专利名称：用于绝缘体上硅技术的mos型esd保护结构及其制作方法
技术领域：
本发明属于微电子与固体电子技术领域，涉及一种半导体器件，尤其涉及一种用 于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构及其制作方法。
背景技术：
CMOS为了较低的功率和较高的速度而采用绝缘体上硅(Silicon OnInsulator, SOI)衬底。为了提高器件的可靠性，电路的设计与应用必须考虑静电放电(Electrostatic Discharge, ESD)保护问题。半导体集成电路通常采用二极管组成的电阻ESD电路作为输 入/输出的保护元件，但是为了避免外部ESD事件的额外电流流入内部电路造成内部元件 的击穿，通常在内部电路和外部输入/输出端之间设置MOS型ESD保护结构。SOI工艺中的 ESD实效机制与体硅CMOS工艺所观察到的有着明显的区别。衬底用隐埋氧化层(BOX)与半 导体器件进行物理隔离。BOX区的存在极大地改变了 ESD实效模式和机制。SOI MOS型ESD保护结构已经提出。最初结构的ESD保护器件与本征器件制作 于同一有源区，这种结构的不足在于在ESD事件中，泄露电流会抬高本征器件有源区的电 势，加强本征SOI MOS器件的浮体效应，影响本征SOI MOS器件的输出特性。另一种结构是 把ESD保护器件与本征MOS器件用浅沟槽隔离(STI)工艺隔离开，这种结构的不足在于在 ESD事件中，由于BOX与STI包围的ESD保护器件耗散能力低，ESD保护器件容易被泄露电 流产生的热量击穿。为了获得足够的ESD强度的ESD保护器件，通常有两种途径一种是增大ESD保护 元件或者是增加ESD保护元件数量，这种方法不利在于保护电路和芯片区域的增加；另一 种方法是部分移除SOI衬底的半导体顶层硅膜以及对应的隐埋氧化层，在暴露的SOI衬底 体区制作ESD保护结构，这种方法的不足在于暴露的SOI衬底体区制作保护结构对后续工 艺有影响。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护 结构及其制作方法。为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案。一种ESD保护结构，其包括直接连接SOI衬底体区的外延硅层；外延硅层的两侧为 侧氧隔离墙，所述侧氧隔离墙用以划分ESD保护结构与本征有源结构；外延硅层的顶部左 右两端分别为ESD保护结构的源漏区；外延硅层的顶部中心位置处向上生长有ESD保护结 构的多晶硅栅；ESD保护结构的多晶硅栅与外延硅层之间夹有ESD保护结构的二氧化硅栅 介质；ESD保护结构的多晶硅栅与ESD保护结构的二氧化硅栅介质的两侧设有侧氧隔离墙。一种用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构，所述保护结构包括ESD保护结 构，所述ESD保护结构包括直接连接SOI衬底体区的外延硅层；外延硅层的两侧为侧氧隔离 墙，所述侧氧隔离墙用以划分ESD保护结构与本征有源结构；外延硅层的顶部左右两端分别为ESD保护结构的源漏区；外延硅层的顶部中心位置处向上生长有ESD保护结构的多晶 硅栅；ESD保护结构的多晶硅栅与外延硅层之间夹有ESD保护结构的二氧化硅栅介质；ESD 保护结构的多晶硅栅与ESD保护结构的二氧化硅栅介质的两侧设有侧氧隔离墙。作为本发明的一种优选方案，所述保护结构还包括SOI衬底，所述SOI衬底由下到 上分别为SOI衬底体区，SOI衬底隐埋氧化层，顶层硅膜。作为本发明的另一种优选方案，所述保护结构还包括本征SOI MOS结构，所述本征 SOI MOS结构通过侧氧隔离墙与所述ESD保护结构分隔；所述本征SOI MOS结构包括分别 设于顶层硅膜的顶部左右两端的本征SOI MOS结构的源漏区；生长于顶层硅膜的顶部中心 位置处上方的本征SOI MOS结构的多晶硅栅；夹于本征SOI MOS结构的多晶硅栅与顶层硅 膜之间的本征SOI MOS结构的二氧化硅栅介质；生长于本征SOI MOS结构的多晶硅栅与本 征SOI MOS结构的二氧化硅栅介质的两侧的侧氧隔离墙。