二次靶结构的投射式X光管荧光仪的制作方法

文档序号:12188893阅读:来源:国知局
技术总结
本实用新型涉及一种X光管荧光仪,尤其涉及一种二次靶结构的投射式X光管荧光仪,其属于测控技术领域。它主要包括探测器和可发射X射线的、端部设有铍窗的X光管,在铍窗内侧设有一次靶、外侧设有样品台和两个以上的二次靶,所述二次靶采用Te靶,所述X射线经过二次靶激发后投射到样品台上;在样品台与一次靶的间隙处设有光栏。本实用新型的有益效果是:利用轫致辐射和适当的二次靶材和结构设计;透射靶管加二次靶技术的激发系统,电流≤5Ma,电压≤50Kv,为提高X射线探测器灵敏度,大幅减小光管散射和轫致辐射对谱本底的贡献。

技术研发人员:郑素华
受保护的技术使用者:郑素华
文档号码:201620895854
技术研发日:2016.08.17
技术公布日:2017.03.08

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