用于测量平板玻璃表面颗粒度的方法及设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及平板玻璃领域，具体地，涉及一种用于测量平板玻璃表面颗粒度的方法及设备。
【背景技术】
[0002]目前，液晶玻璃基板表面颗粒的检测，通常采用的是光的散射法，且当前液晶玻璃基板生产厂家所使用的检测设备均采用光的散射法测量。采用光的散射法测量时，最灵敏的是可以检测出Ium的颗粒物。实际应用中发现，Ium颗粒物散射的光线极少，需要非常高灵敏度的摄像机才能满足要求。同时，上述方法虽然可以识别Ium的颗粒物，但对尺寸的检测精度极差。
[0003]同时，随着技术的进步，液晶玻璃基板向着更薄的方向发展，由于分辨率的提高，用户对于玻璃基板表面颗粒的容忍度在降低，当颗粒物的尺寸低于Ium时，采用光的散射法并不能准确测量。
【发明内容】
[0004]本发明的目的是提供一种用于测量平板玻璃表面颗粒度的方法及设备，其具有更高的灵敏度进而能够检测更小的颗粒物。
[0005]为了实现上述目的，本发明提供一种用于测量平板玻璃表面颗粒度的方法，该方法包括:在待测玻璃表面形成相互平行的第一照亮带和第二照亮带，该第一照亮带和第二照亮带满足干涉条件;使用摄像机拍摄所述第一照亮带和所述第二照亮带所形成的干涉条纹的图像;以及根据所述干涉条纹的图像来判断所述待测玻璃表面上是否存在颗粒。
[0006]优选地，所述根据所述干涉条纹的图像来判断所述待测玻璃表面上是否存在颗粒包括:将采用洁净玻璃所形成的干涉条纹的图像作为标准图像;在采用所述待测玻璃所形成的干涉条纹的图像与所述标准图像相比具有不一致像素的情况下，判断所述待测玻璃表面上存在颗粒。
[0007]优选地，所述方法进一步包括:根据所述不一致像素的位置坐标计算所述颗粒在所述待测玻璃上的位置。
[0008]优选地，所述第一照亮带和所述第二照亮带的间距为0.1 mm至2 mm，优选为I mm至2mm ο
[0009]优选地，所述摄像机为面阵摄像机，所述方法进一步包括:调整所述摄像机以使所述第一照亮带或所述第二照亮带在长度上为所述面阵摄像机的面阵的一个维度的85%至95%，优选为90 %。
[0010]相应地，本发明还提供一种用于测量平板玻璃表面颗粒度的设备，该设备包括:光路结构，用于在待测玻璃表面形成相互平行的第一照亮带和第二照亮带，该第一照亮带和第二照亮带满足干涉条件;摄像机，用于拍摄所述第一照亮带和所述第二照亮带所形成的干涉条纹的图像；以及处理器，根据所述干涉条纹的图像来判断所述待测玻璃表面上是否存在颗粒。
[0011]优选地，所述处理器用于:将采用洁净玻璃所形成的干涉条纹的图像作为标准图像;在采用所述待测玻璃所形成的干涉条纹的图像与所述标准图像相比具有不一致像素的情况下，判断所述待测玻璃表面上存在颗粒。
[0012]优选地，所述处理器还用于:根据所述不一致像素的位置坐标计算所述颗粒在所述待测玻璃上的位置。
[0013]优选地，所述光路结构包括:光源;第一反光镜;第二反光镜；以及半反射半透射镜片，用于将所述光源发出的光反射至所述第一反光镜，并经该第一反光镜反射后照射至所述待测玻璃以形成所述第一照亮带，以及用于将所述光源发出的光透射至所述第二反光镜，并经该第二反光镜反射后照射至所述待测玻璃以形成所述第二照亮带。
[0014]优选地，所述光路结构还包括:微调机构，用于调整所述第一反光镜与所述第二反光镜之间的相对位置以使得所述第一照亮带与所述第二照亮带满足干涉条件。
[0015]优选地，所述光路结构包括:光源;分光器，用于将所述光源发出的光分为两束;第一照射装置，用于通过第一光纤将所述分光器所分出的第一束光照射至所述待测玻璃的上表面以形成所述第一照亮带；以及第二照射装置，用于通过第二光纤将所述分光器所分出的第二束光照射至所述上表面以形成所述第二照亮带。
