全像盘片与全像储存系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种全像盘片与全像储存系统。
【背景技术】
[0002]随着科技的发展，电子档案的所需储存用量也跟着上升。常见的储存方式为记录储存介质表面上磁或光的变化，以作为所储存数据的依据，例如磁盘片或光盘片。然而，随着电子档案的所需储存用量增加，全像储存的技术发展开始受到注目。
[0003]全像储存技术为透过讯号光以及参考光产生干涉后，将影像数据写入储存介质(感光材料)内。当读取数据时，透过重新照射参考光至储存介质(感光材料)上，即可产生影像数据。接着，所产生的影像数据再被检测器读取。也就是说，全像储存技术的储存容量与其储存介质(感光材料)具有相关性，而如何提升全像储存技术的储存容量亦成为当前相关领域研究的目标。
【发明内容】
[0004]本发明所要解决的技术问题是提供一种全像盘片，包含储存层与四分之一波片层。储存层包含反射结构层，其中反射结构层包含腔体用以限制写入光束之扩散面积。因此，当对储存层进行写入时，由参考光与讯号光组成的光束将被限定在腔体所定义的区域内，使得参考光与讯号光之混合程度提升，并藉此提升腔体内的感光材料使用率。此外，四分之一波片层设置以使抑制全像盘片于读取程序时所产生之噪声。
[0005]优选地，本发明提供一种全像盘片，包含反射层、储存层与四分之一波片层。储存层设置于反射层上，并包含反射结构层与感光单元。反射结构层具有腔体，并为网格状。腔体贯穿反射结构层。感光单元设置于腔体中。四分之一波片层设置于反射层与感光单元之间。
[0006]优选地，四分之一波片层位于反射层与反射结构层之间。
[0007]优选地，四分之一波片层位于反射结构层的腔体中。
[0008]优选地，全像盘片更包含偶氮染料层。偶氮染料层设置于四分之一波片层与感光单元之间，并与反射层相对。
[0009]优选地，全像盘片更包含液晶层与配向层。液晶层与配向层设置于四分之一波片层与感光单元之间，其中液晶层位于配向层与四分之一波片层之间。
[0010]优选地，配向层以垂直方向观之为圆形。配向层具有以同心圆方式排列之配向方向，并设置以使液晶层中的液晶沿配向层的切向方向排列。
[0011 ] 优选地，液晶层包含热致液晶或溶致液晶。
[0012]本发明所要解决的另一个技术问题是提供一种全像储存系统，包含全像盘片、全像光源模块、空间光调制器、分光模块、物镜、接收器与滤波组件。全像盘片包含储存层，其中储存层包含反射结构层与感光单元。反射结构层具有腔体并为网格状，腔体贯穿反射结构层。感光单元设置于腔体中。全像光源模块设置以提供讯号光以及参考光。空间光调制器设置以接收全像光源模块提供的讯号光以及参考光，并调制讯号光以及参考光。讯号光以及参考光经空间光调制器调制后透过分光模块与物镜射向全像盘片。接收器设置以接收自全像盘片反射的参考光。滤波组件设置于参考光的光路上并为网格状，其中滤波组件的每一个网格与反射结构层的每一个网格具有相同形状。
[0013]优选地，滤波组件由吸光材料构成。
[0014]优选地，滤波组件的设置位置对应于全像盘片朝向物镜之表面的光学共轭位置。
[0015]优选地，全像储存系统更包含致动器。致动器连接滤波组件。
[0016]优选地，滤波组件设置于参考光之光路对应自空间光调制器至物镜之间的位置。
[0017]优选地，滤波组件设置于参考光之光路对应自全像盘片至接收器之间的位置。
[0018]优选地，穿过滤波组件的参考光之入射面具有遮蔽区域。遮蔽区域的轮廓对应于反射结构层的网格状。滤波组件的设置位置使遮蔽区域之面积介于反射结构层的网格状之面积的0.5倍至2倍之间。
[0019]优选地，全像盘片更包含第一基板与第二基板。储存层位于第一基板与第二基板之间，且第一基板与物镜位于储存层之同侧。第一基板以及第二基板皆为穿透基板。
[0020]优选地，全像盘片更包含第一基板与第二基板。储存层位于第一基板与第二基板之间，且第一基板与物镜位于储存层之同侧。第一基板以及第二基板分别为穿透基板与反射基板。
