膜。
[0059]在一些实施例中包括部分142A和142B的次级阻挡件142被布置在外部阻挡件140的原点126与内边缘154之间的位置处，以阻挡原本会穿过外部阻挡件140的光线的一部分。次级阻挡件142可以线性构造或径向构造形成。图4中的例子示出包括线性次级阻挡件142的线性构造。图5中的例子示出包括径向次级阻挡件部分142C和142D的径向构造。
[0060]继续参照图4所示的例子，次级阻挡件142具有在外部阻挡件140的内边缘154之间水平延伸的矩形形状。次级阻挡件部分142A包括外边缘156和内边缘158。外边缘156定位在与原点126相距高度H7处，而内边缘定位在与原点126相距高度H8处。次级阻挡件部分142A在其间延伸，并且被构造成阻挡具有使得光线沿着光学路径在高度H7和H8之间穿过的辐射角的光线。次级阻挡件142的厚度为高度H7与H8之间的差值，其小于内边缘154的高度H6。次级阻挡件部分142B通常具有与次级阻挡件部分142A相同的形状，并且被布置在滤光片掩膜120的相对侧处。孔124被定位在次级阻挡件的上方和下方，允许不同辐射角的光线在次级阻挡件部分142A和142B中的每一个的上方和下方穿过。在一些实施例中，允许具有不同辐射角(大于和小于由次级阻挡件阻挡的角)的光线LR穿过滤光片掩膜的孔124，并由单个传感器分析器收集和分析(如图1所示)。
[0061]中心阻挡件144穿过原点126并且在外部阻挡件140的内边缘154的相对侧之间水平延伸，以阻挡具有小于最小垂直辐射角的光线的一部分。在该例子中，中心阻挡件144为矩形并具有外边缘160和162。外边缘160和162水平延伸并且定位成与原点126相距高度H9。在其他实施例中，边缘160和162是弯曲的，诸如具有弓形、部分圆形或抛物线形状。
[0062]革E1心阻挡件146通常以原点126为中心，并且被构造成阻挡其福射角小于最小福射角的光线。在一些实施例中，靶心阻挡件146具有圆形形状。其他实施例具有其他形状，诸如椭圆形、正方形或矩形。靶心阻挡件具有外边缘164。在该例子中，外边缘164具有半高H10和半宽W10。当靶心阻挡件具有圆形形状时，高度H10和宽度W10等于圆形形状的半径。靶心阻挡件146用于阻挡来自光束的未被流体辐射的光线，以及其辐射角小于最小辐射角的那些光线。通过阻挡光线的明亮部分，例如，信噪比可显著提高。然而，在一些实施例中，类似功能也可以或另选地由中心阻挡件144执行。
[0063]图5为示出滤光片掩膜120的另一个例子的前正视图。图5所示的滤光片掩膜通常与图4所示相同，不同的是，在该例子中，次级阻挡件142具有径向构造。因此，滤光片掩膜120、主体122、外部阻挡件140、中心阻挡件144和靶心阻挡件146在此不作重复描述。
[0064]在该例子中，次级阻挡件142具有包括次级阻挡件部分142C和142D的径向构造，并且包括外边缘156和内边缘158。次级阻挡件142在外边缘156和内边缘158之间延伸。
[0065]在一些实施例中，边缘156和158具有圆形形状。其他实施例具有其他形状，诸如椭圆形、正方形或矩形。外边缘156具有高度H7和宽度W7。内边缘158具有高度H8和宽度W8。
[0066]图6-图9示出滤光片掩膜120的若干另外的例子。图6_图7示出被称为平滑掩膜的第一类滤光片掩膜。图8-图9示出被称为分离掩膜的第二类滤光片掩膜。
[0067]图6为示例性滤光片掩膜120A的前正视图。示例性滤光片掩膜120A包括主体122和孔124。主体122包括原点126、外部阻挡件140、次级阻挡件142和中心阻挡件144。滤光片掩膜120A为平滑掩膜的第一例子。
[0068]如本文所述，滤光片掩膜120的物理尺寸可根据光线的辐射角来描述，因为辐射角对应于光学路径内的特定物理位置。辐射角与实际物理尺寸成比例，所述实际物理尺寸可基于滤光片掩膜120在光学系统108中的具体物理位置进行计算。因此，图6根据垂直辐射角(-50°至+50° )和水平辐射角(-15°至+15° )来识别示例性滤光片掩膜120A的比例，并且这些角度将在下文中进一步讨论。
[0069]外部阻挡件140具有外边缘152。在该例子中，外边缘定位在+/_50°的垂直辐射角和+/-15°的水平辐射角处。
