一种镀铜槽的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及金属表面处理设备技术领域，尤其涉及一种镀铜槽。
【背景技术】
[0002]镀铜槽作为钢丝等线体镀铜中最重要的设备之一，在线体镀铜工艺中占有重要的地位，目前，在镀铜工艺中，镀铜槽体在使用一段时间后，易变形损坏，且变形损坏的部位主要集中在设有溢流凹口的槽壁，发生变形损坏的情况最多，究其原因，发现目前在镀铜工艺中，为了使电解液进液量和回流量相当，保证电解液的中离子浓度，溢流凹口一般开设较大，破坏镀铜槽体的结构强度。
【实用新型内容】
[0003](一 )要解决的技术问题
[0004]本实用新型要解决的技术问题是解决现有镀铜槽易变形损坏的问题。
[0005]( 二)技术方案
[0006]为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种镀铜槽，包括槽体，所述槽体内设有第一隔板、第二隔板，所述第一隔板和第二隔板将所述槽体分隔为两个回流腔和一个反应腔，且所述两个回流腔位于所述反应腔的两端，每个所述回流腔的底部均设有回流口，所述反应腔内设有阳极，所述反应腔的底部设有进液口，所述槽体的两端、第一隔板和第二隔板上均相对应的设有用于穿设线缆的过线孔，所述第一隔板和第二隔板上均设有两个用于连通所述反应腔和回流腔的溢流孔。
[0007]优选地，所述反应腔内设有第三隔板，所述第三隔板与所述第一隔板和第二隔板垂直设置，将所述反应腔分隔为两个子反应腔，两个所述子反应腔内均设有阳极，且每个所述子反应腔的底部均设有一个进液口，每个所述子反应腔的两端分别设有两个所述溢流孔；所述槽体的两端、第一隔板和第二隔板上均相对应的设有两个过线孔，用于穿设两根线缆，且每根线缆分别对应一个子反应腔。
[0008]优选地，所述第三隔板的两端与所述第一隔板和第二隔板之间均留有间隙。
[0009]优选地，所述阳极包括多个钛槽，且所述多个钛槽分设在所述反应腔室的两侧，多个所述钛槽内均设有多个铜球。
[0010]优选地，所述第一隔板、第二隔板和第三隔板均由聚丙烯材料制成。
[0011]优选地，所述第一隔板和第二隔板外均设有用于防止窜液的挡板。
[0012]优选地，所述槽体上还设有盖板。
[0013](三)有益效果
[0014]本实用新型的上述技术方案具有如下优点:本实用新型提供的镀铜槽，包括槽体，槽体内设有第一隔板、第二隔板，所述第一隔板和第二隔板将所述槽体分隔为两个回流腔和一个反应腔，且所述两个回流腔位于所述反应腔的两端，每个所述回流腔的底部均设有回流口，所述反应腔内设有阳极，所述反应腔的底部设有进液口，所述槽体的两端、第一隔板和第二隔板上均相对应的设有用于穿设线缆的过线孔，所述第一隔板和第二隔板上均设有两个用于连通所述反应腔和回流腔的溢流孔，方便电解液的流动循环，且采用分散设置的两个溢流孔代替溢流凹口，减少对镀铜槽体的结构强度有破坏，增加镀铜槽的使用寿命。
[0015]在第一隔板和第二隔板外设置挡板，防止相邻镀铜槽之间窜液的发生。
【附图说明】
[0016]图1是本实用新型实施例镀铜槽的立体结构示意图；
[0017]图2是本实用新型实施例镀铜槽的俯视结构示意图；
[0018]图3是图2的A-A剖面示意图；
[0019]图4是图2的B-B剖面示意图。
[0020]图中:1:槽体；2:第一隔板；3:第二隔板；4:回流腔；41:回流口 ；5:子反应腔；51:进液口 ；6:第三隔板；7:钛槽；8:过线孔；9:挡板；10:溢流孔。
【具体实施方式】
[0021]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0022]如图1所示，本实用新型实施例提供的镀铜槽，包括槽体1，该槽体I内设有第一隔板2、第二隔板3，且第一隔板2和第二隔板3将槽体I分隔为两个回流腔4和一个反应腔，两个回流腔4分别位于反应腔的两端，在每个回流腔4的底部均设有回流口 41，反应腔内设有阳极，在反应腔的底部设有进液口 51，槽体I的两端、第一隔板2和第二隔板3上均相对应的设有用于穿设线缆的过线孔8，第一隔板2和第二隔板3上均设有两个用于连通反应腔和回流腔4的溢流孔10。
[0023]为了可以同时处理不同规格的两根线缆，优选地，如图1、图2和图4所示，在反应腔内设置第三隔板6，且第三隔板6与第一隔板2和第二隔板3垂直设置，将反应腔分隔为两个子反应腔5，两个子反应腔5内均设有阳极，且每个子反应腔的底部均设有一个进液口51，每个子反应腔的两端分别设有两个溢流孔10，槽体I的两端、第一隔板2和第二隔板3上均相对应的设有两个用于穿设线缆的过线孔8，使镀铜槽可以同时穿设两根不同规格的线缆，且每个线缆分别对应一个子反应腔5。
