真空泵的制作方法

文档序号:10590951阅读:698来源:国知局
真空泵的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种真空泵,其能够抑制异物侵入至转子间等的间隙,并且能够得到低的极限压力。真空泵具有沿着第一轴线方向延伸地形成的两根旋转轴、转子壳体、转子和遮蔽部。在转子壳体上形成有沿着两根旋转轴设置的转子室、与转子室连通的吸入口和与转子室连通的排出口。转子安装于两根旋转轴,并配置在转子室中。遮蔽部以防止从吸气口被吸入至转子室的气体直接趋向转子间的间隙的方式构成,并设在吸气口和转子室内部之间。
【专利说明】
真空泵
技术领域
[0001]本发明涉及真空栗。【背景技术】
[0002]在半导体器件及液晶器件的制造工艺中,将干式真空栗连接在真空腔室,通过真空栗将导入至真空腔室内的工艺气体进行排气。有时在通过真空栗排出的工艺气体中,作为异物混入有因真空腔室内的反应等而凝固的物质或者容易凝固的物质。
[0003]在干式真空栗中,将转子和转子之间或者转子和壳体之间的间隙(空隙)设为很小。因此,若凝固物侵入至栗内部,则有可能堆积或咬入在栗内部的这些间隙,妨碍转子的旋转。因此,有时在干式真空栗的吸入口设置用于抑制凝固物侵入至栗内部的捕集器 (trap)或过滤器。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开平5-332285号公报
[0007]在干式真空栗的吸入口,若工艺气体的吸入被堵塞,则连接有干式真空栗的真空腔室的极限压力变高。因此,设法将设在干式真空栗的吸入口的捕集器等设置成大的捕集器或者多级地设置捕集器等,成为制造工艺装置的大型化及昂贵的原因。另外,若凝固物堆积在捕集器等引起堵塞,则会妨碍干式真空栗的工艺气体的吸入,因此还存在需要频繁地进行捕集器等的清扫或更换等的维护的情况。
[0008]另外,作为干式真空栗,公知有螺杆式、罗茨式及爪式等,一般来说,与罗茨式及爪式的真空栗相比,螺杆式的真空栗受到异物来说的影响小。但是,尤其是,在作为工艺气体而使用氢气等的轻质气体的情况下等,罗茨式及爪式的真空栗能够得到比螺杆式的真空栗更低的极限压力。
【发明内容】

[0009]本发明是鉴于上述课题而提出的,其目的在于,提供一种能够抑制异物侵入至转子间等的间隙并且得到低的极限压力的真空栗。
[0010]本发明的真空栗具有沿着第一轴线方向延伸地形成的两根旋转轴、转子壳体、转子和遮蔽部。在转子壳体上形成有沿着两根旋转轴设置的转子室、与转子室连通的吸入口和与转子室连通的排出口。转子安装在两根旋转轴上,并配置在转子室。遮蔽部以防止从吸气口被吸入至转子室的气体直接趋向转子间的间隙的方式构成,并设在吸气口和转子室内部之间。
[0011]根据该真空栗,在吸气口和转子室内部之间设置有遮蔽部,通过该遮蔽部,防止从吸气口被吸入至转子室的气体直接趋向转子间的间隙。由此,能够抑制异物堆积或咬入转子间的间隙。
[0012]另外,转子也可以采用罗茨式或爪式的转子。
[0013]由此,尤其是,在作为工艺气体而采用氢气等的轻质气体的情况下等,能够实现基于真空栗的低的极限压力。
[0014]另外,从吸气口朝向转子室内部观察时,遮蔽部可以设在转子彼此的间隙的近前侧。[〇〇15]由此,能够抑制异物直接趋向转子彼此的间隙。
[0016]另外,遮蔽部也可以设在转子的上游,在从吸入口朝向转子室内部观察时设在两根旋转轴之间。[〇〇17]由此,能够抑制异物直接趋向转子彼此的间隙。
[0018]另外,遮蔽部可以具有上游侧窄且下游侧宽的锥形,也可以具有朝向上游成为凸状的曲面形状。[〇〇19]由此,能够有效地抑制异物直接趋向转子彼此的间隙。
[0020]另外,转子室可以具有相互由气体流路连接的多级的转子室,转子可以具有分别配置在多级的转子室中的多级的转子。而且,遮蔽部可以设在吸气口和多级的转子室中初级的转子室内部之间。[0021 ]由此,能够抑制异物直接趋向初级的转子室内部中的转子彼此的间隙。
