光阻雾化处理设备及光阻雾化处理系统的制作方法

本发明属于光阻雾化技术领域，具体地讲，涉及一种光阻雾化处理设备及光阻雾化处理系统。

背景技术：

TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管-液晶显示器)是目前在亮度、对比度、功耗、寿命、体积和重量等综合性能均表现良好的显示器，它的性能优良、大规模生产特性好、自动化程度高且发展空间广阔，已经逐渐占据了显示器领域的主导地位。

在TFT-LCD中，液晶面板通常由Array基板(即薄膜晶体管阵列基板)、CF基板(即彩色滤光阵列基板)以及夹在二者之间的液晶构成。

在各个基板的制程中，通常在玻璃基板上通过涂布、曝光、显影、烘烤等得到设计的R、G、B、BM(BlackMatrix)、PS(Photo Spacer)光阻图案。然而在制程中曾有曝光光罩出现雾化的现象，从而导致曝光后的光阻图案产生变异，形状和线宽(CD)出现异常。而导致曝光光罩雾化的原因是在进行曝光时，光阻内残余溶剂将光起始剂碎裂物带出，附着在曝光光罩上，从而导致曝光光罩雾化。

因此，在光阻材料评估时亟需一种光阻雾化处理设备对光阻材料进行雾化，以评估光阻材料对曝光光罩的影响。

技术实现要素：

为了实现上述目的，本发明提供了一种光阻雾化处理设备，其包括：操控座台、容置腔体、样品盒、进气管、紫外灯管以及吸附管；所述容置腔体设置于所述操作座台上；所述样品盒设置于所述容置腔体中，所述样品盒用于放置光阻样品；所述进气管由所述操作座台穿入所述容置腔体中，且所述进气管与所述样品盒连通，所述进气管用于将惰性气体通入所述样品盒中；所述紫外灯管设置于所述容置腔体的内表面上，所述紫外灯管用于对放置于所述样品盒中的光阻样品进行紫外光曝光；所述吸附管与所述样品盒连通，且所述吸附管穿出所述容置腔体，所述吸附管用于收集由所述惰性气体吹出的经紫外光曝光后的光阻样品的碎裂物。

进一步地，所述容置腔体包括四个侧壁以及一个顶壁，所述四个侧壁两两相对设置，所述顶壁封闭在所述四个侧壁的一侧，所述操作座台封闭在所述四个侧壁的另一侧，以使所述操作座台的顶表面面向所述顶壁。

进一步地，所述四个侧壁中的至少一个被设置为能够打开或关闭。

进一步地，所述紫外灯管设置于所述能够打开或关闭的侧壁的内表面上。

进一步地，所述进气管由外部穿入所述操作座台中，并由所述操作座台的顶表面穿出，从而穿入所述容置腔体中；所述吸附管由所述容置腔体的顶壁穿出；在所述进气管由所述操作座台的顶表面穿出之后，利用螺母在所述操作座台的顶表面上对所述进气管进行紧固；在所述吸附管由所述容置腔体的顶壁穿出之后，利用螺母在所述顶壁的外表面上对所述吸附管进行紧固。

进一步地，所述样品盒呈长方体形，所述样品盒包括：上壁、下壁、左侧壁、右侧壁、前侧壁以及后侧壁，所述进气管连接到所述下壁，所述吸附管连接到所述上壁；在所述进气管连接到所述下壁之后，利用螺母在所述下壁的外表面上紧固所述进气管；在所述吸附管连接到所述上壁之后，利用螺母在所述上壁的外表面上紧固所述吸附管。

进一步地，所述左侧壁或其部分和/或所述右侧壁或其部分被设置为能够打开或关闭。

进一步地，所述光阻雾化处理设备还包括温度探测器，所述温度探测器设置于所述容置腔体中，以探测所述容置腔体中的温度。

进一步地，所述操控座台包括：总气压指示表，用于指示惰性气体源的压力；电源开关，用于控制电源的打开或关闭；控制键盘，用于设定工作温度、光阻样品处理时间以及所述样品盒中的气体流量；温度控制系统，用于将所述容置腔体中的温度保持到所述工作温度；显示屏，用于显示工作过程中的设定参数；启动开关，用于控制对所述样品盒中的光阻样品进行处理的开始或停止。

本发明还提供了一种光阻雾化处理系统，其包括惰性气体源以及上述的光阻雾化处理设备，所述光阻雾化处理设备的进气管与所述惰性气体源连通。

本发明的有益效果：本发明提供的一种光阻雾化处理设备以及光阻雾化处理系统能够对光阻材料进行雾化处理，从而便于光阻材料的雾化表现的评估，以筛选出优质光阻材料，减少因光阻材料导致的损失。

