一种触控面板及其制作方法、显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控面板及其制作方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]在显示技术领域，触控面板的应用范围变得越来越广，尤其是在消费电子产品领域中的发展尤为迅速，如:在平板电脑、智能手机等中的发展迅速。现有技术中的触控面板按照其工作原理主要包括电阻式和电容式，电容式触控面板以其反应灵敏、支持多点触控、寿命长等特点渐渐成为市场的主流。
[0003]电容式触控面板又包括表面电容式和投射电容式，其中投射电容式目前应用比较广泛，投射电容式触控面板一般由在基板的触控区域设置的具有触控功能的多条第一电极和多条第二电极组成，第一电极和第二电极可以设置在不同层，也可以设置在同一层。若第一电极和第二电极设置在同一层时，第一电极或第二电极在第一电极和第二电极交叉处断开，断开部分通过桥接层连接。
[0004]具体地，现有技术投射电容式触控面板的结构如图1所示，在制作该触控面板时，首先在衬底基板10上制作桥接层11;再在桥接层11上制作第一有机膜层12，第一有机膜层
12覆盖在桥接层11上，但不完全覆盖桥接层11;接着在第一有机膜层12上制作第一电极13和第二电极14，第一电极13和第二电极14位于同一层，第一电极13和第二电极14的交界处被第一有机膜层12隔开，第一电极13通过桥接层11连接;最后在第一电极13和第二电极14上制作第二有机膜层15，第二有机膜层15对下层膜层进行保护。在整个制作过程中，桥接层
11、第一有机膜层12、第一电极13和第二电极14的制作均需要各自特定的掩膜板。
[0005]综上所述，现有技术在制作触控面板时，各个膜层均需要各自的掩膜板，需要的掩膜板较多，生产成本较高。
【发明内容】
[0006]本发明实施例提供了一种触控面板及其制作方法、显示装置，用以减少掩膜板的使用，降低生产成本，简化生产流程。
[0007]本发明实施例提供的一种触控面板的制作方法，包括:
[0008]在衬底基板上通过构图工艺制作第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极在交叉位置处断开；
[0009]沉积一层有机膜层，通过一掩膜板形成有机膜层完全保留区、有机膜层部分保留区和有机膜层去除区，所述有机膜层去除区对应后续制作的桥接层与第一电极或第二电极的接触区，有机膜层部分保留区对应后续需要形成桥接层的区域，所述有机膜层完全保留区和所述有机膜层部分保留区对应的有机膜层形成第一有机膜层；
[0010]沉积一导电层，在所述导电层上涂覆光刻胶，通过所述掩膜板形成光刻胶完全保留区、光刻胶部分保留区和光刻胶去除区，光刻胶完全保留区对应导电层与第一电极或第二电极接触的区域，光刻胶部分保留区对应需要形成桥接层的区域；
[0011]对完成上述步骤的衬底基板进行刻蚀以及去除光刻胶，形成桥接层。
[0012]由本发明实施例提供的触控面板的制作方法，该方法在制作第一有机膜层和桥接层时，仅需要采用一张掩膜板，与现有技术在制作第一有机膜层和桥接层时需要两张不同的掩膜板相比，本发明实施例可以减少掩膜板的数量，简化制作流程，提高生产效率，降低生产成本。
[0013]较佳地，所述第一电极和所述第二电极为透明电极;或，所述第一电极和所述第二电极为金属电极。
[0014]较佳地，所述导电层为透明导电层;或，所述导电层为金属导电层。
[0015]较佳地，所述衬底基板为形成阵列基板的衬底基板，当所述第一电极和所述第二电极为透明电极时，所述第一电极和所述第二电极与像素电极同层制作，或与公共电极同层制作；
[0016]当所述第一电极和所述第二电极为金属电极时，所述第一电极和所述第二电极与栅极同层制作，或与源极和漏极同层制作。
[0017]较佳地，所述衬底基板为形成阵列基板的衬底基板，当所述导电层为透明导电层时，所述导电层与像素电极同层制作，或与公共电极同层制作；
[0018]当所述导电层为金属导电层时，所述导电层与栅极同层制作，或与源极和漏极同层制作。
[0019]较佳地，所述有机膜层为负性曝光胶，所述光刻胶为正性曝光胶。
[0020 ]较佳地，所述掩膜板为灰阶掩膜板，或为半阶掩膜板。
[0021]较佳地，还包括:通过构图工艺在制作有所述第一有机膜层和所述桥接层的衬底基板上制作第二有机膜层。
