X荧光镀层测厚仪的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及镀层测厚领域，尤其涉及一种X荧光镀层测厚仪。
【背景技术】
[0002]为了防腐、提高强度、增加耐磨性等目的，在许多工业产品的表面需要形成镀层，且对镀层厚度有一定的要求。镀层厚度测量一般分为有损检测和无损检测两种。有损检测因对检测对象有损耗而主要用于实验室检测;无损检测因无需对检测对象表面镀层进行破坏而主要用于生产线上。
[0003]由于某些元素的Κα谱线峰非常接近，因此需要在电离室前加上滤光片以确保基底元素激发的X荧光被吸收，只有镀层元素激发的X荧光能进入电离室。现有镀层测厚装置中只配备一种滤光片，导致其使用受限，只能对某种材料进行层厚测量。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的是提出一种适用范围广的X荧光镀层测厚仪。
[0005]为达此目的，本实用新型采用以下技术方案:
[0006]—种X荧光镀层测厚仪，包括X射线发生光管和用于接收镀层反射的X荧光的电离室，还包括滤光片交换系统;所述滤光片交换系统包括至少两个滤光片，至少两个所述滤光片根据需求而选定其中之一挡在所述电离室的前面。
[0007]特别是，所述滤光片交换系统还包括转盘，至少两个所述滤光片分别设置在所述转盘上；当所述转盘转动至设定位置时，至少两个所述滤光片中之一挡在所述电离室的前面。
[0008]进一步，在所述转盘上设置有通孔，所述通孔位于所述X射线发生光管的前面。
[0009]特别是，所述X射线发生光管、电离室和滤光片交换系统设置在升降装置上。
[0010]特别是，所述滤光片交换系统包括三个滤光片，三个所述滤光片在所述转盘上相差60°角设置。
[0011]特别是，在所述转盘的圆心处设置有转轴，所述转轴连接至电机;所述电机能驱动所述转轴转动，进而带动所述转盘转动。
[0012]特别是，所述镀层测厚仪还包括0型支架，所述0型支架上设置有驱动装置，所述驱动装置用于带动所述X射线发生光管、电离室和滤光片交换系统沿待测厚物件做横向运动；所述0型支架上设置有内含标准板的校准装置，所述校准装置用于每使用一段时间对探测器单元进行一次校准。
[0013]特别是，所述镀层测厚仪还包括高压电源。
[0014]特别是，所述镀层测厚仪还包括冷却水单元。
[0015]特别是，所述镀层测厚仪还包括控制柜和上位机;所述控制柜用于控制测厚仪中各装置的运行，并将运行结果反馈至所述上位机，同时对探测器单元的输出信号进行处理；所述上位机为人机操作界面。
[0016]本实用新型X荧光镀层测厚仪包括至少两个滤光片，滤光片可以根据需求而选定其中之一挡在电离室的前面，吸收基底反射的X荧光，保证电离室接收到的都是镀层反射的X荧光，可以根据镀层元素的不同而选择合适的滤光片，因此无需因不同的镀层元素而采购新的测厚仪，本实用新型X荧光镀层测厚仪适用范围广、使用方便、测量效率高。
【附图说明】
[0017]图1是本实用新型优选实施例提供的X荧光镀层测厚仪的装置原理图；
[0018]图2是本实用新型优选实施例提供的探测器单元的结构示意图。
[0019]图中标记为:
[0020]1、0型支架;2、待测厚物件;3、控制柜;4、上位机;5、冷却水单元;6、高压电源;7、校准装置;8、升降装置;9、X射线发生光管；10、电离室；11、下升降装置;12、下X射线发生光管；13、下电离室；14、滤光片交换系统；15、下滤光片交换系统；141、转盘；142、滤光片；143、通孔。
【具体实施方式】
[0021]下面结合附图并通过【具体实施方式】来进一步说明本实用新型的技术方案。
[0022]优选实施例:
[0023]本优选实施例公开一种X荧光镀层测厚仪，如图1和图2所示，该镀层测厚仪包括探测器单元，探测器单元包括X射线发生光管9、用于接收镀层反射的X荧光的电离室10和滤光片交换系统14。滤光片交换系统14包括至少两个滤光片142，至少两个滤光片142根据需求而选定其中之一挡在电离室10的前面。
[0024]至少两个滤光片142可以根据不同待测厚物件2的镀层元素种类来调整位置，无需针对不同的镀层元素采购新的测厚仪，适用范围广，使用方便，测量效率高。
[0025]滤光片交换系统14的具体结构不限，能快速、准确地调整至少两个滤光片142的位置即可。优选的，滤光片交换系统14还包括转盘141，至少两个滤光片142分别设置在转盘141上；当转盘141转动至设定位置时，至少两个滤光片142中之一挡在电离室10的前面。
[0026]在上述结构的基础上，在转盘141上设置有通孔143，通孔143位于X射线发生光管9的前面(下方)，保证X射线发生光管9发出的X射线可以直接照射到待测厚物件2的镀层表面上，如图2中加黑虚线所示。
[0027]为了调整探测器单元到待测厚物件2的距离，可以将X射线发生光管9、电离室10和滤光片交换系统14设置在升降装置8上。
[0028]如图2所示，滤光片交换系统14优选地包括三个滤光片142，三个滤光片142在转盘141上相差60°角设置。
[0029]转盘141的转动方式不限，可以是在转盘141的圆心处设置有转轴，转轴连接至电机，通过电机驱动转轴来带动转盘141转动;还可以是在转盘141的侧边设置驱动装置，转盘141以支撑点为中心转动;也可以是其它结构，能根据需要转动到设定位置即可。
