用于流式细胞仪的辐射光过滤的制作方法_5

文档序号:9568398阅读:来源:国知局
施例中,掩膜架252由单块材料形成。例如,掩膜架252可模制而成。在另一个可能的实施例中,掩膜架252由一块实心材料形成,该实心材料经过加工、蚀刻或以其他方式形成所需构造。在其他实施例中,掩膜架252由两块或更多块材料形成。可能的材料的例子包括塑料、金属、玻璃以及这些材料或其他材料的组合。还可涂覆一种或多种涂料,诸如油漆。在一些实施例中,材料和/或涂料是吸光的和/或非反射的。
[0111]在一些实施例中,外壳254的尺寸和形状被设计成可插入对应尺寸的插孔中,该对应尺寸的插孔布置在细胞仪的光学系统中适当的位置处。
[0112]在一些实施例中,顶部260包括接合特征结构272。细胞仪的插孔上方的盖子或闩锁被构造成在掩膜架252被正确地插入插孔中时与接合特征结构272接合。
[0113]在一些实施例中,侧面262和264包括夹持特征结构274和276。在该例子中,夹持特征结构274和276被构造成由操作者的指尖抓持以便从细胞仪的插孔容易地移除掩膜架 252。
[0114]在一些实施例中,掩膜架252具有图14-图16所示的高度H11、长度L11和宽度ffllo各种实施例可具有不同的尺寸。作为一个例子,高度H11和长度L11在约0.5英寸至约2英寸的范围内。一些实施例具有约1英寸的高度H11和长度L11。作为另一个例子,宽度W11在约0.1英寸至约0.5英寸的范围内。一些实施例具有约0.25英寸的宽度W11。
[0115]在一些实施例中,滤光片掩膜120的厚度小于掩膜架252的宽度W11。作为一个例子,厚度在约0.01至约0.03英寸的范围内。一些实施例具有约0.02英寸(0.5mm)的厚度。
[0116]本文所述的掩膜架252以举例的方式提供,但广泛多种的另选的构造也是可能的。
[0117]如本文所述,流式细胞仪100的一些实施例包括一种或多种类型的计算机可读介质。计算机可读介质包括可由计算装置112访问的任何可用介质。举例来讲,计算机可读介质包括计算机可读存储介质和计算机可读通信介质。
[0118]计算机可读存储介质包括易失性的和非易失性的、可移除的和不可移除的介质,该介质在构造用于存储信息(诸如计算机可读指令、数据结构、程序模块或其他数据)的任何装置中实现。计算机可读存储介质包括但不限于随机存取存储器、只读存储器、电可擦可编程只读存储器、闪存或其他存储技术、光盘只读存储器、数字通用盘或其他光存储器、磁盒式磁带、磁带、磁盘存储器或其他磁存储装置、或可用于存储所需信息且可由计算装置112访问的任何其他介质。计算机可读存储介质不包括计算机可读通信介质。
[0119]计算机可读通信介质通常为计算机可读指令、数据结构、程序模块或调制数据信号(诸如载波或其他传输机制)中的其他数据,并且包括任何信息传递介质。术语“调制数据信号”是指具有一个或多个其特征集合或以编码信号中的信息的这种方式改变的信号。举例来讲,计算机可读通信介质包括有线介质,诸如有线网络或直接有线连接;以及无线介质,诸如声音、射频、红外线和其他无线介质。上述中的任一个的组合也包括在计算机可读介质的范围内。
[0120]在一些实施例中,术语“基本上”是指小于5%的偏差。在其他实施例中,该术语是指小于1%的偏差。又一些实施例具有小于0.1%的偏差。其他实施例具有其他偏差量。
[0121]上述各种实施例仅以举例说明的方式提供,不应被视为对本文所附权利要求书的限制。本领域的技术人员将容易地理解,在不脱离以下权利要求的真实实质和范围的情况下,可以不遵循本文所述的示例性实施例和应用作出各种修改和变化。
【主权项】
1.一种用于流式细胞仪的滤光片掩膜,所述滤光片掩膜包括: 主体,所述主体包括: 阻光特征结构,所述阻光特征结构包括: 外部阻挡件;和 次级阻挡件,所述次级阻挡件被构造成阻挡具有阻挡辐射角的光线;以及 透光孔,所述透光孔被构造成允许具有大于和小于所述阻挡辐射角的辐射角的光线穿过所述主体。2.根据权利要求1所述的滤光片掩膜,其中所述外部阻挡件被布置和构造成阻挡所述流式细胞仪内与大于最大垂直辐射角和最大水平辐射角的辐射角相关的光线。3.根据权利要求1所述的滤光片掩膜,其中所述次级阻挡件被布置和构造成阻挡所述流式细胞仪内与小于所述最大垂直辐射角和最大水平辐射角的辐射角相关的至少一些光线,并且被定位在所述外部阻挡件与所述滤光片掩膜的原点之间。4.根据权利要求3所述的滤光片掩膜,其中所述次级阻挡件具有矩形形状。5.