专利名称：清洗剂组合物和清洗方法
技术领域：
本发明涉及一种清洗剂组合物，其主要用于LCD基板制造工艺中，在基板表面覆以有机或无机薄膜并经成膜后，可以使用所述清洗剂组合物对基板表面进行有效且精密的清洗处理。
背景技术：
在现行的LCD基板制造方法中，在基板上会涂布上聚酰亚胺高分子膜，并且在成膜之后对基板表面进行摩擦(rubbing)处理，常会在基板表面产生或附著高分子膜细屑、摩擦布屑、人体剥离屑、各种离子及其溶出的油脂物等，故需做精密的清洗处理，以往都用IPA等溶剂、纯水及非离子表面活性剂来进行清洗处理，但部分溶剂在清洗后常因其化学性而会产生相应的环保问题，并有可能造成易燃问题，以致形成环境负荷问题，而仅使用纯水又得不到充分的清洗，通过添加非离子表面活性剂来进行清洗又会在基板的聚酰亚胺膜上产生残留，以致产生不良影响。
举例来说，日本特开平3-62018号公报提出了使用纯水借助超音波的清洗方式，以求得安全的Pretile角(仰角)，但近年来该方法已无法达到更精密清洗的要求。为了以低成本迅速地达到清洗板面的功效，以符合实际生产的需要，有必要对现行的清洗方法做进一步的改进。
发明内容
在LCD基板制造工艺中，在基板上形成有机或无机薄膜并对基板表面进行摩擦处理之后，本发明的清洗剂组合物可用于对对基板表面进行清洗处理，所述清洗剂组合物具有非常高的清洗力和非常低的残留，使用本发明的清洗剂组合物能提供更优良的面板材，配合液晶半导体及其周边部件等使产品的瑕疵品比率降到最低。而为了清洗去除微粒、离子等，对具有高清洗力的表面活性剂的要求会愈来愈高。另外，在彩色滤光片(C/F)、Black Matrix(B/M)和Over Coat(O/C)成膜后在清洗基板表面时，对碱性离子等的清洗去除也提出了越来越高的要求。本发明的目的就是提供上述具非常高的清洗力和非常低的残留性的清洗剂组合物。
本发明采用包含作为成分(A)的氨基羧酸铵盐类(AminoCarboxylic Ammonium Salt)、作为成分(B)的醇类(Alcohol)和非离子化合物聚氧化烯烷基醚(polyoxyalkylene alkyl ether)的组合物，来解决前述的高清洗力和低残留性的问题。
使用包含所述成分(A)和成份(B)的清洗组合物，并根据所述清洗剂组合物确定的稀释浓度，来清洗LCD基板表面，则可以得到非常高的清洗力并产生非常少的残留。
具体实施例方式
本发明的清洗剂组合物中包含一种或多种如通式(1)-(6)所示的氨基羧酸铵盐作为成分(A) R1～2NH4，R3H或NH4，A1N R4CH2OH，R5CH2OH或COONH4A1N
R6～8NH4，R9H，NH4A2NCH2CH2N，NCH2CH2NCH2CH2N，NCH2CH2OCH2CH2OCH2CH2N R10H或NH4R11CH2COOH或CH2COONH4A3CHN A4CHNHCH2CH2NHCH本发明的清洗剂组合物还可以包含通式(7)-(10)所示的化合物作为成分(B)，其中通式(7)为含有1-4个碳原子的醇类，通式(8)为聚氧化烯烷基醚(polyoxyalkylene alkyl ether)，通式(9)及(10)的分子结构中具有支链。
R12OH…………………(7)其中R12为碳原子数为1-4的烷基；R13-O-(A5O)m-H……(8)其中R13为碳原子数为1-4的烷基，A5为碳原子数为2-4的烯烃基，m＝1-6； n1+m1＝4
m2+n2＝6～10在本发明的清洗剂组合物中，可以使用一种或多种通式(1)-(6)所列的化合物作为成分(A)，并使用一种或多种通式(7)-(10)所示的化合物作为成分(B)。本发明的清洗剂组成分中成分(A)与成分(B)可以任意比例调配。
在用于清洗时，可以用水稀释由此配制的清洗剂，将形成有有机或无机薄膜的LCD基板表面，浸渍在清洗剂进行清洗处理。使用超音波进行清洗处理，将会得到更良好的清洗效果。清洗处理后用离子交换水来清净基板表面，再使用热板、热风、红外加热器等热源在50℃-200℃的范围内干燥基板表面。本发明的清洗剂组合物中所含金属杂质(如Fe、Cu、Mg、Al、K、Na、Mn、Ni、Ag、Cr、Zn、Pb等)均限制在1ppm以下。
