一种复合母排折弯工艺的制作方法

本发明涉及复合母排的制作技术领域。

背景技术：

在生产实践过程中，对需要折弯的复合母排进行折弯工序时，经常会发生，如图1、图2所示，折弯完成后由于内外侧的两块铜排相对的折弯弧略有不同（也就是折弯时两块铜排的延展是不同的），会造成内外侧的两块铜排是错位的现象，即折弯后内外侧的两块铜排的一端是不对齐、错位的，并且在折弯弧处的绝缘层会发生开裂现象，影响产品质量；严重的，两块铜排会发生变形、褶皱，形成曲面，使得产品报废，无法使用，增加生产成本。

因此，如何提供一种能够防止母排折弯处开裂，防止内外侧铜排发生错位，保证母排质量的折弯复合母排的压合工艺，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题，是提供一种复合母排折弯工艺，能够防止复合母排折弯处开裂和各层之间错位变形，保证质量，提高成品率，提高效率，降低成本。

为解决上述技术问题，本发明所采取的技术方案是：

一种复合母排折弯工艺，包括以下步骤：

1）叠板；至少有两层上下式叠放，每层的结构从上至下依次为第一绝缘层、铜排、第二绝缘层，相邻的每层间右部设有防粘结层，左部涂胶粘结，防粘结层的长度大于等于折弯错位部长度；

2）压合粘牢；

3）折弯到位；

4）抽出防粘结层，即得到折弯复合母排。

作为优选，在所述步骤1）之前还设有计算工序，即计算各层绝缘层和各层铜排的长度，根据内外侧铜排的折弯系数的不同，计算出能保证铜排折弯后端部齐平的各层铜排的长度和各层绝缘层的长度；或根据经验值、试验值确定各层铜排和各层绝缘层的长度；以保证折弯后各层的右端平齐。

作为优选，所述防粘结层的材质为离型布。

作为优选，所述防粘结层的长度超出各层的右端部，以方便抽出。

作为优选，所述第一绝缘层、第二绝缘层的材质均为PET薄膜。

采用上述技术方案所产生的有益效果在于：能够防止母排折弯处开裂和各层之间错位变形，保证质量，提高成品率，提高效率，降低成本。现有技术中对需要折弯的复合母排进行折弯工序时，经常会发生如图2所示的内外侧的两块铜排是错位、褶皱、变形的现象。本发明则在设计叠板层时，在相邻两层之间在增设一层防粘结层，并根据内外侧铜排的折弯系数的不同，计算出能保证铜排折弯后端部齐平的各层铜排的长度和各绝缘层的长度；在折弯完成后，可以将防粘结层取出，即得到折弯复合母排。这种工艺方法能够防止母排折弯处开裂、褶皱、变形，防止内外侧铜排发生错位，保证母排质量。

附图说明

图1为现有技术中的折弯复合母排的叠板结构示意图；

图2为图1复合母排的折弯后的状态示意图；

图3为本发明的一个实施例的叠板后结构示意图；

图4为图3压合后的状态示意图；

图5为图4折弯后的状态示意图；

各图号名称为：1—第一绝缘层Ⅰ，2—铜排，3—第二绝缘层，4—防粘结层，5—折弯起始线。

具体实施方式

下面结合附图及一个实施例对本发明作进一步详细的说明。

如图3所示，本发明包括以下步骤：

1）叠板；至少有两层上下式叠放，每层的结构从上至下依次为第一绝缘层1、铜排2、第二绝缘层3，相邻的每层间右部设有防粘结层4，左部涂胶粘结，防粘结层4的长度大于等于折弯错位部长度，所述折弯错位部为折弯起始线5右侧的部分，即防粘结层4的左端与折弯起始线5齐平或者位于折弯起始线5的左侧；2）压合粘牢；如图4所示为压合工序完成后产品的样子，由于每层绝缘层上面是有胶的，所以压合完成后使得产品成为一个整体，如图所示压合完的产品是由绝缘层包裹，封死的；3）折弯到位；采用折弯机对压合好的复合母排进行折弯；4）抽出防粘结层4，即得到折弯复合母排，由于防粘结层4抽出，所以防粘结层4的部位是没有粘住的，但是铜排2依旧是由第一绝缘层1和第二绝缘层3包裹住的，如图5所示为折弯后得到的产品。

进一步的，在所述步骤1）之前还设有计算工序，即计算各层绝缘层（第一绝缘层1和第二绝缘层3）和各层铜排（铜排2）的长度，根据内外侧铜排的折弯系数的不同，计算出能保证铜排折弯后端部齐平的各层铜排的长度和各层绝缘层的长度；或根据经验值、试验值确定各层铜排和各层绝缘层的长度；以保证折弯后各层的右端平齐；具体的，根据内外侧铜排的不同折弯系数，计算内外侧铜排的长度，外侧的铜排长度大于内侧的长度，然后，每层铜排两侧的绝缘层长度相同，绝缘层超出铜排的距离是固定要求的，由此根据铜排的长度确定每层上下两层的绝缘层的长度，如图3所示。

进一步的，所述防粘结层4的材质为离型布。

进一步的，所述防粘结层4的长度超出各层的右端部，以方便压合后抽出。

进一步的，所述第一绝缘层1、第二绝缘层3的材质均为PET薄膜。

本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。