用于定向自组装图案化中的通孔形成的缺陷减少方法和组合物与流程

文档序号:11527798阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及两种新型方法:“双涂布方法和单涂布方法”,所述方法通过在制图外延法中使用柱阵列从而形成通孔阵列,其中通过在柱的表面上形成疏水性聚(乙烯基芳基)刷从而对柱的表面进行改性。本发明还涉及组合物,所述组合物包含一个链端被反应性官能团封端的聚(乙烯基芳基)疏水性聚合物刷前体、具有抗蚀刻性疏水性嵌段和高度蚀刻性亲水性嵌段的二嵌段共聚物、热产酸剂和溶剂。

技术研发人员:洪圣恩;松本直树;秋山靖;黑泽和则;宫崎真治;林观阳
受保护的技术使用者:AZ电子材料卢森堡有限公司
技术研发日:2015.10.28
技术公布日:2017.08.18
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