本发明涉及一种气相沉积设备的检漏、保压及填充正压用辅助设备，尤其是一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的辅助系统，主要应用于半导体设备
背景技术：
半导体设备需要用气相沉积设备反应气体集中控制系统(以下简称为气体集中控制系统)输送气体，在气体集中控制系统运输时，需要对气体集中控制系统内填充正压，防止污染。在装调时，安装气体集中控制系统，并对气体集中控制系统进行检漏及保压测试。如果能在气体集中控制系统采购到货后，就对其进行氦气检漏及保压测试，可保证在气体集中控制系统安装在机台上时顺利通过检漏。否则，此时再对其进行漏点，一旦有漏再进行排查，时间的不确定性会影响机台整体里程碑。
另外，不同的半导体工艺需要不同的气体集中控制系统。如，有的使用沉积气体工艺，有的使用沉积液体工艺，等等。这导致了的气体差异以及各个气路间距离差异。无法使用同一种气体集中控制系统辅助装置对其进行氦气检漏及保压，增加此辅助装置的种类。
为了解决以上的矛盾，开发一种新型的气体集中控制系统辅助装置对其进行检漏及保压已迫在眉睫。
技术实现要素：
针对上述现有技术的不足，本发明提供了一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的辅助系统。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的辅助系统，包括母头连接件、波纹管、气路集合管、氦气检漏接口及公头丝堵。多个波纹管通过气路集合管并联，气路集合管的末端连接氦气检漏接口。波纹管的上端连接母头连接件，公头丝堵与母头连接件通过螺纹连接。
本发明的有益效果及特点：结构紧凑合理，由于采用了波纹管连接，可对不同气路间距的气体集中控制系统实施氦气检漏、保压及填充正压等操作；满足不同的气体集中控制系统在到货时的检验及发货时填充正压的要求。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清晰、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1所示：一种气相沉积设备反应气体集中控制系统的辅助系统，包括母头连接件1、波纹管3、气路集合管4、氦气检漏接口5 及公头丝堵2。多个波纹管3通过气路集合管4并联，气路集合管4的末端连接氦气检漏接口5。波纹管3的上端连接母头连接件1，公头丝堵2与母头连接件1通过螺纹连接。
使用时，需要氦气检漏接口5连接在He检漏仪上，母头连接件1连接到气体集中控制系统内气路上，由于其采用波纹管带有柔性，所以不受气体集中控制系统内气路间距差异的影响。在气体集中控制系统内气路都连接完成后，可能会有用不到的母头连接件1，那么需用公头丝堵2把剩余的母头连接件1进行封堵，防止漏气。此时可对气体集中控制系统进行氦气检漏。
如果需要对气体集中控制系统进行保压及填充正压，那么只需要氦气检漏接口5连接氮气钢瓶，即可满足要求。