36移送的各容器15被设定为故障对待。
[0115]也就是说，不能继续测定的容器15的范围为图11所示组74内的容器15。具体而言，第一试剂分装机构31的分装处理对象容器15、置于反应部件28b的反应处理中的容器15、置于分离处理部件32的容器15、集磁端口 38的容器15、以及中转部件42的容器15被设定为故障对待。
[0116]此时，对于在容器移送机构36下游一侧由容器移送机构37移送的容器15继续测定作业。因此，在检测出异常时在下游一侧的组75、76的容器15经过下游步骤的R4试剂和R5试剂的分装处理等，完成到测定部件43的测定处理。
[0117][第一机构部件和第二机构部件的其他结构例]
在本实施方式中，就第一机构部件11包括第一试剂分装机构31、第二机构部件12包括容器移送机构36的例子进行了具体说明，但第一机构部件11和第二机构部件12也可以包括其他机构。
[0118]具体而言，如图12所示，第一机构部件11包括对容器15进行移送处理的第一容器移送机构111，第二机构部件12包括对第一容器移送机构111完成了移送处理的容器15进行移送处理的第二容器移送机构121。关于第一容器移送机构111比如包括容器移送机构35，第二容器移送机构121比如包括容器移送机构36。
[0119]在此情况下，容器移送机构35的第一作业范围112和容器移送机构36的第二作业范围122包括相互重复的重复区域161。容器移送机构35的第一作业范围112和容器移送机构36的第二作业范围122分别包括不互相重复的非重复区域113和123。此时，作业检测部件13包括水平方向驱动用的电机114和115各自的编码器116。控制部件14根据编码器116的检测结果检测容器移送机构35的异常。然后，检测出容器移送机构35的异常后，控制部件14让容器移送机构35退避到非重复区域113，让容器移送机构36的移送处理继续。
[0120]容器移送机构35的退避位置最好是配置在非重复区域113的原点位置。更为理想的是，在原点位置设有原点传感器117，控制部件14能够确认退避作业完成。采用如此结构，即使当容器移送机构35向重复区域161的R2分装端口 39和集磁端口 38移送容器15时发生异常，也能够使容器移送机构35退避到非重复区域113。因此，容器移送机构36的移送处理能够与容器移送机构35互不干扰地继续进行。
[0121]又如图13所示，也可以使第一容器移送机构111包括容器移送机构36，第二容器移送机构121包括容器移送机构37。容器移送机构36的第一作业范围132和容器移送机构37的第二作业范围142包括互相重复的重复区域162，且分别包括互不重复的非重复区域133和143。作业检测部件13包括水平方向驱动用的电机54和55各自的编码器134。控制部件14根据编码器134的检测结果检测出容器移送机构36的异常时，让容器移送机构36退避到非重复区域133，让容器移送机构37的移送处理继续进行。容器移送机构36的退避位置最好是配置在非重复区域133的原点位置。原点位置设有原点传感器135。
[0122]采用如此结构，即使当容器移送机构36向重复区域162的中转部件42移送容器15时发生了异常，也能使容器移送机构36退避到非重复区域133。因此，容器移送机构37的移送处理能够与容器移送机构36互不干扰地继续进行。
[0123]此外，还可以如图12所示，第一机构部件11包括第二试剂分装机构30，第二机构部件12包括容器移送机构35。在此情况下，当在重复区域的R2分装端口 39第二试剂分装机构30发生异常时，也能够让第二试剂分装机构30退避到非重复区域，继续容器移送机构35的移送处理。
[0124]此次公开的实施方式在所有方面均为例示，绝无限制性。本发明的范围不受上述实施方式的说明所限，仅由权利要求书所示，而且包括与权利要求具有同样意思及与权利要求具有同样范围的内容下的所有变形。
[0125]标号说明
11:第一机构部件、11a:第一作业范围、12:第二机构部件、12a:第二作业范围、13:作业检测部件、14:控制部件、15:容器、16:重复区域、17a、17b:非重复区域、28b:反应部件、30:第二试剂分装机构、31:第一试剂分装机构、31a:移液器、32:分离处理部件、36:容器移送机构、41:清洗部件、62:升降机构、66:碰撞检测传感器、67:第一原点传感器、68:编码器、69:第二原点传感器、111:第一容器移送机构、121:第二容器移送机构。
【主权项】
