二次靶结构的投射式X光管荧光仪的制作方法

文档序号:12188893阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种二次靶结构的投射式X光管荧光仪,其特征在于:包括探测器(8)和可发射X射线(2)的、端部设有铍窗(9)的X光管(1),在铍窗(9)内侧设有一次靶(3)、外侧设有样品托(6)和两个以上的二次靶,所述X射线(2)经过二次靶激发后投射到样品托(6)上;在样品托(6)与一次靶(3)的间隙处设有光栏(7)。

2.根据权利要求1所述的二次靶结构的投射式X光管荧光仪,其特征在于:所述铍窗(9)的外侧设有两个分别为二次靶A(4)和二次靶B(5)的二次靶,所述二次靶A(4)与一次靶(3)平行设置,所述二次靶B(5)和样品托(6)与二次靶A(4)围成三角形结构、且使得X射线(2)透过二次靶A(4)照射到二次靶B(5)上并可以反射到样品托(6)上。

3.根据权利要求1或2所述的二次靶结构的投射式X光管荧光仪,其特征在于:所述一次靶(3)和二次靶的靶厚均≤50μm、至铍窗距离均≤5mm。

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