一种制备三维金属微纳结构的方法与流程

技术特征：

技术总结
本发明涉及微纳结构制备领域，具体涉及一种制备三维金属微纳结构的方法，主要制备步骤包括涂敷光刻胶、电子束曝光、显影定影、蒸镀金属材料和剥离光刻胶。制备过程中只需要曝光一次，蒸镀一次就可以制备出双层金属微纳结构，并且该结构的参数可以通过电子束的剂量进行调节。该制备方法操作简便，避免了制备多层结构需要套刻的过程。

技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：中山科立特光电科技有限公司
技术研发日：2019.07.01
技术公布日：2019.09.24