多边形的激光增益结构、激光振荡器以及激光放大器的制作方法

本发明涉及激光技术领域，尤其是涉及一种多边形的激光增益结构、激光振荡器以及激光放大器。

背景技术：

随着实际应用需求的不断变化，为了改善固体激光器输出光束质量，提高输出功率或能量，研究人员发展了诸如棒状，板条及薄片等各种结构的激光器。棒状激光器结构简单，应用广泛。但随着输出功率的提升，棒状激光器会出现严重的热聚焦、应力双折射等热效应，恶化了光束质量，限制了棒状激光器的进一步发展。因此，板条激光器应运而生，板条激光介质具有较大的散热面积，能够减小介质内的热效应，消除应力双折射现象，并且通过设计“之”字形(zig-zag)光路，能够进一步补偿板条厚度方向的热效应。但是，由于板条激光器的通光截面面积相对较小，所能承受的功率密度有限，难以应用在窄脉冲高能量的激光系统中。薄片激光介质具有较大的通光截面，克服了板条晶体表面损伤的问题，同时兼顾良好的散热性能，保证了输出光束的光束质量。然而薄片激光器的增益介质体积有限，制约了激光器的储能，并且薄片激光器结构复杂，稳定性较差。单个薄片激光器由于受到掺杂浓度的限制，储能有限，限制了激光放大输出的能量，薄片激光器的级联结构又十分复杂，体积庞大。

技术实现要素：

本发明主要解决的技术问题是提供一种多边形的激光增益结构、激光振荡器以及激光放大器，从而提供一种结构紧凑，储能较高的增益结构，能够实现高光束质量输出，同时兼备良好的机械性能，较高的输出功率以及较高的提取效率。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种多边形的激光增益结构，多边形的激光增益结构包括n个侧面，所述多边形的激光增益结构包括掺杂区域和非掺杂区域，其中：

所述掺杂区域形成在所述多边形的激光增益结构的m个侧面上，所述掺杂区域上掺杂有激活离子，所述掺杂区域通过泵浦光束泵浦，用于放大及反射激光光束，其中n大于或等于4，m大于或等于3，且m小于或等于n；

所述非掺杂区域设置在所述多边形的激光增益结构的未设置所述掺杂区域的位置，所述非掺杂区域作为光学介质，其用于传输所述泵浦光束和所述激光光束，并具有入射面和出射面。

其中，掺杂区域的厚度介于30微米至3毫米之间。

其中，激光增益结构至少包括两个所述掺杂区域，该两个所述掺杂区域不平行。

其中，各个掺杂区域相对位置分布为环形形状分布，使得所述激光增益结构存在环形的光线传播路径，能够使入射光经过所述入射面依次在各个掺杂区域发生反射并获得增益，并在所述出射面输出。

其中，掺杂区域位于所述入射面和所述出射面光线传播路径之间，所述掺杂区域掺杂有至少一种激活离子。

其中，不同掺杂区域中的所述激活离子的掺杂浓度能够单独调节，用以实现均匀增益或均匀生热。

其中，当同一所述掺杂区域掺杂的激活离子为两种及以上数量时，可对同一掺杂区域的不同的所述激活离子的掺杂量进行单独调节。

其中，激活离子设置在基板上，所述基板通过键合、胶合或者透明陶瓷直接烧结制备的方式制备到所述激光增益结构的侧面上。

其中，在两个所述掺杂区域之间进一步掺杂ASE抑制离子，用于对所述掺杂区域的ASE噪声进行抑制。

其中，在所述非掺杂区域中设置通孔，用于设置冷却装置，泵浦光的耦合装置或ASE抑制装置。

其中，在所述非掺杂区域的入射面和/或出射面上设置有至少一种高透膜和/或高反膜。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一个技术方案是：提供一种激光振荡器，激光振荡器包括：