作为本发明的再一种优选方案，所述本征SOI MOS结构的顶层硅膜左侧连接侧氧 隔离墙，右侧连接浅沟槽隔离墙。一种ESD保护结构的制作方法，包括以下步骤步骤一，由下到上依次生长SOI衬底体区，SOI衬底隐埋氧化层，顶层硅膜构成SOI 衬底；在SOI衬底上热氧化生成一层二氧化硅缓冲层；步骤二，在二氧化硅缓冲层上沉积一层氮化硅层；步骤三，利用一道光刻工艺开口 ESD保护单元区域，所述ESD保护单元区域从氮化 硅层深入到SOI衬底隐埋氧化层；步骤四，制作侧氧隔离墙，用以划分ESD保护单元和本征有源结构；步骤五，在ESD保护单元区域利用快速退火化学气相淀积工艺选择性生长外延 娃；步骤六，采用化学机械抛光使顶层硅膜表面平滑；步骤七，在外延硅上制作ESD保护结构的多晶硅栅、源区、漏区。作为本发明的一种优选方案，所述侧氧隔离墙的制作方法为首先在步骤三的基 础上各向同性生长一层二氧化硅；然后各向异性刻蚀二氧化硅。一种用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构的制作方法，包括以下步骤步骤A，由下到上依次生长SOI衬底体区，SOI衬底隐埋氧化层，顶层硅膜构成SOI 衬底；在SOI衬底上热氧化生成一层二氧化硅缓冲层；步骤B，在二氧化硅缓冲层上沉积一层氮化硅层；步骤C，利用一道光刻工艺开口 ESD保护单元区域，所述ESD保护单元区域从氮化 硅层深入到SOI衬底隐埋氧化层；步骤D，制作侧氧隔离墙，用以划分ESD保护单元和本征有源结构；步骤E，在ESD保护单元区域利用快速退火化学气相淀积工艺选择性生长外延硅；步骤F，采用化学机械抛光使顶层硅膜表面平滑；步骤G，在外延硅上制作ESD保护结构的多晶硅栅、源区、漏区。作为本发明的一种优选方案，所述侧氧隔离墙的制作方法为首先在步骤三的基 础上各向同性生长一层二氧化硅；然后各向异性刻蚀二氧化硅。作为本发明的另一种优选方案，所述方法还包括步骤H，在顶层硅膜上制造本征SOI MOS型器件的多晶硅栅、源区、漏区；所述ESD保护结构为MOS型。
本发明的有益效果在于ESD保护结构直接连接SOI衬底体区，因此泄露电流能够 下沉至SOI衬底；另一方面，通过外延工艺使得ESD保护结构与有源区本征MOS管处于同一 平面，这样便于后续工艺的处理。
图1为SOI衬底结构示意图2为本发明涉及的二氧化硅缓冲层以及氮化硅阻挡层的生长截面图； 图3为本发明涉及的ESD保护单元窗口的刻蚀以及二氧化硅隔离墙的制作示意
图4为本发明涉及的SOI衬底体区外延硅截面示意图； 图5为本发明涉及的ESD保护结构以及本征SOI MOS结构的截面图。 主要组件符号说明
2、SOI衬底隐埋氧化层； 4、二氧化硅缓冲层； 6、浅沟槽隔离墙； 8、外延硅层； 10、本征SOI MOS结构；氧化硅
USOI衬底体区； 3、顶层硅膜； 5、氮化硅阻挡层； 7、各向同性生长的 9、ESD保护结构； 11、ESD保护结构的多晶硅栅； 13、ESD保护结构的侧氧隔离墙
15、本征SOI MOS结构的多晶硅 栅；
17、本征SOI MOS结构的侧氧隔 mm ；
19、侧氧隔离墙。
12、ESD保护结构的源漏区； 14、ESD保护结构的二氧化硅栅介 质；
16、本征SOI MOS结构的源漏区；
18、本征SOI MOS结构的 栅介质；。氧化硅
具体实施例方式下面结合附图对本发明的具体实施方式
