1.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在衬底基板上依次形成栅线、有源层图形和源漏极金属图形，所述栅线和所述源漏极金属图形存在交叠区域；
在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上且位于所述交叠区域之外的区域形成第一平坦层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上且位于所述交叠区域之外的区域形成第一平坦层之后，所述方法还包括：
在形成有所述第一平坦层的衬底基板上形成第二平坦层。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上且位于所述交叠区域之外的区域形成第一平坦层，包括：
在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上涂覆负性光刻胶；
采用掩膜版对涂覆有所述负性光刻胶的衬底基板进行曝光；
对曝光后的衬底基板进行显影得到所述第一平坦层。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一平坦层的上表面与所述交叠区域的上表面处于同一平面。
5.根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上依次形成栅线、有源层图形和源漏极金属图形，包括：
在衬底基板上形成栅线；
在形成有所述栅线的衬底基板上形成栅极绝缘层、刻蚀阻挡层和所述有源层图形；
在形成有所述有源层图形的衬底基板上形成所述源漏极金属图形。
6.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括：
衬底基板；
所述衬底基板上依次设置有栅线、有源层图形和源漏极金属图形，所述栅线和所述源漏极金属图形存在交叠区域；
设置有所述源漏极金属图形的衬底基板上且位于所述交叠区域之外的区域设置有第一平坦层。
7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：
设置有所述第一平坦层的衬底基板上设置有第二平坦层。
8.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述第一平坦层的上表面与所述交叠区域的上表面处于同一平面。
9.根据权利要求6至8任一所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：
设置有所述栅线的衬底基板上设置有栅极绝缘层和刻蚀阻挡层。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求6至9任一所述的阵列基板。