[0016]优选地，所述光路结构包括:光源;分光器，用于将所述光源发出的光分为两束;第一照射装置，用于通过第一光纤将所述分光器所分出的第一束光照射至所述待测玻璃的上表面以形成所述第一照亮带；以及第二照射装置，用于通过第二光纤将所述分光器所分出的第二束光照射至所述待测玻璃的下表面以使该第二束光经所述待测玻璃折射后在所述上表面形成所述第二照亮带。
[0017]优选地，所述光路结构还包括:微调机构，用于调整所述第一照射装置与所述第二照射装置之间的相对位置以使得所述第一照亮带与所述第二照亮带满足干涉条件。
[0018]优选地，所述设备还包括:输送装置，用于在水平方向上移动所述待测玻璃、或在水平方向上移动所述光路结构和所述摄像机。
[0019]通过上述技术方案，基于光的干涉原理对平板玻璃表面颗粒度进行检测，其灵敏度更高，有利于检测更细小的颗粒物。
[0020]本发明的其它特征和优点将在随后的【具体实施方式】部分予以详细说明。
【附图说明】
[0021]附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的【具体实施方式】一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中:
[0022]图1示出了本发明所提供的用于测量平板玻璃表面颗粒度的方法的流程图；
[0023]图2(a)至图2(c)示出了形成两条相互平行的照亮带的不同实施方式的光路示意图；
[0024]图3示出了标准干涉条纹的图像的示意图；
[0025]图4示出了根据本发明第一实施方式的用于测量平板玻璃表面颗粒度的设备的示意图；
[0026]图5示出了根据本发明第二实施方式的用于测量平板玻璃表面颗粒度的设备的示意图；
[0027]图6示出了图5所示的用于测量平板玻璃表面颗粒度的设备的局部立体示意图；以及
[0028]图7示出了根据本发明第三实施方式的用于测量平板玻璃表面颗粒度的设备的示意图。
[0029]附图标记说明
[0030]10 光源40 待测玻璃
[0031]41 颗粒物50 摄像机
[0032]120半反射半透射镜片131 第一反光镜
[0033]132第二反光镜220 分光器
[0034]231第一光纤232 第二光纤
[0035]261第一照射装置 262 第二照射装置
【具体实施方式】
[0036]以下结合附图对本发明的【具体实施方式】进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的【具体实施方式】仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
[0037]图1示出了本发明所提供的用于测量平板玻璃表面颗粒度的方法的流程图。如图1所示，用于测量平板玻璃表面颗粒度的方法包括步骤S10-S30。
[0038]步骤S10:在待测玻璃表面形成相互平行的第一照亮带和第二照亮带，该第一照亮带和第二照亮带满足干涉条件。可以通过多种方式在待测玻璃表面满足上述条件的第一照亮带和第二照亮带，例如，可以将同一光源所发出的光带分为两束光照射至待测玻璃来形成相互平行的第一照亮带和第二照亮带，也可以使用两个光源照射至待测玻璃来形成相互平行的第一照亮带和第二照亮带，而两个照亮带要满足干涉条件则要求两个光源具有相同的频率和相位，采用两个光源虽然有利于设备的安装和布置，但是对于光源的要求较高，因此，优选使用同一光源。
[0039]图2(a)至图2(c)示出了形成两条相互平行的照亮带的不同实施方式的光路示意图，如图2(a)至图2(c)所示，射向待测玻璃40的两条光带可以射向待测玻璃40的同一表面也可以射向待测玻璃40的前后两个表面，两条光带可以相互平行或相互不平行，或者可以相互对称，这里并不特定限制。
[0040]第一照亮带和第二照亮带的间距可以被调整为0.1mm至2mm，优选为Imm至2mm，以使第一照亮带和第二照亮带经待测玻璃40反射