[0022]另外,可以还具有异物捕捉部,该异物捕捉部具有在将多级的转子室中的级间连接的气体流路上配置的捕集器或过滤器的至少一方。
[0023]由此,能够通过气体流路的异物捕捉部捕捉气体所含有的异物。另外,捕捉异物的异物捕捉部设在多级的转子室中的级间,从而不存在异物捕捉部对从腔室向初级的转子室的吸气的妨碍,能够得到低的极限压力。另外,异物捕捉部设在压力比吸气口大的初级的转子室的下游,从而能够使用简易结构的异物捕捉部。而且,在异物堆积在异物捕捉部的情况下,对初级的转子室的吸气带来的影响小,从而能够减少异物捕捉部的维护频率。
[0024]另外,异物捕捉部也可以配置在将多级的转子室中初级的转子室和次级的转子室连接的气体流路上。
[0025]另外,也可以为转子壳体和多级的转子之间的间隙、或者多级的转子室各自的多级的转子彼此的间隙在异物捕捉部的下游形成得比上游小。
[0026]由此,在异物捕捉部的上游,能够抑制异物的堆积或咬入,并且能够实现基于真空栗的低的极限压力。[〇〇27]另外,真空栗可以还具有压力传感器,该压力传感器设在异物捕捉部的上游的气体流路上,并检测压力。
[0028]由此,能够基于压力传感器的检测,计算异物捕捉部的维护时间。
[0029]另外,异物捕捉部可以具有网状或多孔质状的过滤器。
[0030]由此,能够良好地捕捉在气体流路中流动的异物。
[0031]另外,吸气口也可以与产生包含非升华性的异物在内的气体的腔室连接。【附图说明】[〇〇32]图1是示出本实施方式的真空栗装置的概要结构图。
[0033]图2是从另一截面示出本实施方式的真空栗装置的概要结构图。
[0034]图3是示出本实施方式的第一级转子室内的概要结构的剖视图。
[0035]图4是示出本实施方式的第二级转子室内的概要结构的剖视图。
[0036]图5是示出异物捕捉部的一例的概要图。
[0037]图6是示出异物捕捉部的另一例的概要图。
[0038]图7是示出第一变形例的真空栗装置的概要结构图。
[0039]图8是示出第二变形例的真空栗装置的概要结构的框图。
[0040]附图标记说明[〇〇41 ]10真空腔室[〇〇42]20多级的压缩级[〇〇43]20A初级的压缩级[〇〇44]20B次级的压缩级
[0045]40气体流路
[0046]100真空栗
[0047]300、400 主轴
[0048]310、410 栗转子
[0049]312、412 第一级转子[〇〇5〇]314、414 第二级转子[0051 ]316、416第三级转子
[0052]500 壳体
[0053]510 吸气口
[0054]520转子室[〇〇55]522第一级转子室[〇〇56]524第二级转子室[〇〇57]526第三级转子室
[0058]530、532 气体流路
[0059]540 排气口[〇〇6〇]580遮蔽部[〇〇611600异物捕捉部[〇〇62]620压力传感器
[0063]640 壳体[〇〇64]650过滤器[〇〇65]660过滤器
[0066]662 孔
[0067]700控制部【具体实施方式】
[0068]图1是示出本实施方式的真空栗装置的概要结构图。图2是从另一截面示出本实施方式的真空栗装置的概要结构图。本实施方式的真空栗装置与例如进行CVD(化学气相沉积)处理的真空腔室(未图示)连接,并从真空腔室排出气体。本实施方式的真空栗装置能够良好地应用于在真空腔室内的气体含有固体异物的真空腔室,尤其是能够良好地应用于固体异物为非升华性固体的情况,但不限于此。另外,本实施方式的真空栗装置能够良好地应用于产生氢气等的轻质气体的真空腔室,但不限于此。