[0024]需要说明的是，镀铜槽也可以利用多块第三隔板6将反应腔分为两个以上的子反应腔5，槽体I的两端、第一隔板2和第二隔板3上均相对应的设置有相同数量的过线孔8，且槽体I的两端、第一隔板2和第二隔板3任一部件上的过线孔8数量均与子反应腔5的数量相对应。
[0025]为了使阳极为电解液提供均匀的离子，优选地，如图1-图4所示，阳极包括多个钛槽7，多个钛槽7分设在子反应腔室5的两侧，且多个钛槽7之间通过钛带连接，在每个钛槽7内均设有多个铜球(图中铜球未示出)，钢球可以和电解液充分反应析出铜离子。
[0026]在进行线缆镀铜时，多个镀铜槽相邻设置，同时工作，相邻的镀铜槽内的电解液从溢流孔10内流到回流腔4时，会通过过线孔8窜到相邻的镀铜槽内，为了防止窜液的发生，如图1-3所示，在反应腔的外端，溢流孔10处设置挡板，防止窜液发生。
[0027]为了增强第一隔2板、第二隔板3和第三隔板6的使用寿命，优选地，第一隔2板、第二隔板3和第三隔板6均采用耐热和耐腐蚀性能较好的聚丙烯材料制成。
[0028]为了防止电解液直接挥发到空气中及防止电解液溅出镀铜槽，优选地，在槽体I上设置盖板(图中未示出)，盖板将槽体I完全遮盖(包括反应腔和两个回液腔)，为了方便查看镀铜槽内的情况，优选地，盖板是有多个板块组成。
[0029]使用时，两根线缆穿过槽体1，电解液从进液口 51进入子反应腔5，在液位达到一定高度后，从溢流孔10溢出到回流腔4内，并从回流口 41流出，电解液循环供给，保证离子的浓度，在完成镀铜后移动线缆，继续对线缆的下一段进行镀铜。
[0030]综上所述，本实用新型提供的镀铜槽，包括槽体，槽体内设有第一隔板、第二隔板，所述第一隔板和第二隔板将所述槽体分隔为两个回流腔和一个反应腔，且所述两个回流腔位于所述反应腔的两端，每个所述回流腔的底部均设有回流口，所述反应腔内设有阳极，所述反应腔的底部设有进液口，所述槽体的两端、第一隔板和第二隔板上均相对应的设有用于穿设线缆的过线孔，所述第一隔板和第二隔板上均设有两个用于连通所述反应腔和回流腔的溢流孔，方便电解液的流动循环，且采用分散设置的两个溢流孔代替溢流凹口，减少对镀铜槽体的结构强度有破坏，增加镀铜槽的使用寿命。
[0031]最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。
【主权项】
1.一种镀铜槽，包括槽体，其特征在于:所述槽体内设有第一隔板、第二隔板，所述第一隔板和第二隔板将所述槽体分隔为两个回流腔和一个反应腔，且所述两个回流腔位于所述反应腔的两端，每个所述回流腔的底部均设有回流口，所述反应腔内设有阳极，所述反应腔的底部设有进液口，所述槽体的两端、第一隔板和第二隔板上均相对应的设有用于穿设线缆的过线孔，所述第一隔板和第二隔板上均设有两个用于连通所述反应腔和回流腔的溢流孔。2.根据权利要求1所述的镀铜槽，其特征在于:所述反应腔内设有第三隔板，所述第三隔板与所述第一隔板和第二隔板垂直设置，将所述反应腔分隔为两个子反应腔，两个所述子反应腔内均设有阳极，且每个所述子反应腔的底部均设有一个进液口，每个所述子反应腔的两端分别设有两个所述溢流孔；所述槽体的两端、第一隔板和第二隔板上均相对应的设有两个过线孔，用于穿设两根线缆，且每根线缆分别对应一个子反应腔。3.根据权利要求2所述的镀铜槽，其特征在于:所述第三隔板的两端与所述第一隔板和第二隔板之间均留有间隙。4.根据权利要求2所述的镀铜槽，其特征在于:所述阳极包括多个钛槽，且所述多个钛槽分设在所述反应腔室的两侧，多个所述钛槽内均设有多个铜球。5.根据权利要求2所述的镀铜槽，其特征在于:所述第一隔板、第二隔板和第三隔板均由聚丙稀材料制成。6.根据权利要求1-5任一项所述的镀铜槽，其特征在于:所述第一隔板和第二隔板外均设有用于防止窜液的挡板。7.根据权利要求6所述的镀铜槽，其特征在于:所述槽体上还设有盖板。
【专利摘要】本实用新型涉及金属表面处理设备技术领域，尤其涉及一种镀铜槽。该镀铜槽包括槽体，所述槽体内设有第一隔板、第二隔板，所述第一隔板和第二隔板将所述槽体分隔为两个回流腔和一个反应腔，且所述两个回流腔位于所述反应腔的两端，每个所述回流腔的底部均设有回流口，所述反应腔内设有阳极，所述反应腔的底部设有进液口，所述槽体的两端、第一隔板和第二隔板上均相对应的设有用于穿设线缆的过线孔，所述第一隔板和第二隔板上均设有两个用于连通所述反应腔和回流腔的溢流孔，方便电解液的流动循环，且采用分散设置的两个溢流孔代替溢流凹口，减少对镀铜槽体的结构强度有破坏，增加镀铜槽的使用寿命。
【IPC分类】C25D17/02
【公开号】CN204874793
【申请号】CN201520588353
【发明人】杨成枝, 赵民焱
【申请人】北京欧地安科技有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年8月6日