专利名称：用于湿式制程的基材输送载板的制作方法
技术领域：
本实用新型是一种用于湿式制程的基材输送载板，尤指一种用于承载玻璃等透光 基板、晶圆或其它基材，使基材可透过自动化输送装置输送进行蚀刻、清洗…湿式制程的基 材输送载板。
背景技术：
目前如应用于触控面板的玻璃基板、晶圆…等基材于加工制程中，通常必须经过 蚀刻设备进行图案化的蚀刻步骤，及清洗设备进行表面清洗步骤等湿式制程。以玻璃基板的加工制程为例，玻璃基板进行蚀刻及清洗等湿式制程前，玻璃基板 均已切割成预定尺寸的单元面积，因玻璃基板于切割后，其侧边均会产生锐利的毛边，故当 具有毛边的玻璃基板经过蚀刻设备或清洗设备的输送轮输送时，玻璃基板的毛边因与输送 轮上的挡边接触摩擦，易自毛边产生严重的破裂情形。再者，如该些玻璃基板为触控面板用 的基板是厚度约为0. 5 0. 8mm的薄板，其厚度薄而易碎，在进行蚀刻或清洗等湿式制程 中，现有蚀刻设备或清洗设备等对该些玻璃基板并未提供良好的防护机制，于玻璃基板的 输送过程，玻璃基板切割产生毛边常与输送轮挡边接触摩擦造成毛边受损，并易于伤及玻 璃基板的输出入电极的完整性，致使玻璃基板成品良率偏低。为解决上述问题，本案申请人先前曾提出一种如台湾第M372534号新型专利案所 示的「用于湿制程的基板用输送载板」，该输送载板主要是于其板体中形成基板定位孔，并 于基板定位孔周边孔壁下段形成数个止挡凸部，该数个止挡凸部顶缘至板体顶面间的间 距，用以提供基板置入基板定位孔中，并为该数个止挡凸部于基板下方支撑定位，以此，利 用该输送载板作为基板进行蚀刻、清洗等湿式制程输送时的载具，使基板通过该输送载板 于输送轮上移动，而避免基板与输送轮直接接触磨擦而受损的情事。前述输送载板于实施时，确可达成前述的功效，惟该输送载板承载基材于输送轮 上传送时，因湿制程中尚利用吹风等手段使基板干燥的步骤，风力的作用使输送载板上的 基材易发生飘浮，或是，清洗液(如水等)采取由下往上冲洗基材下表面时，也易发生基材 于输送载板中浮动等，因此，为降低输送载板上的基材因外力作用而浮动的情形，实有进一 步对输送载板再改良，使输送载板的功能更为完备。
发明内容本实用新型要解决的技术问题是改善基材为现有输送载板所承载时，基材易因 外力作用而浮动的情形。为解决前述的技术问题，本实用新型的技术解决方案是提供一种用于湿式制程 的基材输送载板，该基材输送载板具有一板体，板体中形成至少一基材定位空间，于基材定 位空间周边侧壁下段分布形成数个承载凸部，其特征在于，于基材定位空间一侧侧壁上段 分布数个限位凸部，限位凸部底缘与承载凸部顶缘间具有一插入缝，所述的插入缝足以提 供基材一侧边插入其中，使基材平置于基材定位空间中，为承载凸部共同承载，以及限位凸部于基材一侧边限位。如上所述的用于湿式制程的基材输送载板中，每一限位凸部与承载凸部呈上下一
对一对应。如上所述的用于湿式制程的基材输送载板中，基材定位空间为矩形，板体于矩形 基材定位空间的四角隅处分别形成内凹的边角保护凹槽。如上所述的用于湿式制程的基材输送载板中，板体于基材定位空间周边的侧壁形 成数个内凹的取置凹槽。如上所述的用于湿式制程的基材输送载板中，板体于基材定位空间周边的侧壁形 成数个内凹的取置凹槽。本实用新型的优点是以此基材输送载板设计，提供晶圆、玻璃基板等基材置于其 上，并利用基材输送载板中的数个承载凸部共同支撑基材，以及利用限位凸部于基材一侧 顶面予以限位，如此，利用基材输送载板承载基材进行蚀刻、清洗等湿式制程输送时，除可 避免基材与输送轮直接接触磨擦而受损，更能于清洗后的吹风干燥或喷洒冲洗等步骤中， 防止基材于基材输送载板中移位。