[0069]图1示出包含真空栗装置100所具有的一对栗转子310、410中的一个栗转子310的轴线AR1在内的截面。图2示出包含真空栗装置100所具有的一对栗转子310、410的双方的旋转中心轴线AR1、AR2在内的截面。在此,在图1中,考虑到附图的观察容易度,省略了栗转子 310的图示。另外,在图1中,还一并示出了构成真空栗装置100的压力传感器620及控制部 700的框图。[〇〇7〇] 如图1、2所示,真空栗装置100具有一对主轴(2根旋转轴)300、400、一对栗转子 310、410、马达200、壳体500、异物捕捉部600、压力传感器620和控制部700。[〇〇71] 主轴300、400沿轴线AR1、AR2方向延伸地形成。主轴300、400通过轴承302、402被轴支承在壳体500上。在主轴300、400上安装有一对定时齿轮380、480,主轴300、400通过来自马达200的动力同步旋转。在主轴300、400上,以伴随主轴300、400的旋转一体地旋转的方式分别安装有栗转子310、410。[〇〇72] 一对栗转子310、410构成了多级的压缩级。栗转子310具有在主轴300上分别隔开间隔地安装的第一级转子(初级转子)312、第二级转子(次级转子)314及第三级转子316(最终级转子)。另外,栗转子410具有在主轴400上分别隔开间隔地安装的第一级转子(初级转子)412、第二级转子414、(次级转子)及第三级转子(最终级转子)416。[〇〇73] 在壳体500上形成有多级的转子室520、吸气口 510、排气口 540和气体流路530、 532。另外,在壳体500上,在吸气口 510和第一级转子室522内部之间,也就是说在第一级转子312、412的上游设置有遮蔽部580。
[0074]多级的转子室520具有第一级转子室(初级转子室)522、第二级转子室(次级转子室)524和第三级转子室(最终级转子室)526。在第一级转子室522、第二级转子室524及第三级转子室中分别对应地收容有栗转子310、410的第一级转子312、412、第二级转子314、414 及第三级转子316、416。第一级转子室522与连接在真空腔室(未图示)的吸气口 510连通,第三级转子室526与排气口 540连通。另外,第一级转子室522和第二级转子室524经由设在转子室520的外周侧的气体流路530连接。同样地,第二级转子室524和第三级转子室526经由设在转子室520的外周侧的气体流路532连接。通过这样的结构,当从吸气口 510向第一级转子室522吸入工艺气体时,按气体流路530、第二级转子室524、气体流路532、第三级转子室 526的顺序输送工艺气体,最终从排气口 540排出到外部。
[0075]图3是示出本实施方式的第一级转子室内的概要结构的剖视图。在图3中,示出了与第一级转子室522内的轴线AR1、AR2垂直的截面。在第一级转子室522内,第一级转子312、 412相互相对地配置。在第一级转子312、412彼此之间、及第一级转子312、412和壳体500的内表面之间,形成有微小的间隙CF1、CF2。第一级转子312、412伴随主轴300、400的旋转彼此朝向相反方向旋转,对从吸气口 510流入的气体进行压送。此时,气体以不从第一级转子 312、412彼此之间通过,而从第一级转子312、412和壳体500的内表面之间通过的方式被压送(在图3中,参照粗线箭头)。[〇〇76] 在向第一级转子312、412的气体入口处设置有遮蔽部580。遮蔽部580配置为:在从吸气口 510朝向第一级转子室522的气体出口观察时(在图3中,沿着方向AD观察时),使第一级转子312、412彼此的间隙CF1 (密封部位)被覆盖。换言之,在从吸气口 510朝向第一级转子室522的气体出口观察时,遮蔽部580设在主轴300、400彼此之间。该遮蔽部580优选形成为, 在从吸气口 510朝向第一级转子室522的气体出口观察时,不能观察到第一级转子312、412 的分界线。遮蔽部580可以与壳体500—体地形成,也可以作为与壳体500独立的部件准备而组装于壳体500。