[0070]外部阻挡件140还具有椭圆形的内边缘154。内边缘154的顶部和底部定位在+/-45°的垂直辐射角处，而内边缘154的侧面定位在+/-12°的垂直辐射角处。
[0071]在该例子中，次级阻挡件142为线性次级阻挡件。次级阻挡件142包括部分142A和142B，其各自具有外边缘156和内边缘158。外边缘156布置在+/-39°的垂直辐射角处，而内边缘158布置在+/-33°的垂直辐射角处。
[0072]中心阻挡件144具有外边缘160和162。外边缘160和162布置在+/-16°的垂直辐射角处。
[0073]图7为示例性滤光片掩膜120B的前正视图。示例性滤光片掩膜120B包括主体122和孔124。主体122包括原点126、外部阻挡件140、次级阻挡件142和中心阻挡件144。滤光片掩膜120B为平滑掩膜的第二例子。
[0074]外部阻挡件140具有外边缘152。在该例子中，外边缘定位在+/_50°的垂直辐射角和+/-15°的水平辐射角处。
[0075]外部阻挡件140还具有椭圆形的内边缘154。内边缘154的顶部和底部定位在+/-42°的垂直辐射角处，而内边缘154的侧面定位在+/-12°的垂直辐射角处。
[0076]在该例子中，次级阻挡件142为径向次级阻挡件。次级阻挡件142包括外边缘156和内边缘158。外边缘156为具有与+/-37°的垂直辐射角相交的半径的圆形，而内边缘158为具有+/-3Γ的垂直辐射角相交的半径的圆形。换句话讲，次级阻挡件142被布置和构造成阻挡辐射角大小在31°与37°之间的光线。
[0077]中心阻挡件144具有外边缘160和162。外边缘160和162布置在+/-22°的垂直辐射角处。
[0078]图8为另一个示例性滤光片掩膜120C的前正视图。示例性滤光片掩膜120C包括主体122和孔124。主体122包括原点126、外部阻挡件140和中心阻挡件144。滤光片掩膜120C为分离掩膜的第一例子。
[0079]外部阻挡件140具有外边缘152。在该例子中，外边缘定位在+/_50°的垂直辐射角和+/-15°的水平辐射角处。
[0080]外部阻挡件140还具有椭圆形的内边缘154。内边缘154的顶部和底部定位在+/-19°的垂直辐射角处，而内边缘154的侧面定位在+/-12°的垂直辐射角处。
[0081]中心阻挡件144具有外边缘160和162。外边缘160和162布置在+/-12.2°的垂直辐射角处。
[0082]图9为示例性滤光片掩膜120D的前正视图。示例性滤光片掩膜120D包括主体122和孔124。主体122包括原点126、外部阻挡件140、次级阻挡件142和中心阻挡件144。滤光片掩膜120D为分离掩膜的第二例子。
[0083]外部阻挡件140具有外边缘152。在该例子中，外边缘定位在+/_50°的垂直辐射角和+/-15°的水平辐射角处。
[0084]外部阻挡件140还具有椭圆形的内边缘154。内边缘154的顶部和底部定位在+/-23°的垂直辐射角处，而内边缘154的侧面定位在+/-12°的垂直辐射角处。
[0085]在该例子中，次级阻挡件142为线性次级阻挡件。次级阻挡件142包括部分142A和142B，其各自具有外边缘156和内边缘158。外边缘156布置在+/-17°的垂直辐射角处，而内边缘158布置在+/-15°的垂直福射角处。
[0086]中心阻挡件144具有外边缘160和162。外边缘160和162布置在+/-12.2°的垂直辐射角处。
[0087]图10-图11示出图1所示光学系统108的另一个例子。图10为示例性光学系统108的剖面侧视图。图11为示例性光学系统108的剖面顶视图。
[0088]在该例子中，光学系统108包括收集光学组件161、二次成像仪163、准直器165、光束分离组件167、滤光片掩膜120以及另外可能的光学部件169。
[0089]虽然结合光学系统108的特定物理具体实施(诸如包括特定类型的透镜和特定透镜构造)示出和描述了该例子，但是其他实施例可具有其他构造。在与本文同一天提交的标题为“OPTICS SYSTEM FOR A FLOW CYTOMETER”(用于流式细胞仪的光学系统)的共同待审的美国专利申请序列号61/793，771中更详细地示出并描述了可能的光学组件的其他例子，该专利申请的公开内容以引用方式并入本文。
[0090]在一些实施例中，收集光学组件16