激光谐振腔，具有全反射镜及输出反射镜；

激光增益结构，设置在所述全反射镜及输出反射镜之间，其中，所述激光增益结构包括前文所述的多边形的激光增益结构；

泵浦光源，用于向所述激光增益结构提供泵浦光束；

泵浦光耦合系统，用于将所述泵浦光束引导至所述激光增益结构中。

为解决上述技术问题，本发明采用的又一个技术方案是：提供一种激光放大器，激光放大器包括：

激光增益结构，所述激光增益结构包括前文所述的多边形的激光增益结构；

激光源，用于提供被放大的激光光束；

激光光束耦合系统，用于将所述激光光束引导入及引导出所述激光增益结构。

泵浦光源，用于向所述激光增益结构提供泵浦光束；

泵浦光源耦合系统，用于将泵浦光束引导至所述激光增益结构中。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明提供了一种多边形的激光增益结构、激光振荡器以及激光放大器。多边形的激光增益结构包括n个侧面，多边形的激光增益结构包括掺杂区域和非掺杂区域，其中，掺杂区域形成在多边形的激光增益结构的m个侧面上，掺杂区域上掺杂有激活离子，掺杂区域通过泵浦光束泵浦，用于放大及反射激光光束，其中n大于或等于4，m大于或等于3，且m小于或等于n，非掺杂区域设置在多边形的激光增益结构的未设置掺杂区域的位置，非掺杂区域作为光学介质，其用于传输泵浦光束和激光光束，并具有入射面和出射面。因此，本发明的掺杂区域能够根据需要设置在多个侧面上，从而提高了增益体积，具有较高的储能，能够实现高光束质量输出，具有较高的输出功率以及较高的提取效率。进一步的，本发明的激光增益结构为多边形结构，结构紧凑，同时兼备良好的机械性能。

附图说明

图1是本发明实施例提供的一种多边形的激光增益结构的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的另一种多边形的激光增益结构的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的又一种多边形的激光增益结构的结构示意图；

图4是本发明实施例提供的又一种多边形的激光增益结构的结构示意图；

图5是本发明实施例提供的一种激光振荡器的结构示意图；

图6是本发明实施例提供的另一种激光振荡器的结构示意图；

图7是本发明实施例提供的又一种激光振荡器的结构示意图；

图8是本发明实施例提供的又一种激光振荡器的结构示意图；

图9是本发明实施例提供的一种激光放大器的结构示意图；

图10是本发明实施例提供的另一种激光放大器的结构示意图。

具体实施方式

请参阅图1，图1是本发明实施例提供的一种多边形的激光增益结构的结构示意图。如图1所示，本实施例的多边形的激光增益结构10包括n个侧面11。多边形的激光增益结构10还包括掺杂区域12和非掺杂区域13。其中，掺杂区域12形成在多边形的激光增益结构10的m个侧面上，掺杂区域12上掺杂有激活离子121，掺杂区域12通过泵浦光束泵浦，用于放大及反射激光光束。

其中n优选大于或等于4，m优选大于或等于3，且m小于或等于n。本实施例中，n为6，m为5。应理解，n和m的值还可以取其他，例如，m和n都为6，即在每一个侧面11上都形成掺杂区域12。n还可以等于3。本发明不对n和m的值作具体限制。

掺杂区域12的面积的大小可根据实际情况而确定。具体而言，掺杂区域12的面积小于或等于多边形的增益结构10的侧面11的面积。

非掺杂区域13设置在多边形的激光增益结构10上的未设置掺杂区域12的位置，非掺杂区域13作为光学介质，其用于传输泵浦光束和激光光束，并具有入射面131和出射面132。

由于掺杂区域12形成在多边形的增益结构10的侧面11上，因此为了能将入射的泵浦光束和激光光束传导到掺杂区域12上，入射面131和出射面132优选也形成在侧面11上。由此，在m小于n时，掺杂区域12的面积可以小于或等于侧面的面积11。其中，当掺杂区域12的面积小于侧面的面积11时，入射面131和出射面132可以设置在未设置掺杂区域12的侧面11上，也可以设置在其中一个侧面11未设置掺杂区域12的位置。当掺杂区域12的面积等于侧面的面积11时，入射面131和出射面132只能设置在未设置掺杂区域12的侧面11上。

在m等于n时，掺杂区域12的面积小于侧面11的面积，入射面131和出射面132只能设置在未设置掺杂区域12的侧面11上。

进一步的，在非掺杂区域13的入射面131和/或出射面132上设置有至少一种高透膜和/或高反膜。其中，高透膜用于透射对应波长的光，例如1064nm高透膜以及808nm高透膜指可以分别透过1064nm波段和808nm波段的光。对应的，高反膜即为反射对应波段的光，例如1064nm高反膜以及808nm高反膜指可以分别反射1064nm波段和808nm波段的光。本实施例在入射面131和/或出射面132上设置高透膜和/或高反膜，用于对入射的和/或出射的激光光束以及泵浦光束进行反射和/或透射。具体根据实际情况而设置相关的膜层，本实施例设置膜层的情况包括以下几种：

