触摸屏及其制作方法、触控装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明属于触控设备技术领域，具体涉及一种触摸屏及其制作方法和一种触控装置。
【背景技术】
[0002]现有的小片工艺制作G1M(glass-one-multi,玻璃单层多点)结构和GlF(glaSS-0ne-film，玻璃传感器加薄膜传感器)结构的触摸屏的过程中，在用激光干刻工艺制作触摸屏的玻璃传感器(glass sensor)时,需要先用刻蚀膏或者耐酸油墨的方式去除边缘不需要的透明导电材料。该工艺操作麻烦，且容易引入公差。
【发明内容】
[0003]本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的第一个目的在于提出一种具有简单易行、避免引入公差的触摸屏的制作方法。本发明的第二个目的在于提出一种结构简单、公差小的触摸屏。本发明的第三个目的在于提出一种触摸屏结构简单、公差小的触控装置。
[0004]有鉴于此，本发明第一方面实施例的触摸屏，可以包括:透明导电材料构成的透明电极层，其中，所述透明电极层的天线区域包括多个相互孤立的小块区域，所述透明电极层的非天线区域包括彼此隔离的功能区域和非功能区域，其中非功能区域中的透明导电材料与地线相连。
[0005]本发明实施例的触摸屏中，透明电极层的天线区域的独立性好，非天线区域的抗静电能力强，该触摸屏还具有结构简单、制造成本低、各处厚度均匀、公差小等优点。
[0006]有鉴于此，本发明第二方面实施例的触摸屏的制作方法，可以包括步骤:通过激光干刻法将透明导电层加工成透明电极层，其中，在天线区域通过激光干刻形成多个相互孤立的小块区域，在非天线区域通过激光干刻将功能区域的透明导电材料与非功能区域的透明导电材料隔离开，并且将所述非功能区域的透明导电材料与地线相连。
[0007]本发明实施例的触摸屏的制作方法采用激光干刻工艺加工特定线路图形的透明电极层，省略了传统工艺中用到的刻蚀膏或耐酸油墨，并且可以保证透明电极层各处厚度均匀，可规避传统工艺中的公差较大问题。针对天线区域，激光干刻形成的多个相互孤立的小块区域，可以避免形成环形回路，提高抗干扰能力。针对非天线区域，将非功能区域的透明导电材料与地线相连从而将静电导走，可以规避静电带来的不良影响。该实施例的触摸屏的制作方法简单易行，节约成本，提升效率，提高良率，且可以避免引入公差。
[0008]有鉴于此，本发明第三方面实施例的触控装置，可以包括:上文公开的任一种触摸屏。
[0009]由于具有类似的结构，故本发明实施例的触控装置也具有透明电极层的天线区域的独立性好，非天线区域的抗静电能力强，该触摸装置还具有结构简单、制造成本低、透明电极层公差小等优点。
【附图说明】
[0010]图1为本发明实施例的全透明导电材料产品G1M结构触摸屏的剖面视图。
[0011]图2为图1所示的全透明导电材料产品G1M结构触摸屏的俯视图。
[0012]图3为本发明实施例的G1F结构触摸屏的剖面视图。
[0013]图4为图3所示的G1F结构触摸屏的俯视图。
【具体实施方式】
[0014]下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
[0015]本发明第一方面提出了一种触摸屏，可以包括:通过激光干刻的方式形成的透明电极层，其中，透明电极层的天线区域包括多个相互孤立的小块区域，透明电极层的非天线区域包括彼此隔离的功能区域和非功能区域，其中非功能区域中的透明导电材料与地线相连。
[0016]该实施例的触摸屏中，透明电极层的天线区域的独立性好，非天线区域的抗静电能力强，该触摸屏还具有结构简单、制造成本低、各处厚度均匀、公差小等优点。
[0017]在本发明的一个实施例中，触摸屏为全透明导电材料产品G1M结构，可以包括:透明基板、透明电极层以及柔性电路板。透明电极层由透明导电材料构成。透明电极层位于透明基板之上。其中，透明电极层的天线区域包括多个相互孤立的小块区域。透明电极层的非天线区域包括彼此隔离的功能区域和非功能区域。其中，非功能区域中的透明导电材料与功能区中的地线相连。柔性电路板，柔性电路板位于透明电极层之上。需要说明的是，该实施例的触摸屏中还可以包括:装饰层和/或减反射膜层。
[0018]在本发明的另一个实施例中，触摸屏为GIF结构，可以包括:透明基板、透明电极层、银浆导电层、柔性电路板以及薄膜传感器。透明电极层由透明导电材料构成。透明电极层位于透明基板之上，其中，透明电极层的天线区域包括多个相互孤立的小块区域。透明电极层的非天线区域包括彼此隔离的功能区域和非功能区域。银浆导电层位于透明导电层之上。其中，银浆导电层中的地线与透明电极层的非功能区域的透明导电材料相连。柔性电路板位于银浆导电层之上。薄膜传感器位于透明电极层、银浆导电层和柔性电路板之上。需要说明的是，该实施例的触摸屏中还可以包括:装饰层和/或减反射膜层。
[0019]本发明第二方面提出了一种触摸屏的制作方法，包括步骤:通过激光干刻法将透明导电层加工成透明电极层，其中:在天线区域通过激光干刻形成多个相互孤立的小块区域；在非天线区域通过激光干刻将功能区域的透明导电材料与非功能区域的透明导电材料隔离开，并且将所述非功能区域的透明导电材料与地线相连。
[0020]本发明实施例的触摸屏的制作方法采用激光干刻工艺加工特定线路图形的透明电极层，省略了传统工艺中用到的刻蚀膏或耐酸油墨，并且可以保证透明电极层各处厚度均匀，可规避传统工艺中的公差较大问题。针对天线区域，激光干刻形成的多个相互孤立的小块区域，可以避免形成环形回路，提高抗干扰能力。针对非天线区域，将非功能区域的透明导电材料与地线相连从而将静电导走，可以规避静电带来的不良影响。该实施例的触摸屏的制作方法简单易行，节约成本，提升效率，提高良率，且可以避免引入公差。
[0021 ] 在本发明的一个实施例中，制作全透明导电材料产品G1M结构的触摸屏的过程可以包括以下步骤:提供透明基板；在透明基板上形成透明导电材料的透明导电层；通过激光干刻法将透明导电层加工成透明电极层，其中，在天线区域通过激光干刻形成多个相互孤立的小块区域，在非天线区域通过激光干刻将功能区域的透明导电材料与非功能区域的透明导电材料隔离开，并且将非功能区域的透明导电材料与功能区中的地线相连；以及在透明电极层之上热压柔性电路板。其中，透明导电材料可以为掺锡氧化铟(ΙΤ0)、掺铝氧化锌(ΑΖ0)、掺镓氧化锌、掺氟氧化锡(FT0)或者其它透明导电材料，关于这点后文其他段落中不再赘述。激光干刻的扫描速度约为2000-3500mm/s，电流功率约为20-40%，干刻次数约1-2次。需要说明的是，在提供透明基板之后、形成透明导电层之前，还可以包括步骤:形成装饰层和/或形成减反射膜层，此为本领域技术人员已知知识。
[0022]在本发明的另一个实施例中，制作G1F结构的触摸屏的过程可以包括以下步骤:提供透明基板；在透明基板上形成透明导电材料的透