冲罐进行沉淀处理，并回收利用，小颗粒硅尘通过水环真空泵吸收处理进入水池中，并在水池中进行沉降，从而将小颗粒硅尘除尽。在使用吸收还原炉底盘硅尘的装置进行硅尘处理的时候，硅尘的处理是一个封闭系统，可以避免硅尘漂浮在空气中，污染生产车间的环境，同时，可以保证多晶硅产品的质量，使硅尘的处理更加系统、方便。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图也属于本实用新型的保护范围。

图1为本实用新型的实施例提供的吸收还原炉底盘硅尘的装置的结构示意图；

图2为本实用新型的实施例提供的吸收还原炉底盘硅尘的装置中旋风分离器的结构示意图；

图3为本实用新型的实施例提供的吸收还原炉底盘硅尘的装置中第二缓冲罐的结构示意图。

图标：100-吸收还原炉底盘硅尘的装置；110-生产硅棒的还原炉；130-旋风分离器；140-第一缓冲罐；150-水环真空泵；160-水池；111-还原炉钟罩；112-还原炉底盘；180-吸尘软管；131-第一壳体；132-第一进气口；133-第一出气口；134-第二出气口；135-圆筒部；136-锥形部；141-第一放料口；151-进水口；120-第二缓冲罐；121-第二壳体；122-第二进气口；123-第三出气口；124-第二放料口；170-除尘管道。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连通”、“安装”、“连接”应做广义理解。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

实施例

图1为本实施例提供的吸收还原炉底盘硅尘的装置100的结构示意图。请参阅图1，本实施例中，吸收还原炉底盘硅尘的装置100适用于对还原炉底盘112上的硅尘进行去除，包括旋风分离器130、第一缓冲罐140、水环真空泵150和水池160。

首先，旋风分离器130用于与还原炉底盘112连通，第一缓冲罐140和水环真空泵150均与旋风分离器130连通，水池160与水环真空泵150连通，在硅棒形成的过程中，还原炉底盘112内会产生硅尘，并通过吸收还原炉底盘硅尘的装置100进行去除，在启动吸收还原炉底盘硅尘的装置100的过程中，通过水环真空泵150对整个吸收还原炉底盘硅尘的装置100提供动力，使还原炉底盘112上的硅尘会随着气体朝向旋风分离器130的方向运动，先通过旋风分离器130将还原炉底盘112上的硅尘分离成大颗粒硅尘和小颗粒硅尘，大颗粒硅尘通过第一缓冲罐140进行沉淀处理，并回收利用，小颗粒硅尘通过水环真空泵150吸收处理进入水池160中，并在水池160中进行沉降，从而将小颗粒硅尘除尽。在使用吸收还原炉底盘硅尘的装置100进行硅尘处理的时候，硅尘的处理是一个封闭系统，可以避免硅尘漂浮在空气中，污染生产车间的环境，同时，可以保证多晶硅产品的质量，使硅尘的处理更加系统、方便。

本实施例中，生产硅棒的还原炉110包括还原炉钟罩111和还原炉底盘112，还原炉钟罩111安装在还原炉底盘112上，内部形成空腔，硅棒在空腔内形成，硅尘主要沉积在还原炉底盘112上，需要将还原炉底盘112上的硅尘进行处理的时候，直接将还原炉钟罩111打开，对还原炉底盘112上的硅尘进行吸收处理。

为了更好地处理还原炉底盘112上的硅尘，吸收还原炉底盘硅尘的装置100还包括吸尘软管180，吸尘软管180的一端为自由端，另一端与旋风分离器130连通，通过吸尘软管180的设置，方便硅尘的处理，吸尘软管180的远离旋风分离器130的一端可以自由移动，对还原炉底盘112上不同位置的硅尘都进行处理，使硅尘的吸收更加完全。

图2为本实施例提供的旋风分离器130的结构示意图。请一并参阅图1和图2，本实施例中，旋风分离器130包括第一壳体131、第一进气口132、第一出气口133和第二出气口134，硅尘从第一进气口132进入旋风分离器130内并由于旋风分离器130的较大惯性离心力而进行分离，第一壳体131包括连通的圆筒部135和锥形部136，第一进气口132设置于圆筒部135的侧壁，使硅尘都能够通过旋风分离器130进行分离，分离以后，大颗粒硅尘从旋风分离器130的底部排出，小颗粒硅尘会随着气体从旋风分离器130的顶部排出。

由于锥形部136的设置，使混合有硅尘的气体在锥形部136的时候，锥形部136中的离心力变大，硅尘的分离效果更好，能够有更多的大颗粒硅尘分离出来。

所以，第一出气口133设置于圆筒部135的上端部并用于与水环真空泵150连通，小颗粒硅尘从第一出气口133排出，并通过水环真空泵150进行处理，第二出气口134设置于锥形部136的下端部并用于与第一缓冲罐140连通，大颗粒硅尘从第二出气口134排出，可以将大颗粒硅尘和小颗粒硅尘进行充分地分离，有利于硅尘地处理。