附图说明

通过结合附图进行的以下描述，本发明的实施例的上述和其它方面、特点和优点将变得更加清楚，附图中：

图1是根据本发明的实施例的容置腔体的一侧壁处于打开状态的光阻雾化处理设备的示意图；

图2是根据本发明的实施例的容置腔体的一侧壁处于关闭状态的光阻雾化处理设备的示意图；

图3是根据本发明的实施例的右侧壁的右部分处于打开状态的样品盒的示意图；

图4是根据本发明的实施例的右侧壁的右部分处于关闭状态的且放置有光阻样品的样品盒的示意图；

图5是根据本发明的实施例的光阻雾化处理系统的示意图。

具体实施方式

以下，将参照附图来详细描述本发明的实施例。然而，可以以许多不同的形式来实施本发明，并且本发明不应该被解释为限制于这里阐述的具体实施例。相反，提供这些实施例是为了解释本发明的原理及其实际应用，从而使本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施例和适合于特定预期应用的各种修改。

以下，诸如“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”等词语仅仅是为了便于描述实施例，并不是为了限制本发明。

图1是根据本发明的实施例的容置腔体的一侧壁处于打开状态的光阻雾化处理设备的示意图。图2是根据本发明的实施例的容置腔体的一侧壁处于关闭状态的光阻雾化处理设备的示意图。

参照图1和图2，根据本发明的实施例的光阻雾化处理设备100包括：操控座台110、容置腔体120、样品盒130、进气管140、紫外灯管150以及吸附管160；容置腔体120设置于操作座台110上；样品盒130设置于容置腔体120中，样品盒130用于放置光阻样品300；进气管140由操作座台110穿入容置腔体120中，且进气管140与样品盒130连通，进气管140用于将惰性气体通入样品盒130中；紫外灯管150设置于容置腔体120的内表面上，紫外灯管150用于对放置于样品盒130中的光阻样品300进行紫外光曝光；吸附管160与样品盒130连通，且吸附管160穿出容置腔体120，吸附管160用于收集由惰性气体吹出的经紫外光曝光后的光阻样品300的碎裂物300A。

具体而言，容置腔体120包括四个侧壁121、122、123、124以及一个顶壁125。侧壁121与侧壁123相对设置，侧壁122与侧壁124相对设置，且侧壁122连接侧壁121和侧壁123的一端，侧壁124连接侧壁121和侧壁123的另一端，这样，四个侧壁121、122、123、124合围后为两端开放且中空的长方体。顶壁125封闭在四个侧壁121、122、123、124的一端，而操控座台110封闭在四个侧壁121、122、123、124的另一端，以使操作座台110的顶表面110A面向顶壁125。也就是说，容置腔体120借用操作座台110作为其封闭四个侧壁121、122、123、124的另一端的“底壁”。此外，四个侧壁121、122、123、124可由透明材质形成，但本发明并不限制于此。

当然，需要说明的是，容置腔体120也可以包括一个底壁，该底壁与顶壁125面对设置，从而该底壁封闭在四个侧壁121、122、123、124的另一端。当容置腔体120与操作座台110安装时，使容置腔体120的底壁与操作座台110的顶表面110A贴合组装即可。

进一步地，为了便于安装或者拆卸样品盒130，优选地，可将四个侧壁121、122、123、124中的至少一个设置为能够打开或者关闭。在本实施例中，将侧壁121设置为能够打开或者关闭。在图1中，侧壁121处于打开状态；在图2中，侧壁121处于关闭状态。此外，侧壁121的外表面上可设置有把手126。

三根紫外灯管150设置于侧壁121的内表面上，但本发明并不限制于此。例如紫外灯管150可设置于侧壁122、123、124、顶壁125以及顶表面110A中的任意一个的内表面上，或者可在侧壁122和/或侧壁123和/或侧壁124和/或顶壁125和/或顶表面110A上设置紫外灯管150。此外，紫外灯管150的数量也并不以三根为限，其数量可以根据实际需求而设定。

三个样品盒130设置于容置腔体120中，但是本发明并不对样品盒130的数量作限制。图3是根据本发明的实施例的右侧壁的右部分处于打开状态的样品盒的示意图。图4是根据本发明的实施例的右侧壁的右部分处于关闭状态的且放置有光阻样品300的样品盒的示意图。在图3和图4中，示出了部分的进气管140和吸附管160。

参照图3和图4，样品盒130为一长方体盒子，其包括：上壁131、下壁132、左侧壁133、右侧壁134、前侧壁135以及后侧壁136。

为了便于放取光阻样品300，可将左侧壁133、右侧壁134、前侧壁135以及后侧壁136中的至少一个设置为能够打开或关闭。进一步地，被设置为能够打开或者关闭的侧壁，其可整体被设置为能够打开或者关闭，也可以部分被设置为能够打开或者关闭。在本实施例中，将右侧壁134的右部分134A设置为能够打开或者关闭，其中右侧壁134的右部分134A的宽度需要略微大于光阻样品300的厚度，便于光阻样品300能够自由进出样品盒130。