作进一步详细说明。实施例一如图5所示，本实施例提供一种ESD保护结构，其包括直接连接SOI衬底体区1的 外延硅层8 ；外延硅层8的两侧为侧氧隔离墙19，所述侧氧隔离墙19用以划分ESD保护结 构9与本征有源区；外延硅层8的顶部左右两端分别为ESD保护结构的源漏区12 ；外延硅 层8的顶部中心位置处向上生长有ESD保护结构的多晶硅栅11 ；ESD保护结构的多晶硅栅 11与外延硅层8之间夹有ESD保护结构的二氧化硅栅介质14 ；ESD保护结构的多晶硅栅11 与ESD保护结构的二氧化硅栅介质14的两侧设有侧氧隔离墙13。本实施例还提供一种用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构，所述保护结构 包括ESD保护结构9，所述ESD保护结构9包括直接连接SOI衬底体区1的外延硅层8 ；外 延硅层8的两侧为侧氧隔离墙19，所述侧氧隔离墙19用以划分ESD保护结构9与本征有源区；外延硅层8的顶部左右两端分别为ESD保护结构的源漏区12 ；外延硅层8的顶部中心 位置处向上生长有ESD保护结构的多晶硅栅11 ；ESD保护结构的多晶硅栅11与外延硅层8 之间夹有ESD保护结构的二氧化硅栅介质14 ；ESD保护结构的多晶硅栅11与ESD保护结构 的二氧化硅栅介质14的两侧设有侧氧隔离墙13。所述保护结构还包括SOI衬底，所述SOI衬底由下到上分别为SOI衬底体区1，SOI 衬底隐埋氧化层2，顶层硅膜3。所述保护结构还包括本征SOI MOS结构10，所述本征SOI MOS结构10通过侧氧隔离墙19与所述ESD保护结构9分隔；所述本征SOI MOS结构10包 括分别设于顶层硅膜3的顶部左右两端的本征SOIMOS结构的源漏区16 ；生长于顶层硅膜 3的顶部中心位置处上方的本征SOI MOS结构的多晶硅栅15 ；夹于本征SOI MOS结构的多晶 硅栅15与顶层硅膜3之间的本征SOI MOS结构的二氧化硅栅介质18 ；生长于本征SOI MOS 结构的多晶硅栅15与本征SOI MOS结构的二氧化硅栅介质18的两侧的侧氧隔离墙17。所 述本征SOI MOS结构10的顶层硅膜3左侧连接侧氧隔离墙19，右侧连接浅沟槽隔离墙6。如图1至5所示，本实施例提供一种ESD保护结构的制作方法，包括以下步骤步骤一，由下到上依次生长SOI衬底体区，SOI衬底隐埋氧化层，顶层硅膜构成SOI 衬底；在SOI衬底上热氧化生成一层二氧化硅缓冲层；步骤二，在二氧化硅缓冲层上沉积一层氮化硅层；步骤三，利用一道光刻工艺开口 ESD保护单元区域，所述ESD保护单元区域从氮化 硅层深入到SOI衬底隐埋氧化层；步骤四，制作侧氧隔离墙，用以划分ESD保护单元和本征有源区；步骤五，在ESD保护单元区域利用快速退火化学气相淀积工艺选择性生长外延 娃；步骤六，采用化学机械抛光使顶层硅膜表面平滑；步骤七，在外延硅上制作ESD保护结构的多晶硅栅、源区、漏区。所述侧氧隔离墙的制作方法为首先在步骤三的基础上各向同性生长一层二氧化 硅；然后各向异性刻蚀二氧化硅。本实施例还提供一种用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构的制作方法，包 括以下步骤步骤A，由下到上依次生长SOI衬底体区，SOI衬底隐埋氧化层，顶层硅膜构成SOI 衬底；在SOI衬底上热氧化生成一层二氧化硅缓冲层；步骤B，在二氧化硅缓冲层上沉积一层氮化硅层；步骤C，利用一道光刻工艺开口 ESD保护单元区域，所述ESD保护单元区域从氮化 硅层深入到SOI衬底隐埋氧化层；步骤D，制作侧氧隔离墙，用以划分ESD保护单元和本征有源区；步骤E，在ESD保护单元区域利用快速退火化学气相淀积工艺选择性生长外延硅；步骤F，采用化学机械抛光使顶层硅膜表面平滑；步骤G，在外延硅上制作ESD保护结构的多晶硅栅、源区、漏区。所述侧氧隔离墙的制作方法为首先在步骤三的基础上各向同性生长一层二氧化 硅；然后各向异性刻蚀二氧化硅。所述方法还包括步骤H，在顶层硅膜上制造本征SOI MOS 型器件的多晶硅栅、源区、漏区；所述ESD保护结构为MOS型。
