掲露的系统，装置和方法，可W 通过其它的方式实现。例如，W上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述单元的 划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可w有另外的划分方式，例如多个单元或组件 可W结合或者可W集成到另一个系统，或一些特征可W忽略，或不执行。另一点，所显示或 讨论的相互之间的禪合或直接禪合或通信连接可W是通过一些接口，装置或单元的间接禪 合或通信连接，可W是电性，机械或其它的形式。
[0166] 所述作为分离部件说明的单元可W是或者也可W不是物理上分开的，作为单元显 示的部件可W是或者也可W不是物理单元，即可W位于一个地方，或者也可W分布到多个 网络单元上。可W根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目 的。
[0167] 另外，在本发明各个实施例中的各功能单元可W集成在一个处理单元中，也可W 是各个单元单独物理存在，也可W两个或两个W上单元集成在一个单元中。上述集成的单 元既可W采用硬件的形式实现，也可W采用软件功能单元的形式实现。
[0168] 所述集成的单元如果W软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用 时，可W存储在一个计算机可读取存储介质中。基于运样的理解，本发明的技术方案本质上 或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的全部或部分可软件产品的形式 体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用W使得一台计算机 设备(可W是个人计算机，服务器，或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述方法的全 部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器（ROM,Read-Only Memo巧）、随机存取存储器(RAM,Random Access Memcxry)、磁碟或者光盘等各种可W存储程 序代码的介质。
[0169] W上所述，W上实施例仅用W说明本发明的技术方案，而非对其限制;尽管参照前 述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依然可W对前 述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换;而运些 修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
【主权项】
1. 一种PET图像的重建方法，其特征在于，获取第一扩散分布和第二扩散分布;所述第 一扩散分布为光子垂直入射到晶体正面时投影数据沿着入射方向的垂直方向的扩散分布， 所述第一扩散分布符合高斯分布;所述第二扩散分布为光子垂直入射到晶体侧面时投影数 据沿着入射方向的扩散分布，所述第二扩散分布符合伽马分布;所述方法包括： 确定投影方向上的第一晶体和第二晶体的位置； 根据所述第一扩散分布、所述第二扩散分布、点源位置以及所述第一晶体的位置，获得 第一扩散表达式，其中，所述第一扩散表达式用于表示投影数据从第一入射点到所述第一 晶体的扩散程度； 根据所述第一扩散分布、所述第二扩散分布、点源位置以及所述第二晶体的位置，获得 第二扩散表达式，其中，所述第二扩散表达式用于表示投影数据从第二入射点到所述第二 晶体的扩散程度;所述第一入射点和所述第二入射点分别为点源位置在所述投影方向上对 应的两个入射点； 根据所述第一扩散表达式和所述第二扩散表达式，获得扩散关系式，所述扩散关系式 用于表示点源位置与所述投影方向上的投影数据的对应关系； 根据所述扩散关系式进行PET图像的重建。2. 根据权利要求1所述的重建方法，其特征在于，所述获得第一扩散表达式，包括： 对所述第一扩散分布和所述第二扩散分布的乘积在第一晶体的区域上进行积分，获得 所述第一扩散表达式，所述第一晶体的区域包括第一区域和第二区域，所述第一区域为以 所述第一入射点为原点，所述第一晶体在光子入射方向的垂直方向的投影区域，所述第二 区域为以所述第一入射点为原点，所述第一晶体在光子入射方向的投影区域； 所述获得第二扩散表达式，包括： 对所述第一扩散分布和所述第二扩散分布的乘积在第二晶体的区域上进行积分，获得 所述第二扩散表达式，所述第二晶体的区域包括第三区域和第四区域，所述第三区域为以 所述第二入射点为原点，所述第二晶体在光子入射方向的垂直方向的投影区域，所述第四 区域为以所述第二入射点为原点，所述第二晶体在光子入射方向的投影区域。3. 根据权利要求1或2所述的重建方法，其特征在于，还包括： 获取第三扩散分布，所述第三扩散分布为点源在投影方向的垂直方向上的扩散分布， 所述第三扩散分布符合高斯分布； 根据所述第三扩散分布获得第三扩散表达式，所述第三扩散表达式用于表示所述点源 在第五区域的扩散程度，所述第五区域为所述点源在所述投影方向的垂直方向上的扩散区 域； 进行PET图像的重建之前，根据所述第三扩散表达式对所述扩散关系式进行校正。