根据权利要求3所述的滤光片掩膜,其中所述次级阻挡件具有曲线形状。6.根据权利要求1所述的滤光片掩膜,还包括靶心阻挡件。7.根据权利要求1所述的滤光片掩膜,还包括中心阻挡件。8.根据权利要求1所述的滤光片掩膜,其中所述滤光片掩膜包含在所述掩膜架中。9.根据权利要求1所述的滤光片掩膜,其中所述滤光片掩膜是平滑滤光片,所述平滑滤光片针对单一类型的颗粒具有基本线性的响应曲线。10.根据权利要求1所述的滤光片掩膜,其中所述滤光片掩膜是分离滤光片,所述分离滤光片具有在不同类型的颗粒的响应曲线中的分离。11.一种流式细胞仪,所述流式细胞仪包括: 液流喷嘴,所述液流喷嘴被构造成沿着流动路径提供流体,所述流体将样品颗粒包含在其中; 光源,所述光源被构造成生成朝向所述流动路径导向的光束,其中当所述光束与所述流动路径相交时,光线被所述流体和所述颗粒以辐射角辐射; 光学系统,所述光学系统被构造成接收所述辐射光线并沿着光学路径导向所述光线,所述光学组件包括至少第一滤光片掩膜,所述第一滤光片掩膜包括定位在所述第一滤光片掩膜中以选择性地阻挡具有特定辐射角的光线的阻光特征结构;以及 传感器分析器,所述传感器分析器布置在所述光学路径的末端以收集和分析穿过所述光学系统的光线。12.根据权利要求11所述的流式细胞仪,其中所述光学系统包括插孔,并且其中所述第一滤光片掩膜可从所述插孔移除。13.根据权利要求11所述的流式细胞仪,其中所述光学系统还包括: 光束分离组件,所述光束分离组件沿着所述光学路径布置以将所述光线分离成至少两个独立光束,其中所述第一滤光片掩膜沿着所述独立光束的第一个布置;以及 第二滤光片掩膜,所述第二滤光片掩膜沿着所述独立光束的第二个布置。14.根据权利要求13所述的流式细胞仪,其中具有第一组辐射角的光线穿过所述第一滤光片掩膜,并且其中具有第二组辐射角的光线穿过所述第二滤光片掩膜。15.根据权利要求14所述的流式细胞仪,其中所述辐射角中的至少一些在所述第一组和所述第二组中是相同的。16.一种用流式细胞仪评价颗粒的方法,所述方法包括: 沿着流体流动路径在流体中传递颗粒; 使用光束照射所述颗粒和所述流体; 使用光学系统收集从所述流体和所述光束辐射的光线; 使用滤光片掩膜选择性地阻挡光线中具有一定辐射角的一些; 使用所述滤光片掩膜选择性地使所述光线中的其他部分穿过;以及 使用传感器分析器检测穿过所述滤光片掩膜的光线以评价所述颗粒的至少一个特征。17.根据权利要求16所述的方法,其中所述至少一个特征选自所述颗粒的尺寸和所述颗粒的类型。18.根据权利要求16所述的方法,还包括使用所述光学系统将所述光束分离成至少两个独立光束。19.根据权利要求18所述的方法,其中所述选择性阻挡和所述选择性穿过涉及采用第一滤光片掩膜选择性地阻挡和选择性地穿过独立光束的第一个,并且还包括:使用第二滤光片掩膜选择性地阻挡所述独立光束的第二个的所述光线中具有一定辐射角的一些,其中所述第二滤光片掩膜阻挡的所述辐射角不同于所述第一滤光掩膜阻挡的所述辐射角。20.根据权利要求16所述的方法,还包括: 将所述滤光片掩膜容纳到所述流式细胞仪的插孔中,所述滤光片掩膜被安放在掩膜架中,其中将所述滤光片掩膜容纳到所述流式细胞仪的插孔中发生在沿着所述流体流动路径在所述流体中传递所述颗粒之前。
【专利摘要】本发明公开了一种用于流式细胞仪的滤光片掩膜,所述滤光片掩膜包括阻光特征结构和透光孔。所述流式细胞仪用于通过照射样品和载流体并收集从所述样品和所述载流体辐射的光线,从而评价所述样品的一个或多个特征。所述光线穿过所述滤光片掩膜。所述滤光片掩膜的阻光特征结构被布置成以一定辐射角选择性地阻挡辐射光,同时允许具有其他辐射角的光线穿过其中。传感器分析器接收穿过的所述光线以评价所述样品的至少一个特征。所述光线还可被分离成两个光束,可使用不同的滤光片掩膜独立地过滤所述两个光束。然后,可比较结果以提供关于所述样品的特征的甚至更多信息。
【IPC分类】G01N21/53, G01N15/14
【公开号】CN105324657
【申请号】CN201480016160
【发明人】迈克尔·M·莫雷尔, 蒂莫西·里德
【申请人】贝克曼考尔特公司
【公开日】2016年2月10日
【申请日】2014年3月14日
【公告号】EP2972203A1, US20160025557, WO2014144585A1
当前第5页1 2 3 4 5 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1