触控面板的制作方法及其触控面板与流程

文档序号:19679370发布日期:2020-01-14 17:07阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种触控面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供一基板,该基板具有一显示区与一周边区;

设置由金属纳米线所组成的一金属纳米线层于该显示区与该周边区;

设置一感光层于该金属纳米线层上;

设置一感光导电层于该周边区,该感光导电层设置于该金属纳米线层上;以及

进行一黄光微影步骤,包括:

将该感光层与该感光导电层进行曝光以定义出一去除区与一保留区;以及

使用显影液将位于该去除区的该感光层与该金属纳米线层去除,以制作出设置于该显示区上的一触控感应电极;同时使用该显影液将位于该去除区的该感光导电层、该感光层与该金属纳米线层去除,以制作出设置于该周边区上的一周边线路,该触控感应电极电性连接于该周边线路,其中该触控感应电极是由该感光层与该金属纳米线层所组成。

2.如权利要求1所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该感光导电层包含负感光性的银浆。

3.如权利要求2所述的触控面板的制作方法,其特征在于,更包含一固化该银浆的步骤。

4.如权利要求1所述的触控面板的制作方法,其中该感光层与该感光导电层为具有相同光波段吸收特性的材料,将该感光层与该感光导电层进行曝光包括利用一曝光源同时对该感光层与该感光导电层进行曝光。

5.如权利要求1所述的触控面板的制作方法,更包括采用粘胶法移除位于该去除区的该金属纳米线。

6.如权利要求1所述的触控面板的制作方法,其中该金属纳米线外露于该感光层。

7.一种触控面板,其特征在于,包含:

一基板,其中该基板具有一显示区与一周边区;

一设置于该基板上的一感光层与一金属纳米线层;及

一设置于该周边区上的感光导电层,其中该感光导电层与该感光层经曝光后定义出一去除区与一保留区,其中,在该显示区中,位于该去除区的该感光层与该金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于该显示区的触控感应电极;在该周边区中,位于该去除区的该感光导电层、该感光层与该金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于该周边区的周边线路,该触控感应电极电性连接于该周边线路。

8.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该金属纳米线层包括金属纳米线,该金属纳米线系嵌设于位于该保留区的该感光层中形成导电网络,而位于该显示区的该感光层与该金属纳米线共同形成该触控感应电极。

9.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该感光导电层包含负感光性的银浆。

10.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该感光层与该感光导电层为具有相同光波段吸收特性的材料。

11.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该金属纳米线外露于该感光层。

12.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该触控感应电极与另一触控感应电极的间具有一非导电区,该非导电区中的该金属纳米线的浓度为零。

13.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该周边线路与另一周边线路的间具有一非导电区,该非导电区中的该金属纳米线的浓度为零。

14.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该触控感应电极与另一触控感应电极的间具有一非导电区,该非导电区中的该金属纳米线的浓度小于一渗透临限值,使该非导电区中的该金属纳米线形成一非导电网络。

15.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该周边线路与另一周边线路的间具有一非导电区,该非导电区中的该金属纳米线的浓度小于一渗透临限值,使该非导电区中的该金属纳米线形成一非导电网络。

16.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该触控感应电极具有一曝光侧面。

17.如权利要求7所述的触控面板,其特征在于,该周边线路设置在该感光层与该金属纳米线层所组成的一复合结构上,该周边线路具有一第一曝光侧面,该复合结构具有一第二曝光侧面,该第一曝光侧面与该第二曝光侧面相对齐以形成一共平面。

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