图1是本实用新型基材输送载板的一较佳实施例的立体示意图。图2是图1所示基材输送载板较佳实施例的俯视平面示意图。图3是图1所示基材输送载板较佳实施例的局部放大示意图。图4是图1所示基材输送载板较佳实施例中板体一侧上下对应的限位凸部与承载 凸部放大示意图。
图5是图1所示基材输送载板较佳实施例中的承载凸部放大示意图。 图6是图1所示基材输送载板较佳实施例中置放基材的剖面示意图。 图7是图1所示基材输送载板承载基板进行湿式制程的实施状态参考图(一) 图8是图1所示基材输送载板承载基板进行湿式制程的实施状态参考图(二) 图9是图1所示输送载板承载基板承载基材于输送轮的平面示意图。 附图标号说明 1基材输送载板 10板体 12侧壁 14限位凸部 16取置凹槽 2基材 3输送轮
11基材定位空间 13承载凸部 15边角保护凹槽 17插入缝
具体实施方式
以下配合图式及本实用新型的较佳实施例，进一步阐述本实用新型为达成预定实 用新型目的所采取的技术手段。如图1及图2所示，是揭示本实用新型用于湿式制程的基材输送载板的一较佳实施例，由图中可以见及该基材输送载板具有一板体10，该板体10中形成一个或复数个基材 定位空间11以及位于基材定位空间11周边的侧壁12，于本较佳实施例中，板体10是形成 复数个基材定位空间11，所述基材定位空间11的形状是与待承载的基材2形状相匹配，用 以提供基材2置入其中。如图1至图5所示，板体10于基材定位空间11周边的侧壁下段分布形成复数个 承载凸部13，于基材定位空间11 一侧侧壁上段分布复数个限位凸部14，如图3及图4所 示，限位凸部14底缘与承载凸部13顶缘间具有一插入缝17，所述的插入缝17足以提供基 材2 —侧边插入其中，且使基材2可置入于基材定位空间11中，为复数个承载凸部13共同 承载，限位凸部14于基材2 —侧边限位；所述限位凸部14可与承载凸部13呈上下一对一 对应实施型态，或可为上下不对应的型态，于本较佳实施例是揭示每一限位凸部14与一承 载凸部13上下对应的型态。如图3至图5所示，所述限位凸部14及承载凸部13可为半圆形、圆弧形、多边形 (如三角形、四边形….等)几何形状的凸粒，其中以足以对基材2侧边提供必要的支撑以 及体积小为佳，所述限位凸部14及承载凸部13体积较小时，可减少遮蔽基材2顶面及底面 的面积。如图1及图2所示，于本较佳实施例中，所述基材定位空间11可为矩形区间，该板 体10上形成复数个间隔排列的基材定位空间11，该复数个基材定位空间11可为相同形状 尺寸的区间，使该基材输送载板1可以同时承载复数个相同尺寸规格的基材2，或是同时承 载复数不同尺寸规格的基材2。前述基材输送载板1的板体10尚可于所述矩形基材定位空间11的四角隅处分别 形成内凹的边角保护凹槽15，所述边角保护凹槽15可为圆形或其它几何形状，使置入基材 定位空间11中的矩形基材2各端角分别伸入所述边角保护凹槽15中，而避免基材2端角 与基材定位空间11侧壁发生碰撞而破裂的情形。前述基材输送载板1中，板体10尚可于所述基材定位空间11的周边侧壁形成复 数个内凹的取置凹槽16，以便于将操作者将基材2置入该基材输送载板1的基材定位空间 11中，或自基材定位空间11中取出基材2，并可减少基材输送载板1与基材2间的接触面 积。本实用新型基材输送载板于使用时，如图6所示，是令切割单元尺寸的基材2放置 于该基材输送载板1的基材定位空间11中定位，于置放基材2时，是令基材2 —侧边先倾 斜插入于限位凸部14与承载凸部13间的插入缝17中，再平置，使基材2为基材定位空间 11周边的承载凸部13共同承载而定位。