一种指纹识别模组的制作方法

文档序号:12468368阅读:230来源:国知局
一种指纹识别模组的制作方法与工艺

本发明涉及通信技术领域,特别是涉及一种指纹识别模组。



背景技术:

随着科学技术的进步,指纹识别技术的发展越来越快,其应用场景不断扩大,如可以应用于考勤系统、手机解锁和车载系统等。

目前,在指纹识别模组中,多是将传感区集成在IC(integrated circuit,集成电路)表面,用环氧树脂塑封,然后再增加盖板等对整个IC进行保护。

应用这种方式,将导致IC尺寸较大,同时,因为指纹识别模组所用的环氧树脂的价格较高,使得生产成本较高。



技术实现要素:

本发明的目的是提供一种指纹识别模组,以降低生产成本。

为解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:

一种指纹识别模组,包括:基底、设置于所述基底表面的指纹识别传感区和与所述指纹识别传感区连接的集成电路IC,所述指纹识别传感区的表面设置有第一保护层,所述第一保护层为盖板、喷绘油漆和丝印油墨中的一种。

在本发明的一种具体实施方式中,所述指纹识别传感区包括:设置于所述基底表面的信号接收层、设置于所述信号接收层远离所述基底的表面的隔离层、设置于所述隔离层远离所述信号接收层的表面的信号发送层、设置于所述信号发送层远离所述隔离层的表面的第二保护层。

在本发明的一种具体实施方式中,所述信号接收层为第一钼铝钼金属走线层。

在本发明的一种具体实施方式中,所述第一钼铝钼金属走线层为物理溅射而成的金属走线层。

在本发明的一种具体实施方式中,所述信号发送层为第二钼铝钼金属走线层。

在本发明的一种具体实施方式中,所述第二钼铝钼金属走线层为物理溅射而成的金属走线层。

在本发明的一种具体实施方式中,所述隔离层为第一氮化硅层。

在本发明的一种具体实施方式中,所述第一氮化硅层为化学沉积而成的层。

在本发明的一种具体实施方式中,所述第二保护层为第二氮化硅层。

在本发明的一种具体实施方式中,所述第二氮化硅层为化学沉积而成的层。

应用本发明实施例所提供的指纹识别模组,在基底表面设置指纹识别传感区,指纹识别传感区与IC连接,在指纹识别传感区的表面设置有第一保护层,该第一保护层为盖板、喷绘油漆和丝印油墨中的一种。指纹识别传感区直接与IC连接,使用盖板、喷绘油漆或者丝印油墨方式对指纹识别传感区进行保护,相较于现有技术中使用环氧树脂对IC进行塑封,再增加盖板等对整个IC进行保护,降低了生产成本,同时可以将IC尺寸做小。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中一种指纹识别模组的结构示意图;

图2为本发明实施例中指纹识别传感区的结构示意图;

附图中标记如下:

10-基底、20-指纹识别传感区、30-IC、40-第一保护层、21-信号接收层、22-隔离层、23-信号发送层、24-第二保护层。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

参见图1所示,为本发明实施例所提供的一种指纹识别模组的结构示意图。该指纹识别模组包括基底10、设置于基底10表面的指纹识别传感区20和与指纹识别传感区20连接的集成电路IC30,指纹识别传感区20的表面设置有第一保护层40,第一保护层40为盖板、喷绘油漆和丝印油墨中的一种。

在本发明实施例中,指纹识别模组可以包括基底10、设置于基底10表面的指纹识别传感区20和与指纹识别传感区20连接的IC30,指纹识别传感区20与IC30可以通过COG(Chip on Glass,表示IC直接绑定在玻璃上)方式连接。基底具体可以是无碱玻璃。

在指纹识别传感区20的表面可以设置有第一保护层40,该第一保护层40可以为盖板、喷绘油漆和丝印油墨中的一种。即在指纹识别传感区20的表面通过增加盖板、喷绘油漆或者丝印油墨的方式保护指纹识别传感区20。可以根据实际需要确定具体使用哪一种。

应用本发明实施例所提供的指纹识别模组,在基底10表面设置指纹识别传感区20,指纹识别传感区20与IC30连接,在指纹识别传感区20的表面设置有第一保护层40,该第一保护层40为盖板、喷绘油漆和丝印油墨中的一种。指纹识别传感区直接与IC连接,使用盖板、喷绘油漆或者丝印油墨方式对指纹识别传感区进行保护,相较于现有技术中使用环氧树脂对IC进行塑封,再增加盖板等对整个IC进行保护,降低了生产成本,同时可以将IC尺寸做小。

参见图2所示,在本发明的一个实施例中,指纹识别传感区20包括:设置于基底10表面的信号接收层21、设置于信号接收层21远离基底10的表面的隔离层22、设置于隔离层22远离信号接收层21的表面的信号发送层23、设置于信号发送层23远离隔离层22的表面的第二保护层24。

在本发明实施例中,指纹识别传感区20为多层结构,其中在基底10表面镀有信号接收层21,该信号接收层21为金属走线层,具体可以是第一钼铝钼(MoAlMo)金属走线层,还可以是钼金属走线层。第一钼铝钼金属走线层为物理溅射而成的金属走线层。在制作时,在基底10的整个表面通过物理溅射的方法镀一层钼铝钼金属走线作为接收信号通道,即Rx通道。具体工艺过程为:溅射、涂胶、曝光、显影、湿刻、脱膜,最后形成走线。

在信号接收层21远离基底10的表面镀有隔离层22,该隔离层22为非金属层,具体可以是第一氮化硅层。第一氮化硅层为化学沉积而成的层。在制作时,在信号接收层21远离基底10的整个表面通过化学沉积的方法镀一层氮化硅。具体工艺过程为:化学沉积、涂胶、曝光、显影、干刻、脱膜,最后形成走线。

在隔离层22远离信号接收层21的表面镀有信号发送层23,该信号发送层23为金属走线层,具体可以是第二钼铝钼金属走线层,还可以是钼金属走线层。第二钼铝钼金属走线层为物理溅射而成的金属走线层。在制作时,在隔离层22远离信号接收层21的整个表面通过物理溅射的方法镀一层钼铝钼金属走线作为发送信号通道,即Tx通道。具体工艺过程为:溅射、涂胶、曝光、显影、湿刻、脱膜,最后形成走线

隔离层22的作用是将Tx通道和Rx通道隔离,起到绝缘作用。

在信号发送层23远离隔离层22的表面镀有第二保护层24,该第二保护层24为非金属层,具体可以是第二氮化硅层。第二氮化硅层为化学沉积而成的层。在制作时,在信号发送层23远离隔离层22的整个表面通过化学沉积的方法镀一层氮化硅。具体工艺过程为:化学沉积、涂胶、曝光、显影、干刻、脱膜,最后形成走线。

第二保护层24的作用是保护信号发送层23,防止其被氧化和腐蚀。

在本发明实施例中,金属走线的线宽可以为8um~10um,同层走线的最小线距可以为8um~10um,不同层走线的最小线距为1um~3um。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处,各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。

本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

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