离子注入工具以及离子注入方法与流程

技术总结
一种离子注入工具包括工艺室、压板、离子源、以及多个控制单元。压板存在于工艺室中并且被配置成保持晶圆。离子源被配置成将离子束提供至晶圆上。控制单元存在于压板上并且被配置成施加多个物理场，该物理场能够影响离子束的离子至晶圆上的运动。

技术研发人员：李圣伟
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
文档号码：201610683472
技术研发日：2016.08.18
技术公布日：2017.05.10