[〇〇77] 遮蔽部580将从吸气口 510被吸入至第一级转子室522内的气体向远离第一级转子 312、412彼此的间隙CF1的方向进行引导。遮蔽部580只要以适合引导气体的方式设计其材料及形状即可。例如,遮蔽部580可以使用上游侧窄且下游侧宽的锥形的部件,也可以使用朝向上游成为凸状的曲面形状的部件。通过这样的遮蔽部580,能够抑制从吸气口 510被吸入至第一级转子室522内的气体直接趋向第一级转子312、412彼此的间隙CF1。在异物咬入至不是气体通道的第一级转子312、412彼此的间隙CF1的情况下,第一级转子312、412向相互分离的方向被推压,第一级转子312、412和壳体500会发生接触。而根据本实施方式,通过遮蔽部580,能够抑制异物咬入第一级转子312、412彼此的间隙CF1,能够提高真空栗装置 100的耐久性。
[0078]图4是示出本实施方式的第二级转子室内的概要结构的剖视图。此外,图1相当于图3、4中的1-1向视图。如图3及图4所示,在第二级转子室524中,与第一级转子室522同样地,第二级转子314、414彼此相对地配置。另外,在第二级转子314、414彼此之间、及第二级转子314、414和壳体500的内表面之间,形成有微小的间隙CL1、CL2。[〇〇79]这里,在本实施方式中,第二级转子室524中的第二级转子314、414的间隙CL1变得比第一级转子室522中的第一级转子312、412的间隙CF1小。换言之,第一级转子312、412的间隙CF1形成得比第二级转子314、414的间隙CL1大。与遮蔽部580同样地,这也是为了抑制异物咬入至不是气体通道的第一级转子312、412彼此的间隙CF1。另外,这是基于在与真空腔室连接的第一转子室522中,即使将间隙CF1形成得较大,对于真空栗装置100的性能的影响也小。因此,根据这样的结构,能够确保真空栗装置100的性能,并且能够进一步抑制异物堆积或咬入第一级转子312、414的间隙CF1。
[0080]而且,在本实施方式中,第二级转子室524中的第二级转子314、414和壳体500的内表面之间的间隙CL2变得比第一级转子室522中的第一级转子312、412和壳体500之间的间隙CF2小。换言之,第一级转子312、412和壳体500之间的间隙CF2形成得比第二级转子314、 414和壳体500之间的间隙CL2大。根据这样的结构,能够确保真空栗装置100的性能,并且能够更显著地抑制在第一级转子室522内发生异物的堆积或咬入。此外,在本实施方式中,比异物捕捉部600更靠下游的第三级转子室526内的间隙也与第二级转子室524内的间隙CL1、 CL2同样地,形成得比第一级转子室522的间隙CF1、CF2小。
[0081]返回图1进行说明。异物捕捉部600捕捉工艺气体所含有的异物(例如,凝固物)。异物捕捉部600如图1所示地设在连接第一级转子室522和第二级转子室524的气体流路530。 也就是说,从第一级转子室522排出的气体通过异物捕捉部600流入至第二级转子室524。 [〇〇82]异物捕捉部600例如图5所示地具有筒状的壳体640和收容在壳体640中的过滤器 650。过滤器650能够由多孔质或网状体形成。过滤器650恰当地捕捉工艺气体所含有的异物,另外,只要将通过过滤器650的阻力设计在能够容许的范围即可。例如,过滤器650能够基于工艺气体所含有的异物,使用形成有比异物小的孔的多孔质体。另外,异物捕捉部600 可以以使在工艺气体通过时的阻力变小的方式多级地设置阻力小的过滤器。另外,如图6所示,异物捕捉部600也可以具有壳体640和形成有孔662的多个过滤器660。在图6所示的例子中,各过滤器660以各孔662配置在相对于工艺气体的流动方向不同的位置的方式收容在筒状的壳体640内。在图6所不的例子中,在各过滤器660中形成有1个孔662,但也可以形成2个以上的孔662。