本实施例中，第一缓冲罐140可以对大颗粒硅尘进行沉降，避免大颗粒硅尘从第二出气口134直接排除而污染环境。第一缓冲罐140具有第一放料口141，第一缓冲罐140的上端部通过第二出气口134与旋风分离器130连通，第一放料口141设置于第一缓冲罐140的下端部，可以对大颗粒硅尘进行充分地沉降。在第一放料口141处设置阀门，当大颗粒硅尘沉降一定的量的时候，打开阀门，将大颗粒硅尘排除，可以进行大颗粒硅尘的回收利用。

本实施例中，水环真空泵150可以对整个吸收还原炉底盘硅尘的装置100提供动力，从而使还原炉底盘112上的硅尘朝向旋风分离器130的方向运动。同时，水环真空泵150可以吸水，能够尽可能地将小颗粒的硅尘溶于水中，对小颗粒的硅尘进行处理，使硅尘的处理更加完全。

优选地，水环真空泵150还具有设置于水环真空泵150下端的进水口151，水能够从进水口151流进，提供水源，使小颗粒硅尘能够持续进行处理。同时，在水池160设置排水口，避免水池160的水过多而发生溢出，污染环境。

小颗粒硅尘和水一起进入水池160中的时候，小颗粒硅尘沉积在水池160的底部，排水口排出的水相对较干净，可以进行重复利用，又从进水口151进入水环真空泵150，避免资源的浪费。

为了减轻旋风分离器130的负荷，在吸尘软管180与旋风分离器130之间连通第二缓冲罐120，第二缓冲罐120的设置可以先对硅尘进行一部分地沉降，再将剩余地硅尘和气体一起通入旋风分离器130中进行分离，旋风分离器130中需要分离的硅尘减少，避免旋风分离器130的高负荷工作，延长旋风分离器130的使用寿命。

图3为本实施例提供的第二缓冲罐120的结构示意图。请一并参阅图1和图3，本实施例中，第二缓冲罐120包括第二壳体121、第二进气口122、第三出气口123和第二放料口124，经过沉降处理以后的硅尘的含量减少，并通过第三出气口123排出。第三出气口123设置于第二壳体121的上端部并用于连通旋风分离器130，使经过沉降处理以后的硅尘从旋风分离器130的第一进气口132进入旋风分离器130进行分离。

本实施例中，第二进气口122设置于第二壳体121的中部并用于连通吸尘软管180，如果将第二进气口122设置于第二壳体121的上部，硅尘没有经过一定的沉降，就直接从第三出气口123排出，如果将第二进气口122设置于第二壳体121的底部，沉降的硅尘也会由于气流的作用而向上运动，从第三出气口123排出，所以，第二进气口122设置于第二壳体121的中部，即可以对硅尘进行充分的沉降，又可以避免沉降后的硅尘进入旋风分离器130中。

优选地，第二放料口124设置于第二壳体121的下端部，通过第二缓冲罐120沉降以后的硅尘通过第二放料口124排出。在第二放料口124处设置阀门，当大颗粒硅尘沉降一定的量的时候，打开阀门，将大颗粒硅尘排除，可以进行大颗粒硅尘的循环使用。

为了将吸收还原炉底盘硅尘的装置100的各部件进行连通，本实施例中，吸尘软管180、第二缓冲罐120、旋风分离器130和水环真空泵150之间依次通过除尘管道170一一连通，能够更好的进行硅尘的处理。通过除尘管道170的设置，保证硅尘的处理在封闭系统中，并且，方便含有硅尘地气流地运动。

本实施例中，吸尘软管180与第二缓冲罐120之间设置阀门，当需要对还原炉底盘112上的硅尘进行处理的时候，则打开阀门，不需要对还原炉底盘112上的硅尘进行处理的时候，则关闭阀门，避免生产区域形成负压。

本实用新型提供的吸收还原炉底盘硅尘的装置100的工作原理为：当硅棒在生产硅棒的还原炉110中形成的时候，还原炉底盘112上会沉积有硅尘，使用吸收还原炉底盘硅尘的装置100对还原炉底盘112上的硅尘进行处理。首先，打开设置于吸尘软管180与第二缓冲罐120之间的阀门，启动水环真空泵150，使吸收还原炉底盘硅尘的装置100内形成负压，硅尘随着气体一起通过吸尘软管180和除尘管道170从第二进气口122进入第二缓冲罐120中，一部分硅尘在第二缓冲罐120中进行沉降，一部分硅尘随着气体从第一进气口132中进入旋风分离器130中并进行分离，大颗粒的硅尘从第二出气口134处进入第一缓冲罐140内进行沉降，小颗粒的硅尘随着气体从第一出气口133处排出，并进入水环真空泵150中，于进水口151处进入水环真空泵150中的水进行混合，排出在水池160中，使小颗粒硅尘在水池160中沉降，对小颗粒硅尘进行处理，整个吸收还原炉底盘硅尘的装置100在一个封闭状态下进行硅尘的处理，避免硅尘进入空气，对生产车间的环境造成污染，可以保证多晶硅产品的质量，使硅尘的处理更加系统、方便。同时，第一缓冲罐140和第二缓冲罐120内沉积的硅尘可以通过第一放料口141和第二放料口124排出，可以对大颗粒的硅尘进行循环利用，避免资源的浪费。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。