第一种：仅在入射面131上设置至少一种高透膜，如设置1064nm高透膜。

第二种：仅在入射面131上设置至少一种高反膜，如设置808nm高透膜。

第三种：仅在入射面131上设置至少一种高透膜和高反膜，如设置1064nm高透膜和808nm高反膜。

第四种：仅在出射面132上设置至少一种高透膜。

第五种：仅在出射面132上设置至少一种高反膜。

第六种：仅在出射面132上设置至少一种高透膜和高反膜。

第七种：在入射面131和出射面132上均设置至少一种高透膜。

第八种：在入射面131和出射面132上均设置至少一种高反膜。

第九种：在入射面131和出射面132上均设置至少一种高透膜和高反膜。

应理解，本实施例仅仅对入射面131和出射面132上设置的膜层进行一个举例说明，具体在哪里(入射面131和出射面132)设置、设置什么膜层以及设置多少膜层可根据实际情况而定，本实施例不作限制。

其中，多边形的激光增益结构10至少包括两个掺杂区域12，并且任何两个掺杂区域12不平行。如图1所示的，本实施例中，多边形的激光增益结构10包括5个掺杂区域12。并且5个掺杂区域中的任何两个都不平行。本实施例中，各个掺杂区域12相对位置分布为环形形状分布，使得激光增益结构10存在环形的光线传播路径，能够使入射光经过入射面131依次在各个掺杂区域12发生反射并获得增益，并在出射面132输出。

进一步的，掺杂区域12位于入射面131和出射面132的光线传播路径之间，掺杂区域12掺杂有至少一种激活离子121。激活离子121包括Yb离子、Nd离子以及Er离子等，在实际应用中，根据具体情况进行掺杂相关的离子。

本实施例中，掺杂区域12的厚度介于30微米至3毫米之间。不同掺杂区域12中的激活离子121的掺杂浓度能够单独调节，用以实现均匀增益或均匀生热。例如不同掺杂区域12掺杂的Yb离子，其中一个掺杂区域12的掺杂浓度为2.5％，另一个掺杂区域12的掺杂浓度为1.0％。具体掺杂浓度可根据需求而设置，在此不作限制。例如，为了保证发热均匀和增益均匀，在厚度相同的情况下，本实施例优选沿图1所示的顺时针方向，掺杂区域12的掺杂浓度依次递增，具体而言，当泵浦光束由入射面131入射进入激光增益结构时，在靠近入射面131的掺杂区域12的掺杂浓度最低，沿着远离入射面131的掺杂区域12的掺杂浓度依次递增。

以上介绍的掺杂浓度的调整优选为不同掺杂区域12的调整。本实施例中，当同一掺杂区域12掺杂的激活离子为两种及以上数量时，可对同一掺杂区域12的不同的激活离子的掺杂量进行单独调节。例如同一个掺杂区域掺杂了Yb离子和Nd离子，则可以根据实际需要对Yb离子的掺杂浓度和Nd离子的掺杂浓度进行单独的调节。

承前所述，本实施例通过将掺杂区域12形成在多边形的增益结构10这个整体结构的侧面11上，使得增益结构紧凑，具有较好的机械性能，一旦掺杂区域12完成制备，则各个掺杂区域的位置关系固定，方便入射光束的准直调整。另一方面增益区域可以设置在多个侧面上，从而提高了其掺杂面积，也增加了散热面积，具有较高的储能，能够实现高质量、高能量的光束输出，适用于各种材料的激光器技术研究，应用领域包括先进制造、激光医疗、激光通信以及激光雷达等领域。