本发明的清洗剂组合物具有优异的清洗能力，除了具有更好的一般清洗能力外，本发明的清洗剂组合物对颗粒、离子残留也有极佳的清洗能力，尤其是在用于清洗液晶取向膜表面时，更是显出绝佳的效果。
实施例采用如下方法对清洗剂的清洗效果进行评价，结果如表1所示。将玻璃基板经聚酰亚胺处理成膜后，用一般自来水清洗，将附着有残留微颗粒和离子的玻璃基板作为用于清洗评价的测试基板。
1、清洗剂材料的配制选用其它种类材料、成分(A)和成分(B)调制成四种清洗剂组合物，分别表示为清洗剂a、b、c和d
a其它种类材料+作为成分(B)的通式(9)化合物；b作为成分(A)的通式(1)化合物+作为成分(B)的通式(9)化合物；c作为成分(A)的通式(3)所示的三铵盐+作为成分(B)的通式(9)化合物；d作为成分(A)的通式(3)所示的四铵盐+作为成分(B)的通式(9)化合物。
2、清洗方法在25℃的清洗剂温度下，将测试基板分别浸入a、b、c、d清洗剂中，浸渍1分钟，在施以超音波清洗处理后取出，用离子交换水冲洗1分钟，经烘干后再以下述的方法评估各清洗剂组合物的清洗性能。
(1)污垢清洗后的浸润性评估采用如下标准评价测试基板的表面浸润性A充分清洗，测试基板全部被水浸润；B出现部分清洗不良情形，测试基板有部分未被水浸润；C只有部分得到清洗的情形，测试基板几乎未被水浸润；D无法清洗，测试基板全部未被水浸润。
(2)对测试基板上微颗粒状污垢的清洗评估以显微镜观察颗粒状污垢的清洗效果A使用显微镜看不到尘埃颗粒；B1cm2的范围内可看到的颗粒个数；C清洗后的颗粒数约为清洗前的一半；D和清洗前相同程度的颗粒污垢。
(3)去除测试基板表面上离子的清洗性能评估测量钠离子的去除比例，以0-100％范围内的百分去除率来评估其清洗性能。
(4)腐蚀性评估在25℃下将铝基板置入所配清洗剂中24小时，观察其腐蚀情况。
A完全无腐蚀现象。
B些微失去光泽。
C被腐蚀表面呈现黑色。
表1
由表1所示评估结果可见，就浸润性而言清洗剂a最差，就颗粒状污垢的清洗力而言c和d较好，就离子去除率而言c和d较好，就腐蚀性而言b、c和d均不错。
权利要求
1.一种用于LCD基板制造工艺的清洗剂组合物，在基板表面覆以有机或无机薄膜并经成膜后，所述清洗剂组合物用于对基板表面进行清洗处理，所述清洗剂组合物为含水组合物，其包含一种或多种作为成分(A)的氨基羧酸铵盐。
2.如权利要求1所述的清洗剂组合物，其中所述一种或多种氨基羧酸铵盐具有如下通式 R1～2NH4，R3H或NH4，A1N R4CH2OH，R5CH2OH或COONH4A1N R6～8NH4，R9H，NH4A2NCH2CH2N，NCH2CH2NCH2CH2N，NCH2CH2OCH2CH2OCH2CH2N R10H或NH4R11CH2COOH或CH2COONH4A3CHN A4CHNHCH2CH2NHCH
3.如权利要求2所述的清洗剂组合物，其还包含一种或多种具有如下通式的化合物作为成分(B)R12OH…………………………(7)其中R12为碳原子数为1-4的烷基；R13-O-(A5O)m-H……(8)其中R13为碳原子数为1-4的烷基，A5为碳原子数为2-4的烯烃基，m＝1-6； n1+m1＝4 m2+n2＝6～10
4.如权利要求1或2所述的清洗剂组合物，其中成分(A)的浓度在0.01重量％～100重量％之间。
5.如权利要求3所述的清洗剂组合物，其中成分(B)的浓度在0.01重量％～50重量％之间。
6.一种清洗LCD基板表面的方法，其中使用前述任一权利要求所述的清洗剂组合物，其特征在于使用500倍以下的水来稀释所述清洗剂组合物。
全文摘要
本发明涉及一种清洗剂组合物，特别是一种适用于清洗LCD制造工艺中的基板表面的清洗剂组合物，在形成有机或无机薄膜之后，提供高清洗性和低残留的清洗剂组合物，以便对成膜基板进行彻底的清洗处理。
文档编号H01L21/304GK1880424SQ20051007901
公开日2006年12月20日 申请日期2005年6月17日 优先权日2005年6月17日
发明者郭璟霖 申请人:郭璟霖