背景电平的微波暗室地坑翻板示意图；
[0028]图3为本发明一种超低背景电平的微波暗室升降平台侧视图。
[0029]图4为本发明一种超低背景电平的微波暗室升降平台俯视图
[0030]图5为本发明一种超低背景电平的微波暗室吸波材料布局示意图。
【具体实施方式】
[0031]实施例1:参见图1，本实施例具体应用于一种超低背景电平的微波暗室，包括暗室房间、有开口的屏蔽壳体、安装于所述开口处的屏蔽大门、馈源、双柱面、泡沫支架、低散射支架、升降平台、吊装机构、激光定位器、照明系统、用于屏蔽升降平台与吊装机构的屏蔽翻板以及安装于所述屏蔽壳体内墙壁、所述屏蔽门内侧与所述翻板表面的吸波材料。
[0032]屏蔽壳体为钢结构，是吸波材料及其他负荷的主要承载结构，在屏蔽壳体内表面粘贴吸波材料，其中漫反射区和屏蔽室后墙贴覆角锥吸波材料；平行波区的暗室地面、暗室侧壁、暗室天花板均采用尖顶型铺设方式贴覆劈锥吸波材料。屏蔽壳体的一个侧壁开口分别安装馈源、屏蔽大门及屏蔽小门。
[0033]屏蔽大门由屏蔽门与电动机构组成，使用时，通过电机控制屏蔽大门压紧\松开，靠近\远离，地板下降\升起，打开\闭合。
[0034]光源安装于屏蔽壳体顶端凹陷处，周围布置吸波材料降低散射。
[0035]双柱面置于屏蔽壳体侧壁靠近馈源处。
[0036]升降平台与转台置于地坑内，由地坑翻板实现其屏蔽功能。
[0037]地坑翻板系统由金属屏蔽盖板A和B、升降机构、翻转机构组成。在两块屏蔽板上表面分别粘贴劈锥吸波材料。翻板系统与地坑构成闭合的空间，用于在测试期间屏蔽其中的测试升降平台。
[0038]泡沫支架粘贴于转台上，由软件控制转台带动支架转动。
[0039]屏蔽壳体底壁铺设导轨，低散射支架置于导轨上，可滑动。
[0040]吊装机构置于屏蔽壳体侧壁内，由侧壁翻板对其屏蔽。
[0041]侧壁翻板系统由金属屏蔽板与翻转机构组成。在屏蔽板上表面粘贴劈锥吸波材料。翻板系统与侧壁凹槽构成闭合的屏蔽舱，用于在测试期间屏蔽其中的吊装机构。
【主权项】
1.一种用于RCS测试的超低背景电平的微波暗室，由屏蔽墙体(1)、转台(2)、馈源系统(3)、金属反射面(4)、支架(5)、吸波材料(6)组成，其特征在于:所述的微波暗室中部有一下陷地坑，地坑中布置有转台及旋转机构和升降平台，并采用金属盖板对地坑口进行覆盖，金属盖板上留出一圆孔，转台上固定一个由泡沫材料制作的圆柱形支架，使其刚好可以穿过盖板上的圆孔；金属盖板由电机驱动自动打开和关闭；所述的金属盖板由升降盖板A(ll)、旋转闭合盖板B(12)两部分组成，升降盖板A(ll)包括液压驱动机构和固连在上方的金属平板，旋转闭合盖板B (12)包括液压驱动机构和三个支点，当地坑金属盖板打开时，升降盖板A下沉到地坑底部；旋转闭合盖板B将部分占用升降盖板A上的空间，向升降盖板A上方方向旋转90度竖起；所述微波暗室内表面和地坑金属盖板上均布置有高度300mm?800mm的雷达吸波泡沫材料；当地坑金属盖板处于关闭状态时，金属盖板上的吸波泡沫材料与暗室内的吸波泡沫材料拼接间隙小于1cm ;所述升降盖板A的宽度1^应大于固定于升降盖板A和旋转闭合盖板B上吸波材料的高度L2，地坑屏蔽翻板在翻起过程中，升降盖板下降深度不小于吸波材料高度L2与金属屏蔽翻板厚度L3的总和。2.一种如权利要求1所述的用于RCS测试的超低背景电平的微波暗室，其特征在于，所述漫反射区(7)和屏蔽室后墙贴覆角锥吸波材料；平行波区(8)的暗室地面、暗室侧壁、暗室天花板均采用尖顶型铺设方式贴覆劈锥吸波材料。3.一种如权利要求1所述的用于RCS测试的超低背景电平的微波暗室，其特征在于，在暗室内部布置有吊装机构(9)，由旋转吊臂、吊钩、升降绳索、滑轮、电机组成；旋转吊臂固定在暗室侧壁上，并由盖板进行保护，盖板以垂直旋转的方式打开或关闭；吊臂从盖板后方以水平旋转的方式伸出，并放下吊钩，用于吊起目标，并将其送至转台附近，或者将转台上的目标吊下转台并移近暗室出口 ；将吊钩与目标分离，摘钩收起，吊臂收回到盖板后方；盖板关闭；盖板表面固定有雷达吸波材料，关闭时雷达吸波材料与暗室雷达吸波材料外观保持连续。4.一种如权利要求1所述的用于RCS测试的超低背景电平的微波暗室，其特征在于，该暗室内布置有照明系统(9)，所述照明系统为冷光源，安装在顶部靠近侧墙位置，灯体埋于吸波材料(6)内。5.一种如权利要求1所述的用于RCS测试的超低背景电平的微波暗室，其特征在于，所述的馈源系统⑶由三套宽带双极化四脊馈源组成，馈源的相位中心置于副反射面的焦点处。6.一种如权利要求1所述的用于RCS测试的超低背景电平的微波暗室，其特征在于，所述的金属反射面⑷由主反射面(10)和副反射面(11)组成。7.一种如权利要求1所述的用于RCS测试的超低背景电平的微波暗室，其特征在于，所述的支架(5)的雷达散射截面积小于_30dBsm，在转台底座的带动下进行360°连续转动。
【专利摘要】本发明属于低RCS背景微波暗室设计范畴，具体涉及一种用于RCS测试的超低背景电平的微波暗室，由屏蔽墙体、转台、馈源系统、金属反射面、支架、吸波材料组成。所述微波暗室通过使用金属屏蔽盖板对升降平台和吊装机构进行电磁屏蔽，在转台上固定了一个由泡沫材料制作的圆柱形支架，使其刚好可以穿过盖板上的圆孔。盖板可以由电机驱动自动打开和关闭。采用屏蔽翻板系统与电控屏蔽门系统、二者开合过程中无需要移除的吸波材料，且吸波材料拼接缝隙小，重复测试过程中背景一致性好，有利于提高测试精度，可广泛应用于低背景电平微波暗室建设中去。
【IPC分类】G01S7/40
【公开号】CN105242249
【申请号】CN201510827762
【发明人】黄兴军, 张晓钟, 戴全辉, 郑理, 吴亚齐
【申请人】北京机电工程研究所
【公开日】2016年1月13日
【申请日】2015年11月25日