[0022]本发明实施例还提供了一种触控面板，该触控面板为采用上述方法制作得到的触控面板。
[0023]本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的触控面板。
【附图说明】
[0024]图1为现有技术触控面板的截面结构示意图；
[0025]图2为本发明实施例提供的一种触控面板的制作方法流程图；
[0026]图3-图10为本发明实施例提供的触控面板制作过程中不同阶段的截面结构示意图。
【具体实施方式】
[0027]本发明实施例提供了一种触控面板及其制作方法、显示装置，用以减少掩膜板的使用，降低生产成本，简化生产流程。
[0028]为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0029]下面结合附图详细介绍本发明具体实施例提供的触控面板的制作方法。
[0030]如图2所示，本发明具体实施例提供了一种触控面板的制作方法，包括:
[0031]S201、在衬底基板上通过构图工艺制作第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极在交叉位置处断开；
[0032]S202、沉积一层有机膜层，通过一掩膜板形成有机膜层完全保留区、有机膜层部分保留区和有机膜层去除区，所述有机膜层去除区对应后续制作的桥接层与第一电极或第二电极的接触区，有机膜层部分保留区对应后续需要形成桥接层的区域，所述有机膜层完全保留区和所述有机膜层部分保留区对应的有机膜层形成第一有机膜层；
[0033]S203、沉积一导电层，在所述导电层上涂覆光刻胶，通过所述掩膜板形成光刻胶完全保留区、光刻胶部分保留区和光刻胶去除区，光刻胶完全保留区对应导电层与第一电极或第二电极接触的区域，光刻胶部分保留区对应需要形成桥接层的区域；
[0034]S204、对完成上述步骤的衬底基板进行刻蚀以及去除光刻胶，形成桥接层。
[0035]下面结合附图详细介绍本发明具体实施例提供的触控面板的制作过程，附图中各膜层厚度和区域大小、形状不反应各膜层的真实比例，目的只是示意说明本
【发明内容】
。
[0036]如图3所示，首先在衬底基板10上通过构图工艺制作第一电极31和第二电极32，本发明具体实施例中的衬底基板10可以为玻璃基板，也可以为柔性基板，还可以为其它类型的基板，这里不做具体限定。本发明具体实施例中的构图工艺包括光刻胶的涂覆、曝光、显影、刻蚀以及去除光刻胶的部分或全部过程，制作得到的第一电极31和第二电极32在交叉位置处断开。接着，在制作有第一电极31和第二电极32的衬底基板上沉积一层有机膜层33。[0037 ]具体地，本发明具体实施例中的第一电极31和第二电极32为透明电极，优选地，本发明具体实施例中的第一电极31和第二电极32为氧化铟锡(ITO)的单层膜，或为氧化铟锌(IZO)的单层膜，或为ITO和IZO的复合膜层，当然，在实际生产过程中，还可以选择其它的透明导电薄膜。若本发明具体实施例中的衬底基板10为形成阵列基板的衬底基板时，第一电极31和第二电极32可以与像素电极同层制作，也可以与公共电极同层制作，还可以通过单独沉积的透明导电层制作形成，当与像素电极或公共电极同层制作时，能够节省工艺流程，降低生产成本。
[0038]当然，本发明具体实施例中的衬底基板10还可以为形成彩膜基板的衬底基板，此时第一电极和第二电极可以通过单独沉积的透明导电层制作形成，第一电极和第二电极的具体制作过程与现有技术类似，这里不再赘述。
[0039]具体地，本发明具体实施例中的第一电极31和第二电极32还可以为金属电极，优选地，本发明具体实施例中的第一电极31和第二电极32为钼(Mo)、铝(Al)等金属的单层膜或复合膜。若本发明具体实施例中的衬底基板10为形成阵列基板的衬底基板时，第一电极31和第二电极32可以与栅极同层制作，也可以与源极和漏极同层制作，还可以通过单独沉积的金属层制作形成，当与栅极或源极和漏极同层制作时，能够节省工艺流程，降低生产成本。
[0040]当然，本发明具体实施例中的衬底基板10还可以为形成彩膜基板的衬底基板，此时第一电极和第二电极可以通过单独沉积的金属层制作形成，第一电极和第二电极的具体制作过程与现有技术类似，这里不再赘述。
[0041]如图4所示，沉积有机膜层33后，通过一掩膜板41形成有机膜层完全保留区、有机膜层部分保留区和有机膜层去除区，优选地，本发明具体