一种高杂铜阳极板电解与低铜溶液电积的装置及电解或电积方法与流程

文档序号:12416324阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种高杂铜阳极板电解与低铜溶液电积的装置,包括电解槽体(1)和分液喷射进液系统(2),电解槽体(1)左、右两头设有循环回液口(4),底部设有上清液排液口(5)和阳极泥放空口(6),其特征在于分液喷射进液系统(2)由导流道(7)和溶液分布管(8)连接构成,导流道(7)悬挂于电解槽体(1)侧壁,溶液分布管(8)位于电解槽体(1)底部,溶液分布管(8)上间隔设置多组特制喷嘴(3),电解槽体(1)侧壁之上铺设用于与电解槽绝缘的胶皮(11),胶皮上依次敷设槽间铜排(12)和绝缘玻璃钢垫(13),每组特制喷嘴(3)中间放置阴极(10),相邻两组特制喷嘴(3)之间放置阳极(9),阳极(9)、阴极(10)一端槽间铜排(12),另一端置于绝缘玻璃钢垫(13)上。

2.根据权利要求1所述的一种高杂铜阳极板电解与低铜溶液电积的装置,其特征在于槽间铜排(12)包括正极铜排和负极铜排,正极铜排和负极铜排分别置于电解槽体(1)两边侧壁之上,正极铜排连接整流系统的正极和阳极(9),负极铜排连接整流系统的负极和阴极(10),正负极铜排连接整流系统。

3.根据权利要求1所述的一种高杂铜阳极板电解与低铜溶液电积的装置,其特征在于溶液分布管(8)上间隔设置一组带内螺纹连接孔,特制喷嘴(3)一端为喷头,另一端设有与带螺纹连接孔匹配的M10螺纹口,通过螺纹连接安装在溶液分布管(8)上。

4.根据权利要求1所述的一种高杂铜阳极板电解与低铜溶液电积的装置,其特征在于阴极(10)置于分液喷射系统(2)的每组特制喷嘴(3)中间,每组特制喷嘴(3)之间间距为20~40mm,阳极(9)置于相邻两组特制喷嘴(3)之间,相邻的两组特制喷嘴之间间距为60~100mm。

5.一种基于权利要求1所述装置的电解或电积方法,其特征在于溶液经过强制动力的输送,通过管路进入分液喷射系统(2)的导流道(7)和溶液分布管(8),从溶液分布管(8)上的特制喷嘴(3)中以1~3m/s的速度进行喷射,在电解槽内形成向上、向下的流道,同时及时补充溶液中的电解/电积的金属离子。

6.根据权利要求5所述的电解或电积方法,其特征在于生产准备时,先将溶液注满电解槽,使溶液与循环回液口(4)齐平,便于溢流循环回液,电解或电积生产时,整流系统给电,铜离子在阴极(10)析出,经过滤器过滤的电解液或电积液通过强制动力系统由管路系统进入分液喷射系统(2)的导流道(7),流经溶液分布管(8),再由特制喷嘴(3)进行喷射,在电解槽的阴阳极之间形成向上及向下的两股流道形成近似环形流动,向上流道补充电解或电积损失的金属离子,消除电解或电积过程中的浓差极化,向下的流道形成内部循环,加速消除浓差极化以及加速电解过程中阳极泥的沉降,内部循环冲刷阳极,消除阳极钝化,同时溶液通过电解槽体(1)两端的循环回液口(4)溢流出液,形成外部循环,强化电解或电积的效果,电解或电积完成后,铜离子在阴极(10)析出,进行出装,产出的阴极铜达到GB/T 467-2010标准的A级铜或1号标准铜。

7.根据权利要求6所述的电解或电积方法,其特征在于溶液进入电解槽体(1)的流量为5~20m³/h,溶液通过特制喷嘴(3)进液的喷液速度为1~3m/s,循环回液口(4)的流量为2.5~10 m³/h。

8.根据权利要求6所述的电解或电积方法,其特征在于所述分液喷射进液系统(2)中的导流道(7)由DN40的CPVC材质的管材管件组装成型,溶液分布管(8)由CPVC材质制成。

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