接续将置放有基材2的基材输送载板1移置蚀刻 或清洗设备中，如图7及图8所示，即由所述蚀刻或清洗设备中的输送轮3输送至设备内， 进行基材2表面的蚀刻或清洗等湿式制程步骤。于进行前述蚀刻或清洗等湿式制程步骤时，如图7至图9所示，因基材2是藉由基 材输送载板1于旋转的输送轮3上被输送，而由设备对基材2喷洒蚀刻液或清洗液等，于此 湿式制程步骤中，因可有效避免基材2与输送轮3直接接触磨擦而损坏，且于蚀刻液或清洗 液喷洒于基材2时，如由下向上喷洒蚀刻液或清洗液于基材2底面，因基材输送载板1尚设 有限位凸部14于基材2顶面一侧予以限位，可减少基材2于基材输送载板1中浮动的现象， 此外，清洗后的吹风干燥处理步骤时，同样也可利用基材输送载板1中的限位凸部14于基材2顶面一侧限位，可减少基材2于基材输送载板1中浮动的现象。 以上所述仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型做任何形式上的 限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉 本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案的范围内，当可利用上述揭示的技术内 容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内 容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍 属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求一种用于湿式制程的基材输送载板，该基材输送载板具有一板体，板体中形成至少一基材定位空间，于基材定位空间周边侧壁下段分布形成数个承载凸部，其特征在于，于基材定位空间一侧侧壁上段分布数个限位凸部，限位凸部底缘与承载凸部顶缘间具有一插入缝，所述的插入缝足以提供基材一侧边插入其中，使基材平置于基材定位空间中，为承载凸部共同承载，以及限位凸部于基材一侧边限位。
2.根据权利要求1所述的用于湿式制程的基材输送载板，其特征在于，每一限位凸部 与承载凸部呈上下一对一对应。
3.根据权利要求1或2所述的用于湿式制程的基材输送载板，其特征在于，基材定位空 间为矩形，板体于矩形基材定位空间的四角隅处分别形成内凹的边角保护凹槽。
4.根据权利要求1或2所述的用于湿式制程的基材输送载板，其特征在于，板体于基材 定位空间周边的侧壁形成数个内凹的取置凹槽。
5.根据权利要求3所述的用于湿式制程的基材输送载板，其特征在于，板体于基材定 位空间周边的侧壁形成数个内凹的取置凹槽。
专利摘要本实用新型是关于一种用于湿式制程的基材输送载板，其具有一板体，板体中形成至少一基材定位空间，于基材定位空间周边侧壁下段分布形成数个承载凸部，且于基材定位空间一侧侧壁上段分布数个限位凸部，限位凸部底缘与承载凸部顶缘间具有一插入缝，用以提供基材置入于基材定位空间中，为数个承载凸部共同支撑，另藉一侧的限位凸部于基材一侧顶面限位，进而利用基板输送载板作为基材进行蚀刻、清洗等湿式制程输送时的载具，除能避免基材与输送轮直接接触摩擦而受损，更能于清洗后的吹风干燥等步骤中防止基材移位。
文档编号H01L21/677GK201708137SQ201020234359
公开日2011年1月12日 申请日期2010年6月23日 优先权日2010年6月23日
发明者杨延鸿, 龚南华 申请人:扬博科技股份有限公司