一种气体分析仪样气室装置制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种气体分析仪样气室装置，包括具有光学器件的样气室管，还包括开设在样气室管上的维护窗口和用于密封该维护窗口的可拆卸的密封板。应用本实施例提供的气体分析仪样气室装置，当其内部的光学器件被污染时，可通过拆卸密封板使得维护窗口打开，操作者通过维护窗口对光学器件进行清理。该装置避免使用将其整个拆卸开的清理方式，因此可有效减少清理时间，且便于操作者的维护。
【专利说明】一种气体分析仪样气室装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及气体分析【技术领域】，特别涉及一种气体分析仪样气室装置。
【背景技术】
[0002]在煤矿、石油化工、冶金和环保等行业，随着人们对气体检测的要求越来越高，测量技术与设备越来越受到人们的重视。近些年来，光学测量技术特别是可调谐激光吸收光谱技术得到了迅猛的发展，已经在众多行业中成功应用。但是，由于工业现场中的测量环境通常比较恶劣，使用一段时间后，分析仪内部的光学部件容易受到污染，严重影响测量的精度和分析仪的使用性能。目前，传统的维护方式是将分析仪发回生产厂家，由生产厂家进行光学器件的清理和维护，但是，这种维护方式需要的周期较长，影响使用者的正常工作。鉴于上述问题，一些公司开发了结构简单的样气室，其可以在现场拆开，对光学器件进行清理。但是，完成清理后，将光学器件安装回去后，还需要进行光路的重新调节，因此，这种方式仅局限于光路简单的样气室，例如，光路发射端与接收端为对射或单次反射的情况，而对于光路复杂的情况，则无法实现正常维护。
[0003]因此，如何提供一种气体分析仪样气室装置，以便于使用者对样气室进行维护，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。
【发明内容】
[0004]本发明的目的是提供一种气体分析仪样气室装置，以便于使用者对样气室进行维护。
[0005]为解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案:
[0006]一种气体分析仪样气室装置，包括具有光学器件的样气室管，其还包括开设在所述样气室管上的维护窗口和用于密封所述维护窗口的可拆卸的密封板。
[0007]优选地，上述的装置中，所述维护窗口为两个，且分布在所述样气室管的两端。
[0008]优选地，上述的装置中，所述维护窗口为矩形。
[0009]优选地，上述的装置中，所述密封板为可透视的密封板。
[0010]优选地，上述的装置中，还包括设置在所述密封板和所述维护窗口之间的密封件。
[0011]优选地，上述的装置中，所述密封件为密封垫。
[0012]优选地，上述的装置中，所述密封板与所述样气室管通过紧固件相连。
[0013]从上述的技术方案可以看出，本发明提供了一种气体分析仪样气室装置，包括具有光学器件的样气室管，还包括开设在样气室管上的维护窗口和用于密封该维护窗口的可拆卸的密封板。应用本实施例提供的气体分析仪样气室装置，当其内部的光学器件被污染时，可通过拆卸密封板使得维护窗口打开，操作者通过维护窗口对光学器件进行清理。该装置避免使用将其整个拆卸开的清理方式，因此可有效减少清理时间，且便于操作者的维护。
【专利附图】
【附图说明】[0014]图1为本发明实施例提供的气体分析仪样气室装置的剖视图；
[0015]图2为本发明实施例提供的气体分析仪样气室装置的结构示意图；
[0016]图3为本发明实施例提供的气体分析仪样气室装置外部爆炸图；
[0017]图4为本发明实施例提供的原位式气体分析仪样气室装置的剖视图；
[0018]图5为本发明实施例提供的单次反射气体分析仪样气室装置的剖视图；
[0019]图6为本发明实施例提供的单次反射气体分析仪样气室装置的另一种结构的剖视图；
[0020]图7为本发明实施例提供的多次反射气体分析仪样气室装置的剖视图；
[0021]图8为本发明实施例提供的另一种形状的维护窗口的结构示意图。
【具体实施方式】
[0022]本发明核心是提供一种气体分析仪样气室装置，以便于使用者对样气室进行维护。
[0023]为了使本【技术领域】的人员更好地理解本发明方案，下面结合附图和实施方式对本发明作进一步的详细说明。
[0024]请参考图1-图3所示，本发明公开了一种气体分析仪样气室装置，包括具有光学器件的样气室管2，还包括开设在样气室管2上的维护窗口(图中未标出)和用于密封该维护窗口的可拆卸的密封板I。
[0025]应用本实施例提供的气体分析仪样气室装置，当其内部的光学器件被污染时，可通过拆卸密封板I使得维护窗口打开，操作者通过维护窗口对光学器件进行清理。该装置避免使用将其整个拆卸开的清理方式，因此可有效减少清理时间，且便于操作者的维护。
[0026]具体的实施例中，将维护窗口设置为两个，且分布在样气室管2的两端。在实际生产情况下，由于气体分析仪的光学发射端6和光学接收端4的布置方式可为对射安装方式，即两者分布在样气室管2的两侧,并通过设置在样气室两侧的第一光学窗口 5将光束射入到样气室内，通过第二光学窗口 3将光束射出样气室，因此,为了能够对两侧的光学器件都实现清理，优选地实施例中，设置了两个维护窗口。操作者可根据实际情况，对不同的光学器件进行维护。