在该情况下,例如,也可以以在相邻的过滤器660中使各孔662配置在相对于工艺气体的流动方向不同的位置的方式,将各过滤器660收容在筒状的壳体640内。[〇〇83]压力传感器620设在异物捕捉部600的上游,并检测气体流路530的压力。也就是说,压力传感器620设在第一级转子室522和异物捕捉部600之间。压力传感器620检测第一级转子室522的排气压力及异物捕捉部600的吸气压力。压力传感器620将所检测到的气体流路530的压力信号发送到控制部700。[〇〇84]控制部700除了控制真空栗装置100的全部工作以外,还作为数据存储部710、数据解析部720和报知部730发挥功能。控制部700在本实施方式中构成为具有CPU和存储器的信息处理装置,通过CPU执行存储在存储器中的程序,来实现所需的功能。在此,控制部700的功能的至少一部分也可以通过专用的硬件电路实现。另外,控制部700的各功能也可以分散地配置在2个以上的装置。
[0085]数据存储部710接收来自压力传感器620的检测信号并存储规定期间。数据存储部 710存储有压力传感器620的压力检测的初始值。上述初始值使用如下值:在异物捕捉部600 的内部没有异物附着的状态下的真空栗装置100的额定运转时,也就是说,在更换或维护了异物捕捉部600时,驱动真空栗装置100并通过压力传感器620实际检测出的值。初始值的测定及存储可以在真空栗装置100的出厂前进行,也可以在将真空栗装置100设置于使用场所之后(例如,试运转时)进行。此外,初始值也可以使用预先在设计上设定的值。[〇〇86]数据解析部720基于来自压力传感器620的检测信号来解析异物捕捉部600的异物的堆积状态。在本实施方式中,数据解析部720判断存储在数据存储部710中的规定期间(例如,1小时)的压力的检测值是否与由数据存储部92存储的初始值偏离规定程度。然后,在压力的检测值中的至少1个与初始值偏离规定程度的情况下,数据解析部720判断为需要进行异物捕捉部600的维护或更换。在此,数据解析部720也可以代替瞬间值或者在瞬间值的基础上使用平均值来进行解析。[〇〇87] 报知部730报知数据解析部720的解析结果。报知能够通过任意的方法进行,例如, 控制部700自身可以通过声音或画面显示进行警报,也可以将警报信号发送到中央控制室。 真空栗装置100的利用者能够基于报知部730的报知,计算异物捕捉部600的更换或维护的时间。[〇〇88] 在真空栗装置100中,当驱动马达200时,定时齿轮380及栗转子310被旋转驱动。通过定时齿轮380、480相互啮合,使栗转子410也被旋转驱动。一对栗转子310、410与转子室 520的内表面之间、以及第一级转子312、412、第二级转子314、414和第三级转子316、416彼此之间保持微小的间隙,非接触地朝向相反方向同步旋转。伴随一对栗转子310、410的旋转,从吸气口 510导入的工艺气体通过第一级转子312、412、第二级转子314、414及第三级转子316、416被压缩移送,并从排气口 540排出。
[0089]在以上说明的本实施方式的真空栗装置100中,捕捉工艺气体所含有的异物的网状或多孔质状的异物捕捉部600配置在第一级转子室522和第二级转子室524之间的气体流路530。由此,不存在异物捕捉部600对从真空腔室至第一级转子室522的吸气造成的妨碍。因此,能够降低基于真空栗装置100的真空腔室内的极限压力。另外,异物捕捉部600设在压力比吸气口 510大的第一级转子室522的下游,从而能够使用简易结构的异物捕捉部600。而且,即使在异物堆积在异物捕捉部600的情况下,对第一级转子室522的吸气造成的影响也小,能够减少异物捕捉部600的维护频率。
[0090]另外,在本实施方式的真空栗装置100中,在将沿着两根旋转轴的多级的转子室 520进行连接的气体流路530中设置有异物捕捉部600。因此,例如在增压栗的后级连接有主栗的系统中,与在增压栗和主栗之间设置异物捕捉部600的情况相比,能够减少构成系统的要素。因此,能够设置成包含控制系统在内的简易的结构,能够设置成廉价且紧凑的结构。
