1.一种高功率强流离子源四电极支撑座组件，包括：第一法兰(1)、第一绝缘腔(2)、第二法兰(3)、第二绝缘腔(4)、第三法兰(5)、第三绝缘腔(6)、第四法兰(7)、第二电极支架(8)、第三电极支架(9)、第四电极支架(10)，第一电极栅(11)、第二电极栅(17)、第三电极栅(18)、第四电极栅(19)，其特征在于：所述第一法兰(1)用来支撑第一电极栅(11)，为第一电极栅(11)的水冷回路提供进出通道；它与第一绝缘腔(2)和第一电极栅(11)以及外部法兰配合，第一法兰(1)与第一绝缘腔(2)连接配合面上有一密封槽，用来放置O型氟橡胶密封圈；在配合面上的密封槽的靠近腔体内侧等间距排布32个螺栓，利用螺栓压紧密封圈进行第一法兰(1)与第一绝缘腔(2)真空密封；第一法兰(1)与第一电极水路连接的第一电极水管(12)，通过第一电极水管密封小法兰(13)与第一法兰(1)连接；
第二法兰(3)连接第二电极支架(8)共同支撑第二电极栅(17)，并为第二电极栅(17)的水冷回路提供进出路径；第二法兰(3)与第一绝缘腔(2)、第二绝缘腔(4)、第二电极支架(8)、第二电极水管(14)连接配合；第二法兰(3)与第一绝缘腔(2)的配合面上有一个用来放置O型氟橡胶密封圈的密封槽，28个紧固螺栓在配合面上的密封槽的靠向腔体外侧等间距排布，螺栓的排布在空间上要避开水路路径；第二电极水管(14)是用来冷却第二电极栅(17)的，第二电极水管(14)的两端通过小密封法兰分别与第二法兰(3)和第二电极栅(17)连接，第二电极水管(14)共有6对；第二法兰(3)与第二绝缘腔(4)是通过O型氟橡胶密封圈和紧固螺栓压紧连接的，共有28个螺栓等间距排布在密封槽的靠近腔内侧；
第三法兰(5)与第三电极支架(9)组合后用来支撑第三电极栅(18)，并给第三电极栅(18)水冷回路提供进出通道；第三法兰(5)与第二绝缘腔(4) 和第三绝缘腔(6)以及第三电极支架(9)以及第三电极水管(15)配合；第三法兰(5)与第三绝缘腔(6)的配合面上设置有密封槽，压紧密封圈的紧固螺栓孔在密封槽靠近腔体的外侧；第三法兰(5)与第二绝缘腔(4)配合面上有一个用来进行真空密封的密封槽和28个紧固螺栓孔，螺栓孔在密封槽靠近腔体的内侧；
第四法兰(7)与第四电极支架(10)组合后用来支撑第四电极栅(19),并给第四电极栅(19)水冷回路提供进出路径；第四法兰(7)与第三绝缘腔(6)以及第四电极支架(10)以及第四电极水管(16)配合；第四法兰(7)与第三绝缘腔(6)配合面上也有一用来真空密封的密封槽，28个紧固螺栓在密封靠近腔体的槽内侧等间距排布。
2.如权利要求1所述的一种高功率强流离子源四电极支撑座组件，其特征在于：所述第二电极水管(14)及其小密封法兰均放置在第二电极支架(8)的外表面，第三电极水管(15)放置在了第三电极支架(9)与第四电极支架(10)之间。
3.如权利要求1所述的一种高功率强流离子源四电极支撑座组件，其特征在于：所述的每个法兰与绝缘腔和电极支架配合面的平面度为0.1mm，平行度为0.04mm。
4.如权利要求1所述的一种高功率强流离子源四电极支撑座组件，其特征在于：所述第一绝缘腔(2)、第二绝缘腔(4)和第三绝缘腔(6)的材料都为PEEK，PEEK绝缘腔与法兰之间通过O型密封圈紧固连接，绝缘腔与法兰的装配面同时也是密封面，要求光洁度为1.6微米，每层配合面上相应位置排布有紧固螺纹孔。
5.如权利要求1所述的一种高功率强流离子源四电极支撑座组件，其特征在于：所述第一绝缘腔(2)和第三绝缘腔(6)的外形尺寸为698mm*428mm，腔厚度均为28mm，高度分别为48mm和38mm；第二绝缘腔(4)由三个绝缘环利用40个间距为50mm的型号为M10的PEEK螺栓紧固连接，真空密封结构是O型氟橡胶压紧密封，第二绝缘腔4的总高度为128mm，外形尺寸为700mm*480mm，腔厚度为52mm。
6.如权利要求1所述的一种高功率强流离子源四电极支撑座组件，其特征在于：所述第二电极支架(8)与第二法兰(3)和第二电极栅(17)连接，第三电极支架(9)与第三电极栅(18)和第三法兰(5)连接，第四电极支架(10)与第四电极栅(19)和第四法兰(7)连接；第二电极支架(8)在上下平面中心位置设置有上下开口，开口尺寸为528mm*235mm，总高度为44mm，支架的厚度大于10mm；第三电极支架(9)在中心位置设置上下开口，上端开口尺寸为468mm*201mm，下端开口尺寸528mm*261mm，总高度126mm，厚度为10mm，第四电极支架(10)开口尺寸为436mm*171mm，总高度为139mm，壁厚10mm。
7.如权利要求1所述的一种高功率强流离子源四电极支撑座组件，其特征在于：所述第三电极支架(9)和第四电极支架(10)的侧壁上均开有30-60条宽度为1mm，长度90mm的细缝，细缝之间的间距20mm-40mm。
8.如权利要求1所述的一种高功率强流离子源四电极支撑座组件，其特征在于：在装配过程中，每层电极装配面相对于第四法兰基准面A或者相对于第一法兰(1)的第一电极配合面的平行度，并进行二次机加工修整四层支架与电机装配面的平行度公差在0.04mm以内，每层支架与电极配合面要预留修整余量为1mm。