[0027]如图1和图4所不,对于光学发射端6和光学接收端4分别位于样气室管2的两侧的方式，其中，图4为原位式安装的方式，传统的清洁方式是将光学发射端6和光学接收端4分别拆卸下来，然后对光学器件进行清洁，再重新安装上，并对光路重新调节。而本实施例中的气体分析仪样气室装置，当气体分析仪的光强透射率降低时，气体分析仪将发出清洁窗口的提示信息，现场维护人员根据提示信息，开启维护窗口，将手或光学器件清洁工具通过维护窗口伸入到样气室中，对第一光学窗口 5、第二光学窗口 3或反射镜等光学器件进行清洁。清洁完后，将密封板I安装上，实现维护窗口的密封，气体分析仪返回正常测量状态，即实现了气体分析仪的现场维护。
[0028]如图5和6所示，光学发射端6与光学接收端4采用经过单次反射的安装方式，即光学发射端6和光学接收端4均分布在样气室管2的同一侧，其光路是通过第一光学窗口 5进入到样气室内部，并通过第一反射镜8发生反射，最后从第一光学窗口 5射出样气室。这种安装方式的气体分析仪也可采用上述维护窗口的布置方式。[0029]如图7所示，光学发射端6与光学接收端4采用经过多次反射的安装方式，即光学发射端6和光学接收端4均分布在样气室管2的同一侧，其光路是经过第二反射镜9进入到样气室内部，并在第一反射镜8上发生反射，再经过第二反射镜9反射，即经过多次反射，最终从第二反射镜9射出样气室。这种安装方式的气体分析仪也可采用上述维护窗口的布置方式。但是，在实际设置时根据实际情况，还可将维护窗口设置为一个，且开设在靠近光学发射端6和光学接收端4的一侧。本领域技术人员可以理解的是，可根据实际情况进行相应的选择。
[0030]优选地，将维护窗口设置为矩形。实际生产中，维护窗口并不局限于矩形还可为圆形形状或其他形状，如图8所示，且其位置及数量也不做限定，只要能实现对位于样气室中的光学器件进行清洁的即可。
[0031]当光路比较复杂时，例如采用Herriott型多次反射光路时,光路调节过程十分复杂。由于操作者看不到反射镜上的光斑位置、光斑大小、光斑数量以及分布的信息，使得调节过程较为复杂，因此需要对气体室进行反复的拆卸，极为不便。
[0032]为了便于观察样气室内的反射镜上的光斑的位置及分布的信息，在一具体实施例中，将密封板I设置为可透视的密封板。具体地，将密封板I的材料设置为透明材料，比如:塑料或玻璃。通过可透视的密封板1，操作者能够时刻查看样气室内部的反射镜上的光斑位置及分布情况，并根据这一信息对光路进行调节，避免了样气室的反复拆装，简化了光路的调节过程，即使非专业人员也可根据说明书进行光路的调节与操作，极大地降低了分析仪的维护成本。
[0033]在上述技术方案的基础上，为了防止样气从维护窗口泄露，本实施例还包括设置在密封板I和维护窗口之间的密封件7。通过密封件7的密封，可有效保证样气体分析仪的正常使用，防止泄露。
[0034]优选地，密封件7为密封垫。
[0035]本实施例中，将密封板I和样气室管2通过螺钉相连。可见上述实施例仅为本发明的一个实施例，固定方式有多种，上述仅列举了一个方式，对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。
[0036]本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
[0037]对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
【权利要求】
1.一种气体分析仪样气室装置，包括具有光学器件的样气室管，其特征在于，还包括开设在所述样气室管上的维护窗口和用于密封所述维护窗口的可拆卸的密封板。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述维护窗口为两个，且分布在所述样气室管的两端。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述维护窗口为矩形。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述密封板为可透视的密封板。
5.根据权利要求1-4任一项所述的装置，其特征在于，还包括设置在所述密封板和所述维护窗口之间的密封件。
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述密封件为密封垫。
7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述密封板与所述样气室管通过紧固件相连。
【文档编号】G01N21/15GK103884655SQ201210555529
【公开日】2014年6月25日 申请日期:2012年12月19日 优先权日:2012年12月19日
【发明者】韩敏艳, 骆德全, 郁良, 周欣 申请人:北京大方科技有限责任公司