本实施例中，在制造工艺上，首先制造一个无掺杂基质的多边形结构，该多边形结构包括n个侧面，并且n个侧面形成环状的形状。无掺杂基质的材料包括但不局限于石榴石类、镁橄榄石类、蓝宝石、绿宝石、钒酸盐、钨酸盐、氟化物、硅酸盐玻璃、铝酸盐玻璃以及玻璃陶瓷材料的一种。其中，石榴石类材料包括Y₃Al₅O₁₂(YAG)、Lu₃Al₅O₁₂(LuAG)、Y₃Ga₅O₁₂(YGG)、Gd₃Ga₅O₁₂(GGG)、Gd₃Sc₂GA₃O₁₂(GSGG)、Y₃Sc₂Ga₃O₁₂(YSGG)、Gd₃Sc₂Al₃O₁₂(GSAG)、Y₃Sc₂Al₃O₁₂(YSAG)、Gd₃In₂Ga₃O₁₂(GIGG)以及CaY₂Mg₃Ge₃O₁₂(CYMGG)。镁橄榄石类材料包括Mg₂SiO₄(MSO)、Gd₂SiO₄(GSO)以及Y₂SiO₄(YSO)。蓝宝石材料包括Al₂O₃，绿宝石材料包括BeAl₂O₄以及CaAl₂O₄。钒酸盐材料包括YVO₄(YVO)以及GdVO₄(GVO)。钨酸盐材料包括KGd(WO₄)₂(KGW)。氟化物材料包括LiYF₄(YLF)、LiCaAlF₆(LiCAF)以及LiSrAlF₆(LiSAF)。硅酸盐玻璃材料包括Ca₂Al₂SiO₇(CAS)以及Ca₂Ga₂SiO₇(CGS)，铝酸盐玻璃材料包括AlSiO₄。

然后将激活离子131设置在一个基板上，基板再通过键合、胶合或者透明陶瓷直接烧结制备的方式制备到激光增益结构10的侧面11上。即设置在侧面11的无掺杂基质上。其中，未设置掺杂区域12的位置即为非掺杂区域13。

本实施例中，无掺杂基质可以作为光学介质，传输光束，因此在光束从非掺杂区域13进入掺杂区域12后，光束在掺杂区域12中获得增益并且发生全内反射。

请参阅图2，图2是本发明实施例提供的另一种多边形的激光增益结构的结构示意图。如图2所示，本实施例的多边形的激光增益结构20依然包括多个掺杂区域22和非掺杂区域23，其中，掺杂区域22和非掺杂区域23分别与图1所示的掺杂区域12和非掺杂区域13相同，在此不再赘述。

本实施例的多边形的激光增益结构20与图1所示的多变形的激光增益结构10的不同之处在于：本实施例的多边形的激光增益结构20在两个掺杂区域22之间进一步掺杂ASE抑制离子222，用于对掺杂区域的ASE噪声进行抑制。例如，ASE(amplifier spontaneous semission noise，放大器自发辐射噪声)抑制离子222设置在相邻的两个侧面21的连接处。其中，ASE抑制离子222的浓度和/或掺杂区域的数量均可根据实际情况单独调整，在此不作限制。

在工艺上，ASE抑制离子222的掺杂方式可以与前文所述的激活离子121的掺杂方式相同，在此不再赘述。

请参阅图3，图3是本发明实施例提供的又一种多边形的激光增益结构的结构示意图。如图3所示，本实施例的多边形的激光增益结构30依然包括多个掺杂区域32和非掺杂区域33，其中，掺杂区域32和非掺杂区域33分别与图1所示的掺杂区域12和非掺杂区域13相同，在此不再赘述。

本实施例的多边形的激光增益结构30与图1所示的多变形的激光增益结构10的不同之处在于：本实施例的多边形的激光增益结构30在非掺杂区域32中设置通孔34，用于设置冷却装置、泵浦光的耦合装置或ASE抑制装置。以方便冷却、彭浦以及ASE抑制。本实施例中，通孔34仅为一个，在其他实施例中，还可以根据需要设置多个通孔，例如设置三个通孔34，用于分别设置冷却装置、泵浦光的耦合装置以及ASE抑制装置，从而实现多功能的激光增益结构。

本实施例中，通孔34还可以设置其他的装置，在此不作限制。

值得注意的是，本发明还可以将图2和图3所示的多边形的激光增益结构进行结合，形成在图1所示的多变形的激光增益结构10的基础上，既掺杂有ASE抑制离子又设置有通孔的多边形激光增益结构，以实现多种功能。

