气相生长装置及气相生长方法与流程

文档序号:12513788阅读:来源:国知局
技术总结
实施方式的气相生长装置具备:n个反应室,n为2以上的整数;主气体供给路,向n个反应室供给工艺气体;主质量流量控制器,设置于主气体供给路,控制工艺气体的流量;分支部,将主气体供给路分支;n条副气体供给路,在分支部分支,向n个反应室供给被分流的工艺气体;n个第一截止阀,设置在n条副气体供给路的分支部与n个反应室之间,以至分支部的距离比至反应室的距离短的方式配置,能够截断工艺气体的流动;以及n个副质量流量控制器,设置在n条副气体供给路的n个第一截止阀与n个反应室之间,控制流经n条副气体供给路的工艺气体的流量。

技术研发人员:高桥英志;佐藤裕辅
受保护的技术使用者:纽富来科技股份有限公司
文档号码:201580045081
技术研发日:2015.11.04
技术公布日:2017.05.31

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