本实施例所述ESD保护结构直接连接SOI衬底体区，因此泄露电流能够下沉至SOI 衬底；另一方面，通过外延工艺使得ESD保护结构与有源区本征MOS管处于同一平面，这样 便于后续工艺的处理。实施例二本实施例提供的用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构的制作方法如下首先在SOI衬底上，热氧化生成一层二氧化硅层缓冲层，这一层二氧化硅缓冲层 的作用在于缓解续工艺的氮化硅层与顶层硅膜之间的张应力；其次在二氧化硅缓冲层上沉积一层氮化硅，氮化硅层的作用在于防止顶层硅膜在 后续热处理工艺中热氧化；然后利用一道光刻工艺开口 ESD保护单元区域；接下来制作侧氧隔离墙，这层侧氧隔离墙用于划分MOS型ESD保护单元与本征SOI MOS器件。侧氧隔离墙的制作方法为首先是各向同性性生长一层二氧化硅，然后各向异性 刻蚀二氧化硅；在此基础上，利用快速退火化学气相淀积工艺选择性生长外延硅；由于外 延的特性，外延硅与衬底硅拥有相同的特性；采用化学机械抛光(CMP)使顶层硅膜表面平 滑。至此，MOS型ESD保护单元与本征MOS器件有源区被隔离开来。MOS型ESD保护单元直 接连接衬底体区，ESD事件中确保泄露电流能下沉至衬底体区，防止MOS型ESD保护单元被 电流产生的热量击穿。最后在外延硅上制作SOI MOS型ESD保护结构，在顶层硅膜上制造本征SOIMOS型
晶体管。本发明涉及一种绝缘体上硅(SOI)场效应晶体管(M0Q型静电放电(ESD)保护结 构以及制作方法。该方法直接在半导体支撑衬底上制作MOS型ESD保护结构，置于内部电 路和输入/输出保护元件之间，用以避免外部ESD事件的额外电流流入内部电路造成内部 元件的击穿。这种结构能阻止泄露电流在元件中流动，确保ESD事件中泄露电流下沉至衬 底体区，否则电流会抬高有源体区的电势导致ESD保护元件容易击穿，另一方面会影响本 征器件的性能。本发明的制作方法与SOI CMOS工艺兼容，并且不会对后续工艺产生影响。这里本发明的描述和应用是说明性的，并非想将本发明的范围限制在上述实施例 中。这里所披露的实施例的变形和改变是可能的，对于那些本领域的普通技术人员来说实 施例的替换和等效的各种部件是公知的。本领域技术人员应该清楚的是，在不脱离本发明 的精神或本质特征的情况下，本发明可以以其他形式、结构、布置、比例，以及用其他元件、 材料和部件来实现。
权利要求
1.一种ESD保护结构，其特征在于，所述ESD保护结构包括直接连接SOI衬底体区的外 延硅层；外延硅层的两侧为侧氧隔离墙，所述侧氧隔离墙用以划分ESD保护结构与本征有 源结构；外延硅层的顶部左右两端分别为ESD保护结构的源漏区；外延硅层的顶部中心位 置处向上生长有ESD保护结构的多晶硅栅；ESD保护结构的多晶硅栅与外延硅层之间夹有 ESD保护结构的二氧化硅栅介质；ESD保护结构的多晶硅栅与ESD保护结构的二氧化硅栅介 质的两侧设有侧氧隔离墙。
2.一种用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构，其特征在于所述ESD保护结构 包括直接连接SOI衬底体区的外延硅层；外延硅层的两侧为侧氧隔离墙，所述侧氧隔离墙 用以划分ESD保护结构与本征有源结构；外延硅层的顶部左右两端分别为ESD保护结构的 源漏区；外延硅层的顶部中心位置处向上生长有ESD保护结构的多晶硅栅；ESD保护结构的 多晶硅栅与外延硅层之间夹有ESD保护结构的二氧化硅栅介质；ESD保护结构的多晶硅栅 与ESD保护结构的二氧化硅栅介质的两侧设有侧氧隔离墙。
3.根据权利要求2所述的用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构，其特征在于 所述保护结构还包括SOI衬底，所述SOI衬底由下到上分别为SOI衬底体区，SOI衬底隐埋 氧化层，顶层硅膜。
4.根据权利要求3所述的用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构，其特征在于 所述保护结构还包括本征SOI MOS结构，所述本征SOI MOS结构通过侧氧隔离墙与所述ESD 保护结构分隔；所述本征SOI MOS结构包括本征SOI MOS结构的源漏区，分别设于顶层硅膜顶部左右两端； 本征SOI MOS结构的多晶硅栅，生长于顶层硅膜的顶部中心位置处上方； 本征SOI MOS结构的二氧化硅栅介质，夹于本征SOI MOS结构的多晶硅栅与顶层硅膜 之间；侧氧隔离墙，生长于本征SOI MOS结构的多晶硅栅与本征SOI MOS结构的二氧化硅栅 介质的两侧。