以上介绍的是六边形的激光增益结构，其中，激光增益结构的边数还可以为其他。请参阅图4，图4为八边形的激光增益结构40，其具有8个侧面41。其中八边形的激光增益结构40的设置原理与前文所述的6变形的激光增益结构10-30的设置原理相同，在此不再赘述。

本发明实施例还基于前文所述的多边形的激光增益结构分别提供了激光振荡器和激光放大器。具体请分别参阅图5-图10所示。

首先请参阅图5，图5是本发明实施例提供的一种激光振荡器的结构示意图。如图5所示，本发明实施例的激光振荡器50包括激光谐振腔51、激光增益结构52、泵浦光源53以及泵浦光耦合系统54。

其中，激光谐振腔51具有全反射镜511及输出反射镜512。

激光增益结构52设置在全反射镜511及输出反射镜512之间，其中，激光增益结构52为前文所述的多边形的激光增益结构10-40，在此不再赘述。

泵浦光源53用于向激光增益结构52提供泵浦光束。

泵浦光耦合系统54用于将泵浦光束引导至激光增益结构52中。

本实施例中，泵浦光耦合系统54和全反射镜511优选为同一元件结构。具体而言，根据激光增益结构52中的掺杂区域中掺杂的离子来设置全反射镜511的膜层，使得其可对泵浦光束透射，并且对激光光束反射。例如，激光增益结构52中的掺杂区域掺杂的离子为Nd离子时，其可以通过808nm波长的泵浦光束泵浦，可以用于放大1064nm波长的激光光束，则全反射镜511上设置1064nm高反膜和808nm高透膜，使得其可以作为反射镜对入射的激光光束进行反射，并且可以作为泵浦光耦合系统54对泵浦光束进行透射，并引导泵浦光束到激光增益结构52中。当激光增益结构52中的掺杂区域掺杂的离子为Yb离子时，其可以通过940nm波长的泵浦光束泵浦，用于放大1030nm波长的激光光束，则全反射镜511上设置1030nm高反膜和940nm高透膜，使得其可以作为反射镜对入射的激光光束进行反射，并且可以作为泵浦光耦合系统54对泵浦光束进行透射，并引导泵浦光束到激光增益结构52中。

应理解，在激光增益结构52中的掺杂区域中掺杂的离子为其他离子时，全反射镜511上设置的膜层对应改变，只要其能作为泵浦光耦合系统54对泵浦光束透射，并且作为全反射镜对激光光束反射即可，具体设置本实施例不作限制。

图5所示的是单端泵浦结构的激光振荡器，本发明还提供了双端泵浦结构的激光振荡器，具体如图6所示。

如图6所示，本发明实施例的激光振荡器60包括激光谐振腔61、激光增益结构62、泵浦光源63以及泵浦光耦合系统64。

其中，激光谐振腔61具有全反射镜611及输出反射镜612。

激光增益结构62设置在全反射镜611及输出反射镜612之间，其中，激光增益结构62为前文所述的多边形的激光增益结构10-40，在此不再赘述。

泵浦光源63用于向激光增益结构62提供泵浦光束。其中泵浦光源63为两个，提供两条泵浦光束。

泵浦光耦合系统64用于将泵浦光束引导至激光增益结构62中。本实施例中，泵浦光耦合系统64为两个，一个与全反射镜611为同一元件结构，其与前文所述泵浦光耦合系统54相同，在此不再赘述。另一个泵浦光耦合系统64为单独的元件结构，在其上设置了能够对泵浦光束透射，并且对激光光束反射的膜层。具体而言，根据激光增益结构62中的掺杂区域中掺杂的离子来设置该泵浦光耦合系统64。例如，激光增益结构62中的掺杂区域掺杂的离子为Nd离子时，其可以通过808nm波长的泵浦光束泵浦，可以用于放大1064nm波长的激光光束，则泵浦光耦合系统64上设置1064nm高反膜和808nm高透膜，并且1064nm高反膜和808nm高透膜优选为45度，使得其可以作为反射镜对激光光束进行45度反射，并且可以作为泵浦光耦合系统64对入射的泵浦光束进行透射，并引导泵浦光束到激光增益结构62中。