4. 根据权利要求1或2所述的重建方法，其特征在于，还包括： 获取光子对非准直性的概率表达式，所述概率表达式符合高斯分布； 根据所述概率表达式获得第四扩散表达式，所述第四扩散表达式用于表示非准直性对 光子入射点产生影响的概率； 进行PET图像的重建之前，根据所述第四扩散表达式对所述扩散关系式进行校正。5. 根据权利要求1或2所述的重建方法，其特征在于，还包括： 获取第五扩散表达式，所述第五扩散表达式通过对^^积分得到，供为相对于投影方 向的光子发射角度； 进行PET图像的重建之前，根据所述第五扩散表达式对所述扩散关系式进行校正。6. -种PET图像的重建装置，其特征在于，包括： 分布获取单元，用于获取第一扩散分布和第二扩散分布;所述第一扩散分布为光子垂 直入射到晶体正面时投影数据沿着入射方向的垂直方向的扩散分布，所述第一扩散分布符 合高斯分布;所述第二扩散分布为光子垂直入射到晶体侧面时投影数据沿着入射方向的扩 散分布，所述第二扩散分布符合伽马分布； 位置确定单元，用于确定投影方向上的第一晶体和第二晶体的位置； 表达式获取单元，用于根据所述第一扩散分布、所述第二扩散分布、点源位置以及所述 第一晶体的位置，获得第一扩散表达式，并且根据所述第一扩散分布、所述第二扩散分布、 点源位置以及所述第二晶体的位置，获得第二扩散表达式;其中，所述第一扩散表达式用于 表示投影数据从第一入射点到所述第一晶体的扩散程度，所述第二扩散表达式用于表示投 影数据从第二入射点到所述第二晶体的扩散程度，所述第一入射点和所述第二入射点分别 为点源位置在所述投影方向上对应的两个入射点； 关系式获取单元，用于根据所述第一扩散表达式和所述第二扩散表达式，获得扩散关 系式，所述扩散关系式用于表示点源位置与所述投影方向上的投影数据的对应关系； 图像重建单元，用于根据所述扩散关系式进行PET图像的重建。7. 根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述表达式获取单元包括： 第一获取子单元，用于对所述第一扩散分布和所述第二扩散分布的乘积在第一晶体的 区域上进行积分，获得所述第一扩散表达式，所述第一晶体的区域包括第一区域和第二区 域，所述第一区域为以所述第一入射点为原点，所述第一晶体在光子入射方向的垂直方向 的投影区域，所述第二区域为以所述第一入射点为原点，所述第一晶体在光子入射方向的 投影区域； 第二获取子单元，用于对所述第一扩散分布和所述第二扩散分布的乘积在第二晶体的 区域上进行积分，获得所述第二扩散表达式，所述第二晶体的区域包括第三区域和第四区 域，所述第三区域为以所述第二入射点为原点，所述第二晶体在光子入射方向的垂直方向 的投影区域，所述第四区域为以所述第二入射点为原点，所述第二晶体在光子入射方向的 投影区域。8. 根据权利要求6或7所述的装置，其特征在于，还包括第一校正单元； 所述分布获取单元，还用于获取第三扩散分布，所述第三扩散分布为点源在投影方向 的垂直方向上的扩散分布，所述第三扩散分布符合高斯分布； 所述表达式获取单元，还用于根据所述第三扩散分布获得第三扩散表达式，所述第三 扩散表达式用于表示所述点源在第五区域的扩散程度，所述第五区域为所述点源在所述投 影方向的垂直方向上的扩散区域； 所述第一校正单元，用于所述图像重建单元进行PET图像的重建之前，根据所述第三扩 散表达式对所述扩散关系式进行校正。9. 根据权利要求6或7所述的装置，其特征在于，还包括第二校正单元； 所述表达式获取单元，还用于获取光子对非准直性的概率表达式，所述概率表达式符 合高斯分布，以及根据所述概率表达式获得第四扩散表达式，所述第四扩散表达式用于表 示非准直性对光子入射点产生影响的概率； 所述第二校正单元，用于所述图像重建单元进行PET图像的重建之前，根据所述第四扩 散表达式对所述扩散关系式进行校正。10.根据权利要求6或7所述的装置，其特征在于，还包括第三校正单元； 所述表达式获取单元，还用于获取第五扩散表达式，所述第五扩散表达式通过对_炉/τ 积分得到，供为相对于投影方向的光子发射角度； 所述第三校正单元，用于所述图像重建单元进行PET图像的重建之前，根据所述第五扩 散表达式对所述扩散关系式进行校正。
【专利摘要】本发明提供了一种PET图像的重建方法及装置，所述方法包括：确定投影方向上的第一晶体和第二晶体的位置；获得第一扩散表达式，所述第一扩散表达式用于表示投影数据从第一入射点到所述第一晶体的扩散程度；获得第二扩散表达式，所述第二扩散表达式用于表示投影数据从第二入射点到所述第二晶体的扩散程度；根据所述第一扩散表达式和所述第二扩散表达式，获得扩散关系式，所述扩散关系式用于表示点源位置与所述投影方向上的投影数据的对应关系；根据所述扩散关系式进行PET图像的重建。根据两次测量就能够获得第一扩散分布和第二扩散分布，不需要测量大量的点源位置以及分别对应的扩散参数，从而减少了工作量。
【IPC分类】G06T11/00
【公开号】CN105631910
【申请号】CN201511005331
【发明人】刘勺连, 李明, 孙智鹏
【申请人】沈阳东软医疗系统有限公司
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2015年12月28日