[0091]而且,在本实施方式的真空栗装置100中,在异物捕捉部600和第一级转子室522之间具有压力传感器620,从而能够基于压力传感器620的检测,计算出异物捕捉部600的维护的时间。
[0092]另外,本实施方式的真空栗装置100具有在从吸气口 510朝向第一级转子室522的气体出口(排气口)观察时覆盖第一级转子312、412彼此之间的间隙的遮蔽部580。由此,能够抑制异物直接侵入至第一级转子312、412彼此的间隙CF1,能够提高真空栗装置100的耐久性。
[0093]在上述实施方式的真空栗装置100中,采用了罗茨式的真空栗装置,但也可以采用爪式的真空栗装置。另外,真空栗装置100具有3级的压缩级,但也可以采用具有2级或4级以上压缩级的多级式真空栗装置,也可以采用不是多级式而具有单一级的压缩级的真空栗装置。
[0094]在上述实施方式的真空栗装置100中,在第一级转子室522和第二级转子室524之间的气体流路530上设置有异物捕捉部600。但是,异物捕捉部600只要设在对多级转子室 520级间进行连接的气体流路即可。例如图7的变形例的真空栗装置100A所示,可以在第二级转子室524和第三级转子室526之间的气体流路532设置异物捕捉部600A。这是基于,在接近真空腔室的上游,即使将转子室520中的壳体500和栗转子310、410之间的间隙、及栗转子 310、410彼此的间隙形成得较大,对栗装置100A的性能的影响也少。由此,只要将异物捕捉部600A设在多级转子室520级间的气体流路上,将异物捕捉部600A的上游采用异物造成的影响小的设计,将下游采用能够确保栗装置100A的性能的设计即可。[〇〇95]在上述实施方式的真空栗装置100中,关于沿着2条主轴300、400的多级的栗转子 310、410及转子室520进行了说明。但是,也可以在对真空腔室抽真空的具有多级的压缩级的真空栗系统中,设置异物捕捉部600。图8是示出变形例的真空栗系统的概要结构的框图。 如图8所示,在真空栗系统100B中,具有对真空腔室10抽真空的多级的压缩级20。而且,在与真空腔室10连接的初级的压缩级20A和次级的压缩级20B之间的气体流路40上设置有异物捕捉部600。这里,作为初级的压缩级20A具有第一栗装置(例如增压栗),作为次级以后的压缩级采用具有多级的压缩级的第二栗装置(例如主栗)。在该情况下,也能够发挥与上述实施方式同样的效果。
[0096]在上述实施方式的真空栗装置100中,异物捕捉部600具有网状或多孔质状的过滤器650。但是,异物捕捉部600不限于这样的例子,只要具有捕集器或过滤器的至少一方即可。另外,作为异物捕捉部600,也可以由无纺布等的不规则地形成有孔的素材构成。[0〇97]在上述实施方式的真空栗装置100中,构成为控制部700基于来自压力传感器620的检测信号来报知异物捕捉部600的维护时间,但也可以仅存储或报知压力传感器620的检测值。另外,也可以不设置压力传感器620,而是基于真空腔室的极限压力等来解析异物捕捉部600的维护时间。另外,也可以按预先设定的规定时间进行异物捕捉部600的维护。 [〇〇98]在上述实施方式的真空栗装置100中,在第一级转子312、314的上游设置有遮蔽部 580,但也可以不具有这样的遮蔽部580。而且,遮蔽部580还能够适用于单一级的真空栗装置。另外,遮蔽部580也可以仅设在吸气口 510和第一级转子室522内部之间,例如图7所示, 也可以设在多个转子室520的上游。而且,遮蔽部580如图7所示地也可以设在比异物捕捉部 600更靠上游的转子室520(参照遮蔽部580、580A),而不设在下游的转子室520。[〇〇99]在上述实施方式的真空栗装置100中,第二级转子314、414的间隙CL1比第一级转子312、412的间隙CF1小。