1.一种样本处理装置，包括: 第一机构部件，能够在包括重复区域和非重复区域在内的第一作业范围移动，用于对装样本的容器进行第一处理； 第二机构部件，能够在包括所述重复区域并与所述非重复区域不重复的第二作业范围移动，用于对完成了所述第一处理的所述容器进行第二处理； 作业检测部件，用于检测所述第一机构部件的作业；以及 控制部件，根据所述作业检测部件的检测结果检测出所述第一机构部件异常时，所述控制部件实施控制，使所述第一处理中止，所述第一机构部件从所述重复区域退避，使所述第二机构部件继续进行所述第二处理。2.根据权利要求1所述的样本处理装置，其特征在于: 所述第一机构部件包括用于向所述容器进行试剂的分装处理的第一试剂分装机构； 所述第二机构部件包括用于进行所述分装处理已完成的所述容器的移送处理的容器移送机构。3.根据权利要求2所述的样本处理装置，其特征在于: 所述第一试剂分装机构在所述重复区域向所述容器进行试剂的分装处理。4.根据权利要求2或3所述的样本处理装置，其特征在于还包括: 反应部件，用于安放所述分装处理后的所述容器，使所述容器内的样本与试剂反应；以及 分离处理部件，用于从所述容器分离样本与试剂的未反应成分； 其中，所述第二机构部件将所述分装处理后的所述容器移送到所述反应部件，将反应后的所述容器从所述反应部件以通过所述重复区域的路径移送到所述分离处理部件。5.根据权利要求4所述的样本处理装置，其特征在于: 还包括用于向所述容器进行试剂的分装处理的第二试剂分装机构； 其中，所述第二机构部件将进行了所述第二试剂分装机构的试剂的分装处理后的所述容器移送到所述分离处理部件，将进行了所述分离处理部件的分离处理后的所述容器移送到所述重复区域； 所述第一试剂分装机构向由所述第二机构部件从所述分离处理部件移送到所述重复区域的所述容器进行试剂的分装处理。6.根据权利要求5所述的样本处理装置，其特征在于: 所述第二机构部件将所述第二试剂分装机构进行了试剂的分装处理后的所述容器移送到所述反应部件，将反应后的所述容器以经过所述重复区域的路径移送到所述分离处理部件。7.根据权利要求2所述的样本处理装置，其特征在于: 所述第一机构部件包括用于分装所述试剂的移液器、以及用于向上下方向移动所述移液器的升降机构； 所述作业检测部件包括用于检测所述移液器的碰撞的碰撞检测传感器； 所述控制部件根据所述碰撞检测传感器的检测结果检测出所述移液器的碰撞。8.根据权利要求2所述的样本处理装置，其特征在于: 所述第一机构部件包括用于分装所述试剂的移液器、以及用于向上下方向移动所述移液器的升降机构； 所述作业检测部件包括用于检测所述移液器上下方向的上侧原点位置的第一原点传感器； 所述控制部件根据所述第一原点传感器的检测结果检测出所述第一机构部件向所述上侧原点位置的原点复位的相关异常。9.根据权利要求2所述的样本处理装置，其特征在于: 所述第一机构部件包括用于在所述重复区域和所述非重复区域之间移动的电机； 所述作业检测部件包括用于检测所述电机的旋转位置的编码器； 所述控制部件根据所述编码器的检测结果检测出所述第一机构部件在所述重复区域和所述非重复区域之间的移动的相关异常。10.根据权利要求1所述的样本处理装置，其特征在于: 所述作业检测部件包括在所述非重复区域检测所述第一机构部件的水平方向的水平原点位置的第二原点传感器； 所述控制部件在检测出所述第一机构部件的异常时根据所述第二原点传感器的检测结果让所述第一机构部件退避到所述水平原点位置。11.根据权利要求10所述的样本处理装置，其特征在于: 所述第一机构部件是用于向所述容器进行试剂的分装处理的第一试剂分装机构； 所述样本处理装置还包括设在所述原点位置、用于清洗所述分装处理后的所述第一机构部件的清洗部件。12.根据权利要求1所述的样本处理装置，其特征在于: 所述控制部件在所述第一机构部件向所述非重复区域进行退避作业的过程中检测出所述第一机构部件的异常时，停止所述第一机构部件和所述第二机构部件双方的作业。13.根据权利要求1所述的样本处理装置，其特征在于: 所述第一机构部件包括用于对所述容器进行移送处理的第一容器移送机构； 所述第二机构部件包括用于对所述第一容器移送机构完成了所述移送处理的所述容器进行移送处理的第二容器移送机构。14.根据权利要求1所述的样本处理装置，其特征在于: 还包括对所述第二机构部件进行了第二处理的样本进行测定的测定部件； 所述第一机构部件和所述第二机构部件配置于第一层； 所述测定部件配置于所述第一层下方的第二层。
【专利摘要】本发明提供一种样本处理装置，它在上游一侧的处理步骤发生异常时也能够继续下游一侧的处理步骤，且能够提高进行各处理步骤的各机构部件的布局自由度。此样本处理装置100具有：第一机构部件11，其能够在包括重复区域16和非重复区域17a的第一作业范围11a移动，用于对容器15进行第一处理；第二机构部件12，其能够在包括重复区域16的第二作业范围12a移动，用于对完成了第一处理的容器15进行第二处理；作业检测部件13，用于检测第一机构部件11的作业；控制部件14，用于根据作业检测部件13的检测结果在检测出第一机构部件11的异常时，实施控制以中止第一处理，使第一机构部件11从重复区域16退避，使第二机构部件12继续进行第二处理。
【IPC分类】G01N35/02
【公开号】CN105467143
【申请号】CN201510631262
【发明人】大渊仁史, 松本裕介
【申请人】希森美康株式会社
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2015年9月29日
【公告号】US20160091519