一种用于测试硅片表面亲水性的装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种用于测试硅片表面亲水性的装置，包括底座、载片基板，所述载片基板可以通过旋转电机相对于所述底座实现0?180度任意角度旋转，所述载片基板上设有固定硅片的位置，所述固定硅片的位置上部设有滴管，所述基板上还设有平移电机，与所述平移电机的平移轴连接的为连杆，所述连杆上设有传感器，所述连杆可以在所述平移电机的驱动下垂直于所述平移轴上下移动，在测试亲水性的过程中不需要人工参与，减少了人工费用，大大提高了自动化程度，测试过程中的距离，时间，角度等参数均有装置自动设定、读取，提高了测试结果的准确性。
【专利说明】
一种用于测试硅片表面亲水性的装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及光伏制造技术领域，尤其涉及一种用于测试硅片表面亲水性的装置。
【背景技术】
[0002]太阳能电池生产过程中，在对硅片进行湿法刻蚀后需要在硅片表面进行氧化以形成一层氧化膜，由于被氧化后的硅片表面由疏水变成亲水，因此为了检测硅片表面是否已经被氧化，通常需要对硅片表面进行亲水性测试，而常用的方法就是将纯水滴在硅片表面的不同位置上后倾斜硅片，观察水滴流动的速度来判断亲水性优劣。
[0003]目前对硅片表面进行亲水性测试的方法通常是完全由人工操作完成，即将硅片放在倾斜的台面上，用滴定管取液在按照工艺要求将制定体积的纯水滴在硅片的不同位置上，人工观察液滴流动的距离并记录液滴流动到指定位置的时间。
[0004]所以，如何提供一种用于测试硅片表面亲水性的装置，解决现有技术中存在的诸多问题，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。
【实用新型内容】
[0005]有鉴于此，本实用新型提供了一种用于测试硅片表面亲水性的装置，解决现有技术中存在的问题，具体方案如下:
[0006]—种用于测试硅片表面亲水性的装置，其特征在于:包括底座、载片基板，所述载片基板可以通过旋转电机相对于所述底座实现0-180度任意角度旋转；
[0007]所述载片基板上设有固定硅片的位置，所述固定硅片的位置上部设有滴管；
[0008]所述基板上还设有平移电机，与所述平移电机的平移轴连接的为连杆，所述连杆上设有传感器，所述连杆可以在所述平移电机的驱动下垂直于所述平移轴上下移动。
[0009]优选的，所述滴管的数量为五个，分别设置在所述固定硅片的中心位置及四角位置；
[0010]所述连杆依次设置3个，中间连杆上设有一个传感器，两侧两个连杆上设有两个传感器。
[0011]优选的，所述固定硅片的位置为真空吸附或者机械固定。
[0012]优选的，还包括控制面板，所述控制面板上设有电源开关、设定区域、与所述设定区域配套的调整按钮、状态指示灯。
[0013]优选的，所述设定区域包括旋转角度的设定、流动距离的设定、流动时间的设定。
[0014]优选的，所述旋转角度设定为37度，所述流动距离设定为5CM，所述流动时间设定为 60S。
[0015]本实用新型与现有技术相比，具有的优点是:1、本装置中水滴流动行程的检测位置、水滴流动到指定位置的时间，均由装置自动调整，无需手动调整，精度高。2、本装置中水滴流动的行程、水滴流动到指定位置的时间，均可以随时通过人工输入参数进行设置，当检验标准发生变化时，可以及时做出更改。3、本装置的数据读取由装置自动完成，，比人工计数得到的结果准确。4、本装置采用硅片水平放置时进行滴液后旋转至指定角度，防止了在滴液过程中，倾斜滴水造成水滴在滴落在硅片表面瞬间具有初速度，避免了斜面滴水时水滴流动行程偏大，流速快的缺点。
【附图说明】
[0016]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本实用新型的所提供的一种【具体实施方式】的立体结构示意图；
[0018]图中:10、底座11、旋转电机20、载片基板21、平移电机211、平移轴22、连杆23、传感器30、硅片40、滴管50、水滴60、控制面板61、电源开关62、设定区域63、调整按钮64、状态指示灯
