实施例4
[0046] 电锥液的配方如下：
[0047]
[004引施锥工艺条件：单脉冲方波电流的脉宽为1ms，占空比为15%，平均电流密度为 0. 9A/dm2 ;pH为10,温度为50。电锥时间为25min。
[004引 实施例5
[0050] 电锥液的配方如下：
[0051]
[005引施锥工艺条件：单脉冲方波电流的脉宽为0. 9ms，占空比为5%，平均电流密度为 0.8A/dm2 ;pH为9. 5,温度为55。电锥时间为30min0
[0053] 实施例6
[0054] 电锥液的配方如下：
[00巧]
[0056] 施锥工艺条件：单脉冲方波电流的脉宽为0. 7ms，占空比为10%，平均电流密度为 0. 7A/dm2 ;pH为9. 2,温度为55。电锥时间为35min。
[0057] 参照W下方法对实施例1~6的锥液进行分散能力测试：
[0058] 锥液的分散能力采用远近阴极法（Haring-Blue法）测定。测定槽采用美国Kocour 公司的化11 Cell267ml型号的赫尔槽，内部尺寸为150mmX50mmX70mm。阴极选用厚度为 0. 5mm的铜片，工作面尺寸为50mmX50mm ;阳极为带孔电锥用媒板；施锥电流1A，电锥时间 30min〇
[0059] 锥液的分散能力计算公式为：
[0060] 锥液的分散能力二怔一(ΔΜ1/ΔΜ2)]/化一1)(结果W百分率表示）；
[006。 式中K为远阴极到阳极的距离与近阴极到阳极的距离之比，本测试中K取2;ΛΜι为近阴极上电锥后的增量（g) ;ΔΜ2为远阴极上电锥后的增量（g)。
[0062] 参照W下方法对实施例1~6的锥液进行深锥能力测试：
[0063] 采用内孔法测定。阴极选用内径110mm，管长为50mm的铜管，一端封闭。测试时， 管口与阳极的距离固定在80mm，试验电流0. 2A，电锥时间30min。按照W下公式计算：
[0064] 深锥能力=内孔锥层长/管长（结果W百分率表示）。
[0065] 参照W下方法对实施例1~6的锥液进行电流效率测试：
[0066] 采用铜库仑计法测定。将待测试的阴极和铜库仑计洗净吹干后用电子砰称重，然 后将两阴极同时置入电渡槽中，通电10~30min，取出并洗净吹干后用电子砰称重。按照W 下公式计算：
[0067] 电流效率=(1. 186X待测阴极质量）/(铜库仑计质量X待测阴极沉积金属的电 化当量）X100%。在送里，电化当量=摩尔质量今（沉积离子化合价X26.8)，单位为g.A1.hi。本测试中，；价八11电化当量为2. 453g.Ai.hi。
[006引参照W下方法对实施例1~6的锥液进行锥速测试：
[0069] 采用质量法测定沉积速率。用灵敏度为10 4的电子天平称量样品电锥前后的质 量。由单位时间、单位面积的质量差获得沉积速率，按下面公式计算：
[0070] 锥速=(锥覆后试样质量一锥覆前试样质量）/(待锥试样表面积X施锥时间）。 每个数据重复测量Η次取其平均值。
[0071] 参照W下方法对实施例1~6的锥层的结合力进行测试：
[0072] 采用划线划格的方法测定锥层的结合力，具体为；将电沉积锥层用一把刃口为30 度的硬质钢划刀划相隔2mm的平行线或1mm2的正方形格子。观察划线的锥层是否翅起或 剥离。划线时应掌握好力度，一刀就能划穿锥层，到达基体金属。采用急冷法测定锥层的结 合力，具体为：将锥好的试片放在马弗炉中加热至30(TC保温30min取出立即浸入1(TC的冷 水中骤冷，观察锥层是否出现气泡和脱皮现象。
[0073] 参照W下方法对实施例1~6的锥层进行初性测试：
[0074] 将锥层剥离下来，弯曲至180°，并挤压弯曲处，观察锥层是否出现断裂。
[00巧]参照W下方法对实施例1~6的锥层进行孔隙率测试：
[0076] 孔隙率大小将直接关系到锥层的耐蚀性能，采用贴纸法按GB5935-86标准检测。 lOg/L的铁氯化钟溶液和20g/L的氯化钢溶液作为孔隙率测试用的腐蚀溶液。操作步骤为： 将锥层表面去油擦拭干净后，用浸透腐蚀溶液的滤纸紧贴在锥层表面，二者不能有间隙。用 玻璃棒或脱脂棉棒沾腐蚀溶液溶液充分润湿滤纸，每间隔Imin补充一次溶液，5min后将滤 纸掲下，用蒸傭水冲洗干净后瞭干，记录孔隙点数。放在洁净玻璃板上瞭干，数藍点的个数。 代入下面公式计算空隙率：
[0077] 孔隙率=斑点的个数/被测面积（个/cm2);
[0078] 在计算孔隙数目时，按斑点直径大小作如下计算：腐蚀点直径小于1mm，每点W- 个孔隙计；大于1mm而小于3mm每点个孔隙计；大于3mm而小于5mm，每点W十个孔隙 计。
[0079] 参照W下方法对实施例1~6的锥层进行整平性测试：