[0030]在上述结构的基础上，如图1所示，镀层测厚仪还包括0型支架1，该0型支架1上设置有驱动装置，驱动装置用于带动X射线发生光管9、电离室10和滤光片交换系统14沿待测厚物件2做横向运动。0型支架1上设置有内含标准板的校准装置7，该校准装置7用于每使用一段时间对探测器单元进行一次校准。
[0031]在上述结构的基础上，镀层测厚仪还包括高压电源6。高压电源6包括高压发生器及其控制、保护电路，用来激发X射线。
[0032]在上述结构的基础上，镀层测厚仪还包括冷却水单元5，对X射线发生光管9进行冷却。
[0033]在上述结构的基础上，镀层测厚仪还包括控制柜3和上位机4;控制柜3用于控制测厚仪中各装置的运行，并将运行结果反馈至上位机4，同时对探测器单元的输出信号进行处理。上位机4为人机操作界面。
[0034]镀层测厚仪可以包括一组探测器单元，也可以包括两组探测器单元。如图1所示，两组探测器单元分别设置在待测厚物件2的两侧。具体的，上探测器单元包括X射线发生光管9、用于接收镀层反射的X荧光的电离室10和滤光片交换系统14;下探测器单元包括下X射线发生光管12、下电离室13和下滤光片交换系统15，下探测器单元设置在下升降装置11上。
[0035]注意，上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用的技术原理。本领域技术人员会理解，本实用新型不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明，但是本实用新型不仅仅限于以上实施例，在不脱离本实用新型构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。
【主权项】
1.一种X荧光镀层测厚仪，包括X射线发生光管(9)和用于接收镀层反射的X荧光的电离室(10)，其特征在于，还包括滤光片交换系统(14);所述滤光片交换系统(14)包括至少两个滤光片(142)，至少两个所述滤光片(142)根据需求而选定其中之一挡在所述电离室(10)的前面。2.根据权利要求1所述的X荧光镀层测厚仪，其特征在于，所述滤光片交换系统(14)还包括转盘(141)，至少两个所述滤光片(142)分别设置在所述转盘(141)上；当所述转盘(141)转动至设定位置时，至少两个所述滤光片(142)中之一挡在所述电离室(10)的前面。3.根据权利要求2所述的X荧光镀层测厚仪，其特征在于，在所述转盘(141)上开设有通孔(143)，所述通孔(143)位于所述X射线发生光管(9)的前面。4.根据权利要求1至3任一所述的X荧光镀层测厚仪，其特征在于，所述X射线发生光管(9)、电离室(10)和滤光片交换系统(14)设置在升降装置(8)上。5.根据权利要求2或3所述的X荧光镀层测厚仪，其特征在于，所述滤光片交换系统(14)包括三个滤光片(142)，三个所述滤光片(142)在所述转盘(141)上相差60°角设置。6.根据权利要求2或3所述的X荧光镀层测厚仪，其特征在于，在所述转盘(141)的圆心处设置有转轴，所述转轴连接至电机;所述电机能驱动所述转轴转动，进而带动所述转盘(141)转动。7.根据权利要求1至3任一所述的X荧光镀层测厚仪，其特征在于，所述镀层测厚仪还包括0型支架(1)，所述0型支架(1)上设置有驱动装置，所述驱动装置用于带动所述X射线发生光管(9)、电离室(10)和滤光片交换系统(14)沿待测厚物件(2)做横向运动;所述0型支架(1)上设置有内含标准板的校准装置(7)，所述校准装置(7)用于每使用一段时间对探测器单元进行一次校准。8.根据权利要求1至3任一所述的X荧光镀层测厚仪，其特征在于，所述镀层测厚仪还包括高压电源(6)。9.根据权利要求1至3任一所述的X荧光镀层测厚仪，其特征在于，所述镀层测厚仪还包括冷却水单元(5)。10.根据权利要求1至3任一所述的X荧光镀层测厚仪，其特征在于，所述镀层测厚仪还包括控制柜(3)和上位机(4);所述控制柜(3)用于控制测厚仪中各装置的运行，并将运行结果反馈至所述上位机(4)，同时对探测器单元的输出信号进行处理;所述上位机(4)为人机操作界面。
【专利摘要】本实用新型公开了一种X荧光镀层测厚仪，属于镀层测厚领域，为解决现有装置适用范围窄等问题而设计。本实用新型X荧光镀层测厚仪包括X射线发生光管和用于接收镀层反射的X荧光的电离室，还包括滤光片交换系统；滤光片交换系统包括至少两个滤光片，至少两个滤光片根据需求而选定其中之一挡在电离室的前面。本实用新型X荧光镀层测厚仪的滤光片可以根据需求而选定其中之一挡在电离室的前面，吸收基底反射的X荧光，保证电离室接收到的都是镀层反射的X荧光，可以根据镀层元素的不同而选择合适的滤光片，因此无需因不同的镀层元素而采购新的测厚仪，本实用新型X荧光镀层测厚仪适用范围广、使用方便、测量效率高。
【IPC分类】G01B15/02
【公开号】CN205102804
【申请号】CN201520915667
【发明人】麻硕, 邱忠义, 李小刚
【申请人】北京金自天正智能控制股份有限公司
【公开日】2016年3月23日
【申请日】2015年11月17日