此外，当将光阻样品300放置于样品盒130时，使光阻样品300的光阻面向前侧壁130。

继续参照图1，进气管140由外部穿入操作座台110中(其可参照图5所示)，并由操作座台110的顶表面110A穿出，从而穿入容置腔体120中。在进气管140穿入容置腔体120中之后，可利用螺母181在操作座台110的顶表面110A上紧固进气管140。应当说明的是，在进气管140穿设的位置，均设置有相应的接口，以便于进气管140的连接或者贯穿。

参照图3，穿入容置腔体120中进气管140连接到样品盒130的下壁132，从而与样品盒130内连通。在穿入容置腔体120中进气管140连接到样品盒130的下壁132之后，可利用螺母182在下壁132的外表面上紧固进气管140。

参照图4，吸附管160连接到样品盒130的上壁131上，从而与样品盒130内连通。在吸附管160连接到样品盒130的上壁131上之后，可利用螺母184在上壁131的外表面上紧固进气管140。应当说明的是，在吸附管160穿设的位置，均设置有相应的接口，以便于吸附管160的连接或者贯穿。

继续参照图1和图2，连接到样品盒130的上壁131上的吸附管160由容置腔体120的顶壁125穿出，其中，由容置腔体120的顶壁125穿出的吸附管160收集碎裂物300A。在吸附管160由容置腔体120的顶壁125穿出之后，利用螺母183在顶壁125的外表面上对吸附管160进行紧固。

此外，在放置有光阻样品300的样品盒130被安装在容置腔体120之后，样品盒130的前侧壁135面向侧壁121的内表面，从而使紫外灯管150面向光阻样品300。

进一步地，为了感测容置腔体120中的温度，根据本发明的实施例的光阻雾化处理设备100还包括温度探测器170，该温度探测器170设置于容置腔体120中，以探测容置腔体120中的温度，从而使温度控制系统能够对容置腔体120中的温度进行及时调整，以保证容置腔体120中的温度保持在设定的工作温度。应当理解的是，温度探测器170可以被省去。

操控座台110包括：总气压指示表111，用于指示惰性气体源(图5中的200)的压力；电源开关112，用于控制电源的打开或关闭；控制键盘113，用于设定工作温度、光阻样品300的处理时间以及样品盒130中的气体流量；温度控制系统(未示出)，用于将容置腔体120中的温度保持到设定的工作温度；LCD显示屏114，用于显示工作过程中的设定参数；启动开关115，用于控制对样品盒130中的光阻样品300进行处理的开始或停止。

图5是根据本发明的实施例的光阻雾化处理系统的示意图。

参照图5，根据本发明的实施例的光阻雾化处理系统包括：上述的光阻雾化处理设备100以及惰性气体源200；其中，光阻雾化处理设备100的进气管140连接到惰性气体源200，从而将惰性气体源200中的惰性气体(诸如氮气)输送到样品盒130中。

以下将对利用根据本发明的实施例的光阻雾化处理系统对光阻样品进行雾化处理的过程进行说明。

首先，将光阻样品300放置于样品盒130中。这里，光阻样品300为在玻璃基板上经涂布-干燥-预烘烤得到光阻全膜样品。

接着，打开侧壁121，将放置有光阻样品300的样品盒130安装到容置腔体120中，使样品盒130分别与进气管140和吸附管160连通，且使光阻样品300面向紫外灯管150。

接着，关闭侧壁121。

接着，打开惰性气体源200，且打开电源开关112。

接着，按实际需要设置工作温度、样品处理时间、以及样品盒130流路的气体流量。设置方法：F键为功能键，每按一次在温度、时间以及各样品盒流量流量之间切换；C为清除键，可删除当前参数；S为保存键，可保存设置的方法参数以供下次实验继续使用。

接着，参数设置完毕之后，按下启动开关115，此时紫外灯管150、气流和温度开始工作，开始进行样品处理，将光阻样品300中光起始剂碎裂物300A等能被气流带出的物质收集在吸附管160中。

最后，按设定的时间执行完毕后，光阻雾化处理系统自动停止，紫外灯管150、气流和温度停止工作，并蜂鸣提示，关闭惰性气体源200和电源开关112。

之后，取出吸附管160中的碎裂物300A，用热脱附-气相色谱仪或者热脱附-气质联用仪进行光起始剂碎裂物300A的分析，以其含量的大小表征光阻样品300的雾化表现，越小说明越不容易引起曝光光罩雾化。

综上所述，根据本发明的实施例，提供了一种光阻雾化处理设备以及光阻雾化处理系统，能够对光阻材料进行雾化处理，从而便于光阻材料的雾化表现的评估，以筛选出优质光阻材料，减少因光阻材料导致的损失。

虽然已经参照特定实施例示出并描述了本发明，但是本领域的技术人员将理解：在不脱离由权利要求及其等同物限定的本发明的精神和范围的情况下，可在此进行形式和细节上的各种变化。