另外,在栗转子310、410的径向(与主轴300、400的轴线AR1、AR2垂直的方向)上,第二级转子314、414和壳体500之间的间隙CL2比第一级转子312、412和壳体 500之间的间隙CF2小。但是,不限于该例。例如,主轴300、400的轴线AR1、AR2方向上的第二级转子314、414和壳体500之间的间隙CL3也可以形成得比第一级转子312、412和壳体500之间的间隙CF3小(参照图2)。另外,第一级转子312、412彼此的间隙CF1、以及第一级转子312、 412和壳体500之间的间隙CF2、CF3的至少1个也可以形成得比第二级转子314、414彼此的间隙CL1、以及第二级转子314、414彼此的间隙CL2、CL3大。根据这样的结构,也能够发挥与实施方式的真空栗装置100同样的效果。[〇1〇〇]以上,关于本发明的实施方式进行了说明,但上述发明的实施方式是为了易于理解本发明的一个实施方式,并不限定本发明。本发明能够在不脱离其主旨的范围内进行变更、改良,并且本发明当然包含其等同结构。另外,在能够解决上述课题的至少一部分的范围或者发挥效果的至少一部分的范围内,能够任意组合实施方式及变形例,任意组合或者省略权利要求书及说明书记载的各构成要素。
【主权项】
1.一种真空栗,其特征在于,具有:两根旋转轴,其沿着第一轴线方向延伸地形成;转子壳体,其形成有沿着所述两根旋转轴设置的转子室、与所述转子室连通的吸气口、 及与所述转子室连通的排气口;转子,其安装于所述两根旋转轴并配置在所述转子室中;和遮蔽部,其以防止从所述吸气口被吸入至所述转子室的气体直接趋向所述转子间的间 隙的方式构成,并设在所述吸气口和所述转子室内部之间。2.如权利要求1所述的真空栗,其特征在于,所述转子是罗茨式或爪式的转子。3.如权利要求1所述的真空栗,其特征在于,在从所述吸气口朝向所述转子室内部观察时,所述遮蔽部设在所述转子彼此的间隙的 近前侧。4.如权利要求1所述的真空栗,其特征在于,所述遮蔽部设在所述转子的上游,在从所述吸入口朝向所述转子室内部观察时设在所 述两根旋转轴之间。5.如权利要求1所述的真空栗,其特征在于,所述遮蔽部具有上游侧窄且下游侧宽的锥形状。6.如权利要求1所述的真空栗,其特征在于,所述遮蔽部具有朝向上游成为凸状的曲面形状。7.如权利要求1所述的真空栗,其特征在于,所述转子室具有相互由气体流路连接的多级的转子室,所述转子具有在所述多级的转子室的各自中配置的多级的转子,所述遮蔽部设在所述吸气口和所述多级的转子室中初级的转子室内部之间。8.如权利要求7所述的真空栗,其特征在于,还具有异物捕捉部,该异物捕捉部具有在将所述多级的转子室中的级间连接的气体流 路上配置的捕集器或过滤器的至少一方。9.如权利要求8所述的真空栗,其特征在于,所述异物捕捉部配置在将所述多级的转子室中初级的转子室和次级的转子室连接的 气体流路上。10.如权利要求8所述的真空栗,其特征在于,所述转子壳体和所述多级的转子之间的间隙、或者所述多级的转子室各自的所述多级 的转子彼此的间隙在所述异物捕捉部的下游形成得比上游小。11.如权利要求8所述的真空栗,其特征在于,还具有用于检测压力的压力传感器,该压力传感器设在所述异物捕捉部的上游的所述 气体流路。12.如权利要求8所述的真空栗,其特征在于,所述异物捕捉部具有网状或多孔质状的过滤器。13.如权利要求1所述的真空栗,其特征在于,所述吸气口与产生包含非升华性的异物在内的气体的腔室连接。
【文档编号】F04B37/16GK105952614SQ201610131171
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年3月8日
【发明人】盐川笃志
【申请人】株式会社荏原制作所
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