值得注意的是，同一种激活离子可能可以对多种泵浦光进行泵浦，并且可以输出多种波长的激光。

请再参阅图7，图7为本发明实施例提供的又一种激光振荡器结构示意图。本实施例的激光振荡器90具体为侧面直接泵浦冷却结构。具体而言，图7所示的激光振荡器90包括5个泵浦光源91，泵浦光由泵浦光源91发出后，通过通水冷却层92，直接照射在激光增益结构93的掺杂区域中。其中，本实施例中，泵浦光源91的整形结构和通水冷却层92的泵浦光透过区域可以起到引导泵浦光进入激光增益结构93中，因此其可以作为泵浦耦合结构。

激光振荡器90还包括激光谐振腔94，激光谐振腔94具有全反射镜941及输出反射镜942。

激光增益结构93设置在全反射镜941及输出反射镜942之间，其中，激光增益结构93为前文所述的多边形的激光增益结构10-40，在此不再赘述。

请再参阅图8，图8为本发明实施例提供的又一种激光振荡器结构示意图。本实施例的激光振荡器100依然为侧面泵浦结构。本实施例的激光振荡器100与图7所示的激光振荡器90的区别在于：本实施例的泵浦光源101置于非掺杂区域120的通孔130内。由此使得本实施例的激光振荡器100结构紧凑，安装校准方便。其中，本实施例的作为引导泵浦光束的泵浦耦合结构可以认为是激光增益结构102中间的通孔130。

本发明实施例还提供了一种激光放大器，具体如图9和图10所示。首先如图9所示，图9所示的激光放大器70包括激光增益结构71、激光源72、激光光束耦合系统73、泵浦光源74以及泵浦光源耦合系统75。

其中，激光增益结构71为前文所述的多边形的激光增益结构10-40，在此不再赘述。

激光源72用于提供被放大的激光光束。

激光光束耦合系统73用于将激光光束引导入及引导出激光增益结构71中。

泵浦光源74用于向激光增益结构提供泵浦光束。其中，泵浦光源74为两个。

泵浦光源耦合系统75用于将泵浦光束引导至激光增益结构71中。

本实施例中，激光光束耦合系统73与泵浦光源耦合系统75为同一元件结构，其与前文所述的全反射镜511和泵浦光耦合系统54的关系相同，在此不再赘述。

请参阅图10，图10所示的激光放大器80包括激光增益结构81、激光源82、激光光束耦合系统83、泵浦光源84以及泵浦光源耦合系统85。

其中，激光增益结构81为前文所述的多边形的激光增益结构10-40，在此不再赘述。

激光源82用于提供被放大的激光光束。

激光光束耦合系统83用于将激光光束引导入及引导出激光增益结构81中。

泵浦光源84用于向激光增益结构81提供泵浦光束。其中，泵浦光源84为两个。

泵浦光源耦合系统85用于将泵浦光束引导至激光增益结构中。

本实施例中，激光光束耦合系统83与泵浦光源耦合系统85为同一元件结构。其包括45度的反射镜831以及偏振片832。其中，偏振片832置于45度的反射镜831之前。由此，泵浦光束不会通过偏振片832。另外，偏振片832的优选角度一般不为45度。本实施例中反射镜831上设置有对泵浦光束透射的高透膜以及对激光光束反射的高反膜。具体设置原理与前文所述的全反射镜511和泵浦光耦合系统54的相同，在此不再赘述。偏振片832对激光光束进行偏振光选择，使得经过偏振片832的激光光束具有偏振状态。

本实施例中，还进一步包括1/4波片86以及全反射镜87。其中1/4波片86对激光光束进行偏振状态的改变，本实施例的激光光束经过1/4波片86后被全反射镜87反射，进而第二次经过1/4波片86。经过两次1/4波片86后的激光光束，其偏振状态改变了，优选为改变了90度。因此，在通过激光增益结构81放大后第二次到达偏振片832时，其无法通过偏振片832，而是被偏振片832反射出去。

综上所述，本发明通过将掺杂区域12形成在多边形的增益结构10这个整体结构的侧面11上，使得增益结构紧凑，具有较好的机械性能，一旦掺杂区域12完成制备，则各个掺杂区域的位置关系固定，方便入射光束的准直调整。另一方面增益区域可以设置在多个侧面上，从而提高了其掺杂面积，也增加了散热面积，具有较高的储能，能够实现高质量、高能量的光束输出，适用于各种材料的激光器技术研究，应用领域包括先进制造、激光医疗、激光通信以及激光雷达等领域。

以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。