【具体实施方式】
[0019]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0020]参照图1所示，本实用新型要求保护一种用于测试硅片表面亲水性的装置，其特征在于:包括底座10、载片基板20，所述载片基板20可以通过旋转电机11相对于所述底座10实现0-180度任意角度旋转；
[0021]所述载片基板20上设有固定硅片30的位置，所述固定硅片30的位置上部设有滴管40；
[0022]所述基板20上还设有平移电机21，与所述平移电机21的平移轴211连接的为连杆22，所述连杆22上设有传感器23，所述连杆22可以在所述平移电机21的驱动下垂直于所述平移轴211上下移动。
[0023]具体的，所述滴管40的数量为五个，分别设置在所述固定硅片30的中心位置及四角位置；
[0024]所述连杆22依次设置3个，中间的连杆22上设有一个传感器23，两侧两个连杆22上设有两个传感器23。
[0025]进一步的，所述固定硅片30的位置为真空吸附或者机械固定。
[0026]更进一步的，本实用新型还包括控制面板60，所述控制面板60上设有电源开关61、设定区域62、与所述设定区域62配套的调整按钮63、状态指示灯64。
[0027]具体的，所述设定区域62包括旋转角度的设定、流动距离的设定、流动时间的设定。
[0028]使用本装置时，通过操作面板60可以设定载片基板20的旋转角度、水滴的流距离、以及达到指定距离的流动时间，将硅片30固定在载片基板20上后，打开电源开关61，载片基板20被旋转电机11带动旋转到设定角度，传感器23也将按照水流距离的设定值在平移电机21的带动下移动至指定位置，之后五个滴管40分别将一滴水滴50滴落在硅片30的表面，装置开始计时，若设定时间内，传感器23检测到了液体流动到了设定位置，则硅片亲水性合格，状态指示灯64显示绿色，反之，若在指定时间内，传感器23未达到指定位置，则状态指示灯64显示红色。
[0029]具体的，所述旋转角度设定为37度，所述流动距离设定为5CM，所述流动时间设定为 60S。
[0030]本装置在测试亲水性的过程中不需要人工参与，减少了人工费用，大大提高了自动化程度，测试过程中的距离，时间，角度等参数均有装置自动设定、读取，提高了测试结果的准确性。
[0031]以上对本发明所提供的一种用于测试硅片表面亲水性的装置进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。
【主权项】
1.一种用于测试硅片表面亲水性的装置，其特征在于: 包括底座、载片基板，所述载片基板可以通过旋转电机相对于所述底座实现0-180度任意角度旋转； 所述载片基板上设有固定硅片的位置，所述固定硅片的位置上部设有滴管； 所述基板上还设有平移电机，与所述平移电机的平移轴连接的为连杆，所述连杆上设有传感器，所述连杆可以在所述平移电机的驱动下垂直于所述平移轴上下移动。2.根据权利要求1所述的用于测试硅片表面亲水性的装置，其特征在于: 所述滴管的数量为五个，分别设置在所述固定硅片的中心位置及四角位置； 所述连杆依次设置3个，中间连杆上设有一个传感器，两侧两个连杆上设有两个传感器。3.根据权利要求1所述的用于测试硅片表面亲水性的装置，其特征在于:所述固定硅片的位置为真空吸附或者机械固定。4.根据权利要求1-3任一项所述的用于测试硅片表面亲水性的装置，其特征在于:还包括控制面板，所述控制面板上设有电源开关、设定区域、与所述设定区域配套的调整按钮、状态指示灯。5.根据权利要求4所述的用于测试硅片表面亲水性的装置，其特征在于:所述设定区域包括旋转角度的设定、流动距离的设定、流动时间的设定。6.根据权利要求5所述的用于测试硅片表面亲水性的装置，其特征在于:所述旋转角度设定为37度，所述流动距离设定为5CM，所述流动时间设定为60S。
【文档编号】G01N13/00GK205483913SQ201620245684
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年3月28日
【发明人】裴娜, 刘红明, 王禹, 陈丹丹, 范磊
【申请人】天津英利新能源有限公司