5.根据权利要求4所述的用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构，其特征在于 所述本征SOI MOS结构的顶层硅膜左侧连接侧氧隔离墙，右侧连接浅沟槽隔离墙。
6.一种ESD保护结构的制作方法，其特征在于，包括以下步骤步骤一，由下到上依次生长SOI衬底体区，SOI衬底隐埋氧化层，顶层硅膜构成SOI衬 底；在SOI衬底上热氧化生成一层二氧化硅缓冲层； 步骤二，在二氧化硅缓冲层上沉积一层氮化硅层；步骤三，利用一道光刻工艺开口 ESD保护单元区域，所述ESD保护单元区域从氮化硅层 深入到SOI衬底隐埋氧化层；步骤四，制作侧氧隔离墙，用以划分ESD保护单元和本征有源结构；步骤五，在ESD保护单元区域利用快速退火化学气相淀积工艺选择性生长外延硅；步骤六，采用化学机械抛光使顶层硅膜表面平滑；步骤七，在外延硅上制作ESD保护结构的多晶硅栅、源区、漏区。
7.根据权利要求6所述的ESD保护结构的制作方法，其特征在于，所述侧氧隔离墙的制 作方法为首先在步骤三的基础上各向同性生长一层二氧化硅；然后各向异性刻蚀二氧化 娃。
8.一种用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构的制作方法，其特征在于，包括以下 步骤步骤A，由下到上依次生长SOI衬底体区，SOI衬底隐埋氧化层，顶层硅膜构成SOI衬 底；在SOI衬底上热氧化生成一层二氧化硅缓冲层； 步骤B，在二氧化硅缓冲层上沉积一层氮化硅层；步骤C，利用一道光刻工艺开口 ESD保护单元区域，所述ESD保护单元区域从氮化硅层 深入到SOI衬底隐埋氧化层；步骤D，制作侧氧隔离墙，用以划分ESD保护单元和本征有源结构；步骤E，在ESD保护单元区域利用快速退火化学气相淀积工艺选择性生长外延硅；步骤F，采用化学机械抛光使顶层硅膜表面平滑；步骤G，在外延硅上制作ESD保护结构的多晶硅栅、源区、漏区。
9.根据权利要求8所述的用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构的制作方法，其 特征在于，所述侧氧隔离墙的制作方法为首先在步骤三的基础上各向同性生长一层二氧 化硅；然后各向异性刻蚀二氧化硅。
10.根据权利要求8所述的用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构的制作方法，其 特征在于所述方法还包括步骤H，在顶层硅膜上制造本征SOI MOS型器件的多晶硅栅、源 区、漏区；所述ESD保护结构为MOS型。
全文摘要
本发明公开了一种用于绝缘体上硅技术的MOS型ESD保护结构及其制作方法。所述ESD保护结构包括直接连接SOI衬底体区的外延硅层；外延硅层的两侧为侧氧隔离墙，所述侧氧隔离墙用以划分ESD保护结构与本征有源结构；外延硅层的顶部左右两端分别为ESD保护结构的源漏区；外延硅层的顶部中心位置处向上生长有ESD保护结构的多晶硅栅；ESD保护结构的多晶硅栅与外延硅层之间夹有ESD保护结构的二氧化硅栅介质；ESD保护结构的多晶硅栅与ESD保护结构的二氧化硅栅介质的两侧设有侧氧隔离墙。本发明使泄露电流能够下沉至SOI衬底，且通过外延工艺使得ESD保护结构与有源区本征MOS管处于同一平面，这样便于后续工艺的处理。
文档编号H01L27/12GK102104048SQ20091020133
公开日2011年6月22日 申请日期2009年12月17日 优先权日2009年12月17日
发明者伍青青, 宁冰旭, 王曦, 罗杰馨, 肖德元, 薛忠营, 陈静 申请人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所