[0080] 将用200目砂纸打磨均匀后的试片用美国Kocour公司的化11Cel1267ml型号的 赫尔槽在3A/血2直流电流密度于25°C温度下进行电锥lOmin，然后观察试片是否有擦痕。
[0081] 参照W下方法对实施例1~6的锥层进行走光能力测试：
[0082] 采用采用美国Kocour公司的化11Cell267ml型号的赫尔槽在3A/血2直流电流 密度于25°C温度下进行电锥lOmin后，观察锥层的表面光度。
[0083] 实施例1~6及对比例的锥层及锥液的性能的测试结果如下：
[0084]
[0085] 由上表可W看出，实施例1~6中，从锥液及锥层的综合测试效果考虑，实施例6 的配方锥液的分散能力、深锥能力、电流效率和锥速，锥层的孔隙率及结合力较其它的实施 例要好。因而，该配方为本发明的优选配方，其对应的优选施锥条件为单脉冲方波电流的脉 宽为0. 7ms，占空比为10%，平均电流密度为0. 7A/dm2 ;pH为9. 2,温度为55°C，电锥时间为 35min，阳阴面积比为3 ;1。
[0086]应该注意到并理解，在不脱离后附的权利要求所要求保护的本发明的精神和范围 的情况下，能够对上述详细描述的本发明做出各种修改和改进。因此，要求保护的技术方案 的范围不受所给出的任何特定示范教导的限制。
[0087]W上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。送些描述只是为了解释本发明的 原理，而不能W任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术 人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它【具体实施方式】，送些方式都将落入 本发明的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种芳香族硫醇无氰镀金的电镀液，其特征在于，包含以金计10~15g/L的三氯化 金、以巯基计35~55g/L的芳香族硫醇、0. 10~0. 35g/L的联吡啶化合物和以亚硒酸根计 0· 30~0· 60g/L的亚硒酸盐。2. 根据权利要求1所述的电镀液，其特征在于，包含以金计12g/L的三氯化金、以巯基 计43g/L的芳香族硫醇、0. 20g/L的联批陡化合物和以亚硒酸根计0. 50g/L的亚硒酸盐。3. 根据权利要求1所述的电镀液，其特征在于，所述芳香族硫醇为苄基硫醇或1，4-苯 基二硫醇，所述联吡啶化合物为2, 2' -联吡啶或4, 4' -联吡啶。4. 一种使用权利要求1所述的电镀液电镀的方法，其特征在于，包括以下步骤： (1) 配制电镀液：在水中溶解各原料组分形成电镀液，所述每升电镀液含有以金计 10~15g三氯化金、以巯基计35~55g芳香族硫醇、0. 10~0. 35g联批陡化合物和以亚硒 酸根计〇. 30~0. 60g亚硒酸盐； (2) 以预处理过的阴极和阳极置入所述电镀液中通入电流进行电镀。5. 根据权利要4所述的方法，其特征在于，所述电流为单脉冲方波电流；所述单脉冲方 波电流的脉宽为〇. 5~lms，占空比为5~30%，平均电流密度为0. 5~lA/dm2。6. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述步骤（2)中电镀液的pH为8~10。7. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，电镀液的温度为50~60°C。8. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，电镀的时间为20~40min。9. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述步骤（2)中阳极与阴极的面积比为 (1 ~4) :1〇
【专利摘要】本发明公开了一种芳香族硫醇无氰镀金的电镀液及电镀方法。其中，该电镀液包含以金计10～15g/L的三氯化金、以巯基计35～55g/L的芳香族硫醇、0.10～0.35g/L的联吡啶化合物和以亚硒酸根计0.30～0.60g/L的亚硒酸盐。本发明以芳香族硫醇为主配位剂，以联吡啶化合物为电子加速剂，以亚硒酸盐为光亮剂，以三氯化金为金主盐，由此使获得的镀液具有较好的分散力和深镀能力，阴极电流效率高，镀液性能优异。采用在镀液在碱性条件下电镀获得的镀层的孔隙率低，光亮度高，镀层质量良好。
【IPC分类】C25D5/18, C25D3/48
【公开号】CN105332018
【申请号】CN201410396271
【发明人】石明
【申请人】无锡永发电镀有限公司
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2014年8月12日