[0021]本发明所要解决的再一种技术问题是提供一种全像储存系统，包含全像盘片、全像光源模块、空间光调制器、分光模块与物镜。全像盘片包含储存层，其中储存层包含反射结构层与感光单元。反射结构层具有腔体并为网格状，腔体贯穿反射结构层。感光单元设置于腔体中。全像光源模块设置以提供讯号光以及参考光。空间光调制器设置以接收全像光源模块提供的讯号光以及参考光，并调制讯号光以及参考光。空间光调制器具有遮蔽纹路。遮蔽纹路用以遮蔽调制后的参考光，使得调制后的参考光之入射面具有网格状。参考光的每一个网格与反射结构层的每一个网格具有相同形状。讯号光以及参考光经空间光调制器调制后透过分光模块与物镜射向全像盘片。
[0022]优选地，调制后的参考光具有遮蔽区域。遮蔽区域的轮廓对应于反射结构层的网格状。空间光调制器的设置位置使遮蔽区域之面积介于反射结构层的网格状之面积的0.5倍至2倍之间。
[0023]优选地，全像盘片更包含第一基板与第二基板。储存层位于第一基板与第二基板之间，且第一基板与物镜位于储存层之同侧。第一基板以及第二基板皆为穿透基板。
[0024]优选地，全像盘片更包含第一基板与第二基板。储存层位于第一基板与第二基板之间，且第一基板与物镜位于储存层之同侧。第一基板以及第二基板分别为穿透基板与反射基板。
【附图说明】
[0025]图1A是本发明之第一实施方式的全像盘片的爆炸图。
[0026]图1B为图1A中的全像盘片的侧剖面示意图。
[0027]图2为本发明之第二实施方式的全像盘片侧剖面示意图。
[0028]图3为本发明之第三实施方式的全像盘片的侧剖面示意图。
[0029]图4A为本发明之第四实施方式的全像盘片的侧剖面示意图。
[0030]图4B为图4A中的配向层的上视示意图。
[0031]图5为本发明之第五实施方式的全像储存系统的配置示意图。
[0032]图6A至图6D为图5之全像盘片的储存层于多个实施例中的上视示意图。
[0033]图7A为滤波组件对应图6C的储存层的正面示意图。
[0034]图7B为读取光被图7A之滤波组件遮蔽后之入射面的光型示意图。
[0035]图8为本发明之第六实施方式的全像储存系统的配置示意图。
[0036]图9为本发明之第七实施方式的全像储存系统的配置示意图。
[0037]图1OA为本发明之第八实施方式的全像储存系统的配置示意图。
[0038]图1OB为第1A图中的空间光调制器的正面示意图。
[0039]100全像储存系统；102全像光源模块；104空间光调制器；106遮蔽纹路；108分光模块；110物镜；112滤波组件；114接收器；116致动器；120全像盘片；122第一基板；124第二基板；126反射层；128储存层；
130反射结构层；132腔体；134感光单元；136四分之一波片层；138偶氮染料层；140液晶层；142配向层；
144配向方向；146切向方向；148透镜；150分光器；152反射镜；
A遮蔽区域D绕射光S讯号光R参考光 N散射光L读取光。
【具体实施方式】
[0040]以下将以图式及详细说明清楚说明本发明之精神，任何所属技术领域中具有通常知识者在了解本发明之较佳实施方式后，当可由本发明所教示之技术，加以改变及修饰，其并不脱离本发明之精神与范围。
[0041]于全像储存系统中，当全像盘片进行写入储存数据时，由讯号光以及参考光组成的光束需要对一定范围的感光材料进行干涉以及曝光。然而，实际因储存数据所需要用到的感光材料范围小于此曝光范围，使得多余的感光材料没有被使用，进而减少感光材料的使用率。当全像盘片中的感光材料使用率减少时，也同时降低了全像盘片的储存容量。
[0042]有鉴于此，本发明之全像盘片透过反射结构层与腔体限制写入光束之扩散面积。因此，参考光与讯号光之混合程度提升，使得感光材料之使用率也增加。同样地，当储存层中的感光材料使用率增加时，全像盘片的储存容量也可以获得提升。此外，全像盘片包含四分之一波片层，其设置以减少全像盘片于读取程序时所产生之噪声。
[0043]请同时参照图1A以及图1B。图1A绘示本发明之第一实施方式的全像盘片120的爆炸图。图1B为图1A中的全像盘片120的侧剖面示意图。全像盘片120包含反射层126、储存层128与四分之一波片层136。储存层128设置于