一种用于薄片金属试样蚀刻的模具的制作方法

本实用新型涉及一种实验器具，具体涉及一种用于薄片金属试样蚀刻的模具。

背景技术：

蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。指通过一定技术手段，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

蚀刻技术最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。

在蚀刻薄层金属箔时，蚀刻设备必须保证能平稳的，可靠地处理薄金属箔，必须保证金属箔不被擦伤或划伤。因此目前的金属箔蚀刻设备都较为复杂，且价格昂贵。

技术实现要素：

本实用新型为解决现有薄片金属试样蚀刻时容易发生变形，影响蚀刻效果等问题，进而提供一种用于薄片金属试样蚀刻的模具。

本实用新型为解决上述技术问题采取的技术方案是：

本实用新型的一种制作离子减薄样品台的模具包括壳体（1）、弹簧（2）、定位杆（3）、垫板（4）和橡胶垫（5）；壳体（1）为匚形，其下面板中心处设有圆形通孔，上面板中心处设有定位杆（3），定位杆（3）为圆柱形，弹簧（2）套在定位杆（3）的外表面上，弹簧（2）下端连接在垫板（4）上，垫板（4）为圆片状，内部设有圆形通孔，垫板（4）下面设有橡胶垫（5），橡胶垫（5）为圆片状，内部设有圆形通孔，橡胶垫（5）放置在壳体（1）的下面板上表面处。本实用新型用于薄片金属试样（6）的蚀刻。

本实用新型具有以下有益效果：

一、利用壳体（1）下面板和垫板（4）的平整表面，可以将金属箔或薄片金属试样（6）固定为绝对平整状态，减少蚀刻过程中由于金属形变对蚀刻效果的影响，降低了实验失败的可能，减少了薄片金属试样（6）的加工成本。

二、本实用新型的模具采用绝缘塑料材质制作，表面抛光，具有尺寸稳定，精度高，不与蚀刻溶液发生电化学反应，所蚀刻的薄片金属试样（6）表面质量高，重复性好等优点。

附图说明

图1是本实用新型的主视图；

图2是本实用新型壳体（1）的主视剖面图；

图3是图2的沿A-A截面的俯视截面图；

图4是图2的沿B-B截面的左视截面图；

图5是本实用新型使用时的局部放大图。

具体实施方式

具体实施方式一：结合图1-4说明本实施方式，所述模具包括壳体（1）、弹簧（2）、定位杆（3）、垫板（4）和橡胶垫（5）；壳体（1）为匚形，其下面板中心处设有圆形通孔，上面板中心处设有定位杆（3），定位杆（3）为圆柱形，弹簧（2）套在定位杆（3）的外表面上，弹簧（2）下端连接在垫板（4）上，垫板（4）为圆片状，内部设有圆形通孔，垫板（4）下面设有橡胶垫（5），橡胶垫（5）为圆片状，内部设有圆形通孔，橡胶垫（5）放置在壳体（1）的下面板上表面处。

具体实施方式二：结合图1-图4说明本实施方式，壳体（1）和垫板（4）均由绝缘塑料材质构成，防止蚀刻过程中产生电化学腐蚀，其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。

具体实施方式三：结合图1-图4说明本实施方式，垫板（4）和橡胶垫（5）上的圆形通孔直径与壳体（1）下面板上的圆形通孔直径相等。其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。

具体实施方式四：结合图1-图4说明本实施方式，垫板（4）和橡胶垫（5）的直径大于所要蚀刻的薄片金属试样（6）的直径，其它组成及连接关系与具体实施方式一相同。

工作原理

结合图5说明本实用新型工作原理，将所需蚀刻的薄片状金属试样（6）放置在壳体（1）下面板上，薄片状金属试样（6）所需蚀刻位置对应壳体（1）下面板圆形通孔，然后将橡胶垫（5）放置在薄片状金属试样（6）上，将垫板（4）放置在橡胶垫（5）上，垫板（4）及橡胶垫（5）上的圆形通孔位置对应壳体（1）下面板圆形通孔；将弹簧（2）套在定位杆（3）上，利用弹簧（2）固定住垫板（4）及橡胶垫（5），将本实用新型置于蚀刻液中，即可实现薄片金属试样（6）的无变形蚀刻。