专利名称：一种二极管的酸洗工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种二极管的酸洗工艺，具体涉及一种通过超声波、 加温清洗的二极管的酸洗工艺。
背景技术：
目前，对二极管的清洗采取普通清洗和超声波清洗两种。普通清 洗在清洗产品时，产品的清洁度不够，影响产品质量。超声波清洗虽 然提高了产品的清洁度，但是还是不能从根本上解决问题，且清洗时 间相对稍长。
发明内容
本发明提供了一种通过超声波、加温清洗的二极管的清洗工艺。 为了解决以上技术问题，本发明的一种二极管的清洗工艺，由四 次清洗构成，在前三次清洗中均用超声波清洗，其创新点在于所述 第一次清洗在一定流量的去离子水中加温清洗；第二次和第三次清洗 只在去离子水中清洗；第四次清洗为无水乙醇对二极管进行脱水。 所述第一次清洗的去离子水的电导率> 10M Q .CM.。 所述第一次清洗的去离子水的温度45 — 5(TC 。 所述第一次清洗的去离子水的流量为450—550L/h。 所述第二、三次清洗的水为去离子水。 所述第四次清洗无水乙醇对二极管进行脱水。 所有清洗都使用1KW的超声波，确保清洗充分。
以上工艺的优点在于-
1、 采用上述工艺，通过加温超声波清洗，有效去除二极管表面 的杂质，使二极管表面更清洁。
2、 连接使用去离子水，节约水资源(2000-2500L/h)。
3、 通过多级清洗縮短了清洗时间，提高生产效率。
具体实施例方式
本工艺共四次清洗过程，其清洗分别如下
第一次清洗酸洗机流出产品，进入第一清洗槽内，槽内通
入电导率IOMQ以上去离子水，此水流经加热器温度控制于45 。C左右，流量控制在500L/h，产品静置在清洗槽中，通过流水 超声清洗。
第二次清洗产品经第一清洗槽后进入第二超声清洗槽，槽
内为IOMQ以上去离子水，在该槽中再次清洗产品，该槽使用的 水为后级使用过的去离子水。
第三次清洗在第三超声清洗槽内直接通入12MQ以上去离 子水，流量控制在2000-2500L/h。
以上三次清洗均通过超声波清洗，每一次清洗，超声时间控 制在l分钟左右。
第四次清洗超声清洗槽内加入98%以上的无水乙醇，对前 面三次超声清洗的产品进行脱水。
权利要求
1、一种二极管的酸洗工艺，由四次清洗构成，在前三次清洗中均用超声波清洗，其特征在于所述第一次清洗在一定流量的去离子水中加温清洗；第二次和第三次清洗只在去离子水中清洗；第四次用无水乙醇对二极管进行脱水。
2、 根据权利要求1所述的一种二极管的酸洗工艺，其特征在于:. 所述第一次清洗的去离子水的电阻率》10MQ.CM，温度 在45-50。C，流量450 — 550L/h，超声波功率1KW。
3、 根据权利要求1所述的一种二极管的酸洗工艺，其特征在于 所述第二次清洗的去离子水的电阻率》10MQ.CM，温度 在25。C，流量2000 — 2500L/h，超声波功率1KW。
4、 根据权利要求1所述的一种二极管的酸洗工艺，其特征在于 所述第三次清洗的去离子水的电阻率》12MQ.CM，温度 在25。C，流量2000 — 2500L/h，超声波功率1KW。
5、 根据权利要求5所述的一种二极管的酸洗工艺，其特征在于 所述第四次清洗为用浓度》98%的无水乙醇对二极管进行脱水处理，超声波功率1KW;无水乙醇的使用量根据产品种类而定，当无水乙醇温度超过70。C时必须补充无水乙醇。
全文摘要
本发明公开了一种二极管的酸洗工艺，由四次清洗构成，前三次清洗是在相同超声波功率不同电阻率、温度、流量条件的去离子水中用超声波清洗。所述第一次清洗在一定流量的去离子水中加温清洗；第二次和第三次清洗只在去离子水中清洗；第四次用无水乙醇对二极管进行脱水。本工艺通过加温超声波清洗，有效去除二极管表面的杂质，使二极管表面更清洁；连接使用去离子水，节约水资源；通过多级清洗缩短了清洗时间，提高生产效率。
文档编号H01L21/329GK101345185SQ20081012457
公开日2009年1月14日 申请日期2008年8月26日 优先权日2008年8月26日
发明者丁维新, 吴亚红, 陆国华, 炎 陈 申请人:如皋市日鑫电子有限公司