专利名称：一种自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及印刷电路板的生产线，具体是指一种蚀刻过程中自动补充蚀刻容 器中的安水量的装置。
背景技术：
现有的印制电路板向多层化、密集化的方向发展，线条越来越细，对蚀刻的要求越 来越高。现有较多采用的蚀刻方式为采用碱性蚀刻液的蚀刻方式，碱性蚀刻液是以氯化铜 (CuC12)和氨(NH4. 0H)形成的铜氨络离子为主要成分的碱性蚀刻水溶液，也称碱性氯化铜 蚀刻液或氨碱蚀刻液。碱性蚀刻液的PH值应保持在8. 0 8. 8之间。当PH值降到8. 0以下 时，一方面会对金属抗蚀层不利；另一方面，蚀刻液中的铜不能被完全络合成铜氨络离子， 溶液会出现沉淀，并在槽底形成泥状沉淀。这些泥状沉淀能在加热器上结成硬皮，可能损坏 加热器，还会堵塞泵和喷嘴，给蚀刻造成困难，如果溶液PH值过高，蚀刻液中氨过饱和，游 离氨释放到大气中，导致环境污染。此外，溶液的PH值增大也会增大侧蚀的程度，而影响蚀 刻的精度。现有的蚀刻过程中一般通过人工采集样本的方式，了解碱性蚀刻液的PH值的变 化。该方式需要增加劳动强度、影响蚀刻的效率及蚀刻的效果。
实用新型内容本实用新型需解决的问题是提供一种提高蚀刻效率和蚀刻效果的自动补充蚀刻 容器中的氨水量的装置。为了实现上述目的，本实用新型设计出一种自动补充蚀刻容器中的氨水量的装 置，包括探测蚀刻容器中的蚀刻液PH值的探头，所述的探头与控制单元连接，该控制单元 与氨水泵连接，氨水泵用管道连接氨水贮罐，控制单元根据探头获取蚀刻液的具体PH值自 动控制氨水泵的启动或关闭。所述的控制单元包括控制芯片，该控制芯片为可编程控制器PLC。本实用新型自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置通过探头和可编程控制器PLC 实现氨水的自动补入，可以有效提高印制电路板的蚀刻效率和蚀刻效果。通过本实用新型 装置，可以使碱性蚀刻液的PH值保持在8. 0 8. 8之间，不会产生沉淀和造成环境的污染。 同时，可以有效降低人工的劳动强度，提高蚀刻的准确性。
图1是本实用新自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置的原理结构示意图。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解，下面将结合具体实施例及附图对本实用新型的 结构原理作进一步的详细描述如图1所示，一种自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置实施例。它包括探测蚀刻容器5中的蚀刻液PH值的探头1，所述的探头1与控制单元2连接，该控制单元2与氨水泵 3连接，氨水泵3管道连接氨水贮罐4，控制单元2根据探头1获取蚀刻液的具体PH值自动 控制氨水泵3的启动或关闭。所述的控制单元2包括控制芯片，该控制芯片为可编程控制器PLC。本实用新型的工作原理是通过探头1及时获取蚀刻容器5中的蚀刻液PH值的变 化，当碱性蚀刻液的PH值未有在8. 0 8. 8的范围之内时，控制单元2启动氨水泵3，从氨 水贮罐4往蚀刻容器5补入氨水。由于氨气的易挥发，通过本实用新型装置，能够第一时间 了解到蚀刻容器5中的蚀刻液PH值的变化，不会因采用人工采样的方式，而延误补入氨水， 造成沉淀和环境污染。可编程控制器PLC可以实现精确的添加氨水量的控制。结合我司SES设备蚀刻缸体积大小及密封性等具体情况，我们可以通过该氨水添 加装置具体调整蚀刻系统PH值至我们所需要的准确范围，列举如下
权利要求一种自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置，其特征是包括探测蚀刻容器中的蚀刻液PH值的探头，所述的探头与控制单元连接，该控制单元与氨水泵连接，氨水泵用管道连接氨水贮罐，控制单元根据探头获取蚀刻液的具体PH值自动控制氨水泵的启动或关闭。
2.根据权利要求1所述的自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置，其特征是所述的控 制单元包括控制芯片，该控制芯片为可编程控制器PLC。
专利摘要本实用新型公开了一种自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置，它包括探测蚀刻容器中的蚀刻液pH值的探头，所述的探头与控制单元连接，该控制单元与氨水泵连接，氨水泵设置于氨水贮罐中，控制单元根据探头获取蚀刻液的具体pH值自动控制氨水泵的启动或关闭。本实用新型自动补充蚀刻容器中的氨水量的装置可以实现氨水的自动补入，可以有效提高印制电路板的蚀刻效率和蚀刻效果。通过本实用新型装置，可以使碱性蚀刻液的PH值保持在8.0～8.8之间，不会产生沉淀和造成环境的污染。
文档编号G05B19/05GK201749376SQ201020226389
公开日2011年2月16日 申请日期2010年6月12日 优先权日2010年6月12日
发明者曾旭权